Plateaux tournants plats pour la manipulation de wafers

Les tables tournantes Steinmeyer plates permettent une manipulation de wafers efficace, économique et en même temps très peu encombrante. (Image : Steinmeyer Gruppe)

Le groupe Steinmeyer est reconnu comme un spécialiste en conception, développement et fabrication de solutions de positionnement sophistiquées pour la fabrication de wafers et de puces. Un exemple en sont les plateaux tournants des gammes DT200 et DT310. Ces systèmes de rotation de haute précision sont plats, adaptés aux salles blanches, sans entretien, personnalisables selon les besoins et permettent une manipulation efficace, économique et très compacte des wafers.

Les plateaux tournants ou tables rotatives peuvent positionner avec précision des échantillons et des composants à un angle défini. Pour cela, ils sont équipés, selon l'application, d'un système d'entraînement et de mesure optimal. Dans les environnements de salles blanches de l'industrie des semi-conducteurs, d'autres exigences s'ajoutent, notamment en termes de faible émission de particules, de résistance aux radiations, de compacité et d'absence de maintenance. Les plateaux tournants des gammes DT200 et DT310 de Steinmeyer répondent à ces exigences à 100 % et constituent une solution idéale pour la manipulation de wafers jusqu'à une taille de 8" / 200 mm (DT200) ou 12" / 300 mm (DT310).

Excellentes valeurs de précision avec un encombrement minimal

Caractéristique par sa conception compacte (DT200 = 40 mm, DT310 = 60 mm). Cela réduit considérablement l'espace nécessaire pour les développeurs de systèmes. La rotation de haute précision avec des pas jusqu'à ± 0,004° garantit un alignement précis des wafers et assure une qualité optimale avec un taux de rebuts minimal. La grande ouverture (diamètre de 66 à 100 mm) offre suffisamment d'espace pour l'intégration de la rotation continue, de la mesure par transmission lumineuse et de la mesure d'épaisseur de couche.

Les plateaux tournants peuvent accueillir des échantillons, y compris leur support, pesant de 6 à 12 kg, et sont équipés d’un moteur DC standard. En option, un moteur pas à pas ou un servo AC avec encodeur moteur et différentes configurations de systèmes de mesure sont disponibles, par exemple un système de mesure angulaire optique haute résolution pour une mesure de position précise. La commande s’effectue via des interfaces personnalisées (DLL, API), un contrôleur de mouvement prêt à l’emploi avec logiciel d’exemple ou l’intégration dans des architectures PLC ou environnements ACS.

Plateaux tournants adaptés aux salles blanches avec une excellente flexibilité d’adaptation

Grâce à leur intégration complète, ces systèmes se distinguent par une faible émission de particules et conviennent parfaitement pour une utilisation en salle blanche (versions jusqu’à la classe ISO 5, option jusqu’à la classe ISO 1 sur demande). Les systèmes fonctionnent sans entretien en continu 24/7 et peuvent être facilement intégrés dans des installations existantes grâce à des adaptateurs, couvercles et accessoires personnalisés. L’interface de la pince peut également être modifiée et adaptée aux exigences spécifiques de l’application, par exemple via un modèle de trou personnalisé, une surface de support avec une parallélité accrue, une rotation continue intégrée ou par l’utilisation d’une interface à changement rapide.

En termes de qualité de surface et de résistance aux radiations, aucune restriction n’est à prévoir. Qu’il s’agisse d’un nettoyage anodisé, d’aluminium poli, de Bilatal ou de nickel pour une compatibilité optimale avec les processus (par exemple, des niveaux de pureté très élevés, résistance à la corrosion lors du nettoyage avec des produits chimiques dans le domaine des sciences de la vie), ou encore UV, DUV ou EUV (rayons X, gamma sur demande) : les plateaux tournants Steinmeyer des gammes DT200 et DT310 sont parfaitement équipés pour répondre à toutes les exigences et conditions environnementales.