Nieuw jaar, nieuwe baan? Bekijk de aanbiedingen! meer ...
MT-Messtechnik Buchta Piepenbrock HJM
cleanroom online
Duits Engels Frans Hongaars Pools Tsjechisch Italiaans Spaans Nederlands

Alle publicaties van IMEC Belgium

Imec levert pionierswerk bij de productie van vaste-stof nanogaten op waferschaal (300 mm) met EUV-lithografie, zoals op de foto te zien is. © imec / Imec pioniert met volledige waferschaalproductie (300 mm) van vaste-stof nanogaten met EUV-lithografie, zoals op de foto te zien is. © imec Dwarsdoorsnede en bovenaanzicht TEM van de vervaardigde vaste-staat nanopore, Dwarsdoorsnede en bovenaanzicht TEM van de vervaardigde vaste-staat nanopore,
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Doorbraak maakt schaalbare, uiterst nauwkeurige biosensorische toepassingen mogelijk in de biowetenschappen en de medische technologie

Imec demonstreert voor het eerst met EUV-lithografie de productie van halfgeleider-nanobuizen op waferformaat

1. Imec heeft de eerste succesvolle fabricage van halfgeleider-nanokieren op wafernauwkeurigheid met behulp van EUV-lithografie op 300mm-wafers gerealiseerd. Deze innovatie transformeert de nanokiertechnologie van een concept op laboratoriumschaal naar een schaalbare platform voor biosensoriek, geno…
De cleanroom van Imec vormt de basis voor de PDK's van NanoIC, gebaseerd op 2 nm processtromen. / Imec’s cleanroom biedt de basis voor de PDK’s van NanoIC, gebaseerd op 2 nm procesflows.
  • ‌
  • Workshop / Cursus

Uitgebreide update van de Pathfinding N2 P-PDK van NanoIC stelt onderzoekers en ontwikkelaars in staat om vertrouwd te raken met volledige SoC-architecturen en innovaties te stimuleren.

NanoIC breidt zijn baanbrekende N2-PDK uit met geavanceerde SRAM-geheugemacro's

Deze week kondigt de NanoIC-Pilotlinie, een door imec gecoördineerde Europese initiatief om innovaties op het gebied van chiptechnologieën voorbij de 2 nm te versnellen, de publicatie aan van de N2 P-PDK v1.0 op SEMICON Europe, een belangrijke update van hun N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK…
Links: huidige CEO, Luc Van den hove, Rechts: CEO van imec vanaf 1 april 2026, Patrick Vandenameele. / Links: huidige CEO, Luc Van den hove, Rechts: imec-CEO vanaf 1 april 2026, Patrick Vandenameele. CEO van imec vanaf 1 april 2026, Patrick Vandenameele.
  • ‌
  • Bedrijf

Imec waarborgt naadloze opvolging en strategische continuïteit

Leiderschapswisseling bij imec: Luc Van den hove wordt voorzitter, Patrick Vandenameele volgt op als CEO van imec

De Raad van Bestuur van imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, heeft Patrick Vandenameele benoemd tot de volgende Chief Executive Officer. Met ingang van 1 april 2026 zal hij de opvolger worden van de huidige CEO Luc Van de…
Vertegenwoordigers van de twaalf consortiumleden verzamelden zich in het Internationale Iberische Nanotechnologielaboratorium in Braga, Portugal.
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Het consortium stelt Europese start-ups, kleine en middelgrote ondernemingen en onderzoeksorganisaties in de halfgeleiderproductie in staat toegang te krijgen tot ontwerpinfrastructuur, trainingen en kapitaal.

Imec coördineert EU Chip Design Platform

In het kader van de European Chips Act is een consortium van 12 Europese partners onder leiding van imec geselecteerd om het EU-Chips-Design Platform te ontwikkelen. Het door Chips JU (European Joint Undertaking for Semiconductor Research and Innovation) gefinancierde platform zal fabless start-ups…
Afbeelding 1 – Top-down SEM-beelden van meanders (links) en vorken (rechts) met een afstand van 20 nm na patroonoverdracht in een TiN-hardmasker. / Figure 1 - Top-down SEM pictures of 20nm pitch meanders (left) and forks (right) after pattern transfer into TiN hard mask. Figuur 2 – TEM-beeld van gemetalliseerde draden met een afstand van 20 nm na een chemisch-mechanisch polijstproces (CMP).
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Eerste elektrische tests met een pitch van 20 nm vormen een verdere mijlpaal in de validatie van het High NA Extreme Ultraviolet (EUV) Patterning Ecosysteem

Imec onderzoekt de elektrische prestaties van metalen geleiders met een pitch van 20 nm, die zijn vervaardigd met High NA EUV Single Patterning

Deze week presenteert imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, op de SPIE Advanced Lithography + Patterning de eerste resultaten van de elektrische test (e-test), die werden behaald met metalen geleidingsstructuren met een pi…
Een 300 mm siliciumwafer met duizenden GaAs-apparaten, met een close-up van meerdere chips en een scanning elektronenmicroscoopopname van een GaAs-nano-ridge-array na epitaxie. Een 300 mm siliciumwafer met duizenden GaAs-apparaten, met een close-up van meerdere chips en een scanning elektronenmicroscoopopname van een GaAs-nano-ridge-array na epitaxie.
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Imec boekt doorbraak in siliciumfotonica en effent daarmee de weg voor kosteneffectieve en krachtige optische componenten.

Eerste volledige productie van elektrisch aangedreven GaAs-gebaseerde Nano-Ridge-lasers op 300-mm siliciumwafers op waferformaat

Imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, heeft een belangrijke mijlpaal bereikt in de siliciumfotonica met de succesvolle demonstratie van elektrisch aangedreven GaAs-gebaseerde multi-quantum-well nanoridge lasers, die volled…
Figuur 1 – Conceptuele weergave van (a) een eentraps CFET en (b) een tweetraps CFET. De lay-out van een flip-flop (D-flip-flop of DFF) toont een vermindering van de celhoogte en -oppervlakte met 24 nm (of 12,5%) bij de overgang van een eentraps naar een tweetraps CFET (H. Kuekner et al., IEDM 2024). Figuur 2 – Virtuele processtroom voor het opbouwen van een dubbele rij CFET-architectuur. De met 3D Coventor gesimuleerde processtroom ging uit van de specificaties van een ‘virtuele’ CFET-fabriek, en projecteert toekomstige verwerkingsmogelijkheden en ontwerpruimtes (H. Kuekner et al., IEDM 2024). De uitsnede toont een TEM van een monolithisch CFET-technologiedemonstrator, vervaardigd in de 300-mm R&D-cleanroomfaciliteit van imec (A. Vandooren et al., IEDM 2024).
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Nieuwe standaardcelarchitectuur biedt de optimale compromis tussen oppervlakgebruik en procescomplexiteit voor logica en SRAM

Imec zet in op tweerijige CFET-technologie voor de A7-technologieknoop

Imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, presenteert op de 2024 IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) een nieuwe CFET-gebaseerde standaardcellenarchitectuur, bestaande uit twee rijen CFETs met een daartussen lige…
Si spin-qubits, vervaardigd met geavanceerde 300-mm-integratietechnieken. / Si spin-qubits manufactured with state-of-the-art 300mm integration flows.
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

De resultaten bevestigen de volwassenheid van Qubit-processen op 300-mm-wafers, die de grootschalige productie van quantumcomputers mogelijk maken.

Imec bereikt het laagste ladingsruis voor Si-MOS-quantumpunten, vervaardigd op een 300-mm-CMOS-platform

Imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, kondigde vandaag de succesvolle demonstratie aan van een hoogwaardige 300-mm op Si gebaseerde quantumdot-spin-qubit verwerking met componenten die leiden tot een statistisch significan…
Een blik in de NIEUWSBRIEF

Beter geïnformeerd: Met het JAARBOEK, de NIEUWSBRIEF, NEWSFLASH, NEWSEXTRA en de EXPERTENGIDS

Blijf op de hoogte en abonneer u op onze maandelijkse e-mail NIEUWSBRIEF en NEWSFLASH en NEWSEXTRA. Krijg meer informatie over de reinruimtewereld met ons gedrukte JAARBOEK. En ontdek wie de experts op het gebied van reinruimtes zijn in onze gids.

Becker Pfennig Reinigungstechnik GmbH Hydroflex Vaisala