Nieuw jaar, nieuwe baan? Bekijk de aanbiedingen! meer ...
Pfennig Reinigungstechnik GmbH MT-Messtechnik PMS Piepenbrock
cleanroom online
Duits Engels Frans Hongaars Pools Tsjechisch Italiaans Spaans Nederlands

Alle publicaties van IMEC Belgium

3D-weergave van de A14-apparaatstructuur met de vier gestapelde nanobladen, de lokale bedrading en het metalen contact aan de achterzijde. / 3D-representatie van de A14-apparaatstructuur met de 4 gestapelde nanosheets, de lokale bedrading en het metalen contact aan de achterkant. Een 4x4 IGZO-2T0C-celarray, waarbij de lees/schrijftransistoren (RTX/WTX) zich op de bovenste/onderste laag bevinden en over de bijbehorende verbindingen beschikken. / Een 4x4 IGZO 2T0C-celarray waarbij de lees/schrijftransistoren (RTX/WTX) zich op de bovenste/onderste niveaus bevinden met de bijbehorende verbindingen.
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

De introductie van de nieuwe A14- en Embedded-DRAM-procesontwerpkits (PDK's) versnelt het onderzoek en de innovatie op het gebied van logica- en geheugen-schaalvergroting.

NanoIC voltooit zijn PDK-portfolio met zijn eerste A14-logica- en eDRAM-geheugen-PDK

Op 02 februari 2026 kondigde de NanoIC-Prototyplijn, een door imec gecoördineerde Europese initiatief voor het versnellen van innovaties op het gebied van chiptechnologieën met structuren kleiner dan 2 nm, de publicatie aan van twee nieuwe Process Design Kits (PDK's): een A14-Pathfinding-PDK voor ge…
Foto van het Veeco 300-mm-oxidatiesysteem voor hybride-MBE BTO op silicium-epitaxie. / Photos of the Veeco 300mm oxide system for hybrid-MBE BTO on Silicon epitaxy. Doorsnede van een TEM-opname van de BaTiO3/SrTiO3/Si(001)-heterostructuur met uitsnedevergrotingen door middel van hoogresolutie-microscopie en rasterkrachtmicroscopie. / Cross-sectionele transmissie-elektronenmicroscoopafbeelding van de BaTiO3/SrTiO3/Si(001)-heterostructuur met micrografie en rasterkrachtmicrografie in de uitsnede.
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Unieke oplossing voor de epitaxie van bariumtitanaat op silicium voor het versnellen van datacom- en quantumcomputing-toepassingen

Veeco en imec ontwikkelen een 300-mm compatibel proces om de integratie van Bariumtitaan in siliciumfotonica mogelijk te maken

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) en imec kondigden aan dat ze gezamenlijk een 300-mm-proces hebben ontwikkeld dat geschikt is voor massaproductie en de integratie van Bariumtitanaat (BaTiO3 of BTO) op een silicium-Photonica-platform mogelijk maakt. BTO is een veelbelovend materiaal met unieke e…
De cleanroom van Imec vormt de basis voor de PDK's van NanoIC, die gebaseerd zijn op 2-nm processtromen. (Afbeelding: Imec) / Imec’s cleanroom biedt de basis voor de PDK’s van NanoIC, gebaseerd op 2 nm processtromen. (Foto: Imec)
  • ‌
  • Workshop / Cursus

Uitgebreide update van de Pathfinding N2 P-PDK van NanoIC stelt onderzoekers en ontwikkelaars in staat om vertrouwd te raken met volledige SoC-architecturen en innovaties te stimuleren.

NanoIC breidt zijn baanbrekende N2-PDK uit met geavanceerde SRAM-geheugemakros

NanoIC-Pilotlinie, een door imec gecoördineerde Europese initiatief ter versnelling van innovaties op het gebied van chiptechnologieën boven 2 nm, kondigde de publicatie aan van de N2 P-PDK v1.0, een belangrijke update van haar N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK). Deze versie bevat meerdere ni…
Abbildung 1 – (links) Übertragungskurven von 2D-pFET-Bauelementen mit defektpassivierten, synthetisch hergestellten WSe<sub>2</sub>-Schichten, wobei das beste Bauelement I<sub>max</sub> = 690 µA/µm aufweist; (rechts) TEM-Querschnitt des fertigen 2D-pFET mit doppeltem Gate (L<sub>ch</sub> = Kanallänge; TG = Top-Gate; BG = Back-Gate; S = Source; D = Drain; IL = Interlayer), in Zusammenarbeit mit TSMC. / Abbildung 1 – (Links) Übertragungskurven von 2D-pFET-Bauelementen mit defektpassivierten, synthetisch hergestellten WSe<sub>2</sub>-Schichten, wobei das beste Bauelement I<sub>max</sub> = 690 µA/µm zeigt; (Rechts) TEM-Querschnitt des fertigen dual-gate 2D-pFET (L<sub>ch</sub> = Kanallänge; TG = Top-Gate; BG = Back-Gate; S = Source; D = Drain; IL = Interlayer), in Zusammenarbeit mit TSMC. Figuur 2 – (a) Droog etsen in SiO2; (b) droog- en natetsen, die selectief stoppen op de monolaag WS2-kanaal, waarbij ook de AlOx-interlaag lateraal wordt verwijderd over de volledige kanaallengte (in samenwerking met Intel).
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

De samenwerking met toonaangevende halfgeleiderfabrikanten is essentieel voor het optimaliseren van de cruciale modules voor de integratie van 2D-materialen in apparaten

Imec ontwikkelt de op 2D-materialen gebaseerde bouwsteen-technologie verder om de roadmap voor de toekomstige logicatechnologie te ondersteunen

– In samenwerking met toonaangevende halfgeleiderfabrikanten heeft imec zich beziggehouden met de belangrijkste uitdagingen bij de verdere ontwikkeling van de 2D-circuittechnologie, die wordt beschouwd als een lange termijnoptie voor het uitbreiden van de roadmap van logische technologieën.
– De same…
Imec levert pionierswerk bij de productie van vaste-stof nanogaten op waferschaal (300 mm) met EUV-lithografie, zoals op de foto te zien is. © imec / Imec pioniert met volledige waferschaalproductie (300 mm) van vaste-stof nanogaten met EUV-lithografie, zoals op de foto te zien is. © imec Dwarsdoorsnede en bovenaanzicht TEM van de vervaardigde vaste-staat nanopore, Dwarsdoorsnede en bovenaanzicht TEM van de vervaardigde vaste-staat nanopore,
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Doorbraak maakt schaalbare, uiterst nauwkeurige biosensorische toepassingen mogelijk in de biowetenschappen en de medische technologie

Imec demonstreert voor het eerst met EUV-lithografie de productie van halfgeleider-nanobuizen op waferformaat

1. Imec heeft de eerste succesvolle fabricage van halfgeleider-nanokieren op wafernauwkeurigheid met behulp van EUV-lithografie op 300mm-wafers gerealiseerd. Deze innovatie transformeert de nanokiertechnologie van een concept op laboratoriumschaal naar een schaalbare platform voor biosensoriek, geno…
De cleanroom van Imec vormt de basis voor de PDK's van NanoIC, gebaseerd op 2 nm processtromen. / Imec’s cleanroom biedt de basis voor de PDK’s van NanoIC, gebaseerd op 2 nm procesflows.
  • ‌
  • Workshop / Cursus

Uitgebreide update van de Pathfinding N2 P-PDK van NanoIC stelt onderzoekers en ontwikkelaars in staat om vertrouwd te raken met volledige SoC-architecturen en innovaties te stimuleren.

NanoIC breidt zijn baanbrekende N2-PDK uit met geavanceerde SRAM-geheugemacro's

Deze week kondigt de NanoIC-Pilotlinie, een door imec gecoördineerde Europese initiatief om innovaties op het gebied van chiptechnologieën voorbij de 2 nm te versnellen, de publicatie aan van de N2 P-PDK v1.0 op SEMICON Europe, een belangrijke update van hun N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK…
Links: huidige CEO, Luc Van den hove, Rechts: CEO van imec vanaf 1 april 2026, Patrick Vandenameele. / Links: huidige CEO, Luc Van den hove, Rechts: imec-CEO vanaf 1 april 2026, Patrick Vandenameele. CEO van imec vanaf 1 april 2026, Patrick Vandenameele.
  • ‌
  • Bedrijf

Imec waarborgt naadloze opvolging en strategische continuïteit

Leiderschapswisseling bij imec: Luc Van den hove wordt voorzitter, Patrick Vandenameele volgt op als CEO van imec

De Raad van Bestuur van imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, heeft Patrick Vandenameele benoemd tot de volgende Chief Executive Officer. Met ingang van 1 april 2026 zal hij de opvolger worden van de huidige CEO Luc Van de…
Vertegenwoordigers van de twaalf consortiumleden verzamelden zich in het Internationale Iberische Nanotechnologielaboratorium in Braga, Portugal.
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Het consortium stelt Europese start-ups, kleine en middelgrote ondernemingen en onderzoeksorganisaties in de halfgeleiderproductie in staat toegang te krijgen tot ontwerpinfrastructuur, trainingen en kapitaal.

Imec coördineert EU Chip Design Platform

In het kader van de European Chips Act is een consortium van 12 Europese partners onder leiding van imec geselecteerd om het EU-Chips-Design Platform te ontwikkelen. Het door Chips JU (European Joint Undertaking for Semiconductor Research and Innovation) gefinancierde platform zal fabless start-ups…
Afbeelding 1 – Top-down SEM-beelden van meanders (links) en vorken (rechts) met een afstand van 20 nm na patroonoverdracht in een TiN-hardmasker. / Figure 1 - Top-down SEM pictures of 20nm pitch meanders (left) and forks (right) after pattern transfer into TiN hard mask. Figuur 2 – TEM-beeld van gemetalliseerde draden met een afstand van 20 nm na een chemisch-mechanisch polijstproces (CMP).
  • ‌
  • Elektronica (wafer, halfgeleider, microchips,...)

Eerste elektrische tests met een pitch van 20 nm vormen een verdere mijlpaal in de validatie van het High NA Extreme Ultraviolet (EUV) Patterning Ecosysteem

Imec onderzoekt de elektrische prestaties van metalen geleiders met een pitch van 20 nm, die zijn vervaardigd met High NA EUV Single Patterning

Deze week presenteert imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor nano-elektronica en digitale technologieën, op de SPIE Advanced Lithography + Patterning de eerste resultaten van de elektrische test (e-test), die werden behaald met metalen geleidingsstructuren met een pi…
Een blik in de NIEUWSBRIEF

Beter geïnformeerd: Met het JAARBOEK, de NIEUWSBRIEF, NEWSFLASH, NEWSEXTRA en de EXPERTENGIDS

Blijf op de hoogte en abonneer u op onze maandelijkse e-mail NIEUWSBRIEF en NEWSFLASH en NEWSEXTRA. Krijg meer informatie over de reinruimtewereld met ons gedrukte JAARBOEK. En ontdek wie de experts op het gebied van reinruimtes zijn in onze gids.

HJM Vaisala Berner International GmbH Becker