Új év, új munka? Nézze meg az ajánlatokat! Több ...
C-Tec Becker Vaisala MT-Messtechnik

reinraum online


  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)
  • MI-vel fordítva

Több fenntarthatóság a félvezetőgyártásban

Fraunhofer ENAS a partnere az új európai projektben, a „HaloFreeEtch”-ben, amely innovatív halogénmentes etetési folyamatok kutatásával foglalkozik

© Ines Escherich / Fraunhofer ENAS
© Ines Escherich / Fraunhofer ENAS

A Fraunhofer ENAS része az új, 2024. szeptemberében indult „HaloFreeEtch” („Új megközelítések halogénmentes és fenntartható szilícium- és üvegmaratásban”) nevű projektnek. A Chemnitz Műszaki Egyetem által koordinált projekt 48 hónapig tart, és az Európai Unió összesen 3.997.735 € támogatásban részesíti. Hat nemzetközi partnerrel együtt a Fraunhofer ENAS a jövő félvezetőgyártását fogja fejleszteni innovatív és intelligens maratási eljárásokkal a következő szintre.

A „HaloFreeEtch” projekt célja, hogy forradalmasítsa a félvezetőgyártó ipart új, fenntartható, halogénmentes maratási eljárások kifejlesztésével szilícium és szilícium-oxid esetében. A hagyományos ipari plazmamarást halogének alapozzák, amelyek jelentős környezeti és egészségügyi kockázatokat rejtenek. Ezek fenntarthatóbb alternatívákra való cseréjével csökkenteni kívánják a CO2-lábnyomot, ezáltal javítva a félvezetőgyártás fenntarthatóságát.

Mivel a félvezetőipar a technológiai innovációk központjában áll, a fenntartható gyártási eljárások kifejlesztése döntő fontosságú a környezet és az iparág jövője szempontjából. A „HaloFreeEtch” projekt célja, hogy Európát a zöld átmenet élére állítsa, és hozzájáruljon a globális erőfeszítésekhez a környezeti terhelés csökkentése és a fenntartható gyakorlatok előmozdítása érdekében.

A Fraunhofer ENAS kulcsszerepet tölt be a „HaloFreeEtch” keretében, és a Chemnitz Műszaki Egyetem Mikro- és Nanotechnológiai Központját (ZfM) fogja támogatni projektvezetőként szakértelmével, különösen az olyan maratási folyamatok fejlesztésében és optimalizálásában, amelyek lehetővé teszik különböző anyagok precíz struktúrálását. Az intézet különösen az új, környezetbarát eljárások kifejlesztésére fog összpontosítani, amelyek megfelelnek a modern félvezetőgyártás teljesítménykövetelményeinek. Vízzel és innovatív katalizátorokkal helyettesítik a hagyományos halogénalapú eljárásokat, amelyek jelentős környezeti és egészségügyi kockázatokat rejtenek. Ezzel a Fraunhofer ENAS értékes hozzájárulást nyújt az iparág ökológiai lábnyomának jelentős csökkentéséhez.

„Kutatásaink hozzájárulnak ahhoz, hogy Európában újradefiniáljuk a félvezetőtechnológiát, és egy fenntarthatóbb jövő felé vezessük az iparágat” – mondja Dr. Karla Hiller, a Fraunhofer ENAS projektvezetője. „Büszkék vagyunk arra, hogy részt vehetünk ebben az áttörő projektben, és várjuk, hogy elősegítsük a halogénmentes maratási eljárások fejlesztését.”

A „HaloFreeEtch” projektről

A projekt, amely vezető európai kutató- és ipari partnereket hoz össze, 48 hónapig tart. Az eredmények nemcsak a félvezetőgyártást fogják forradalmasítani, hanem új alkalmazásokat is lehetővé tesznek olyan területeken, mint a mikroszenzorika és a fotonika.


Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
09126 Chemnitz
Németország


Jobban tájékozott: ÉVKÖNYV, HÍRLEVÉL, NEWSFLASH, NEWSEXTRA és SZAKÉRTŐI JEGYZÉK

Maradjon naprakész, és iratkozzon fel havi e-mail hírlevelünkre, valamint a NEWSFLASH-ra és a NEWSEXTRA-ra. Emellett nyomtatott ÉVKÖNYVÜNKBŐL is tájékozódhat arról, mi történik a tisztaterek világában. És jegyzékünkből megtudhatja, kik a tisztatér SZAKÉRTŐI.

Pfennig Reinigungstechnik GmbH Piepenbrock Buchta HJM