Più sostenibilità nella produzione di semiconduttori

© Ines Escherich / Fraunhofer ENAS

Il Fraunhofer ENAS fa parte del nuovo progetto »HaloFreeEtch« (»Nuovi approcci per l'incisione di silicio e vetro senza halogeni e sostenibile«), avviato a settembre 2024. Il progetto, coordinato dall'Università Tecnica di Chemnitz, ha una durata di 48 mesi ed è finanziato dall'Unione Europea con un totale di 3.997.735 €.

Insieme a sei partner internazionali, il Fraunhofer ENAS contribuirà a portare la produzione di semiconduttori del futuro a un livello superiore attraverso processi di incisione innovativi e intelligenti.

Il progetto »HaloFreeEtch« mira a rivoluzionare l'industria della produzione di semiconduttori sviluppando nuovi processi di incisione sostenibili e privi di halogeni per silicio e biossido di silicio. I tradizionali processi industriali di plasma ad incidenza si basano su halogeni, che comportano rischi significativi per l'ambiente e la salute. Sostituendoli con alternative più sostenibili, si intende ridurre l'impronta di CO2 e migliorare la sostenibilità della produzione di semiconduttori.

Poiché l'industria dei semiconduttori è al centro delle innovazioni tecnologiche, lo sviluppo di metodi di produzione sostenibili è di fondamentale importanza per l'ambiente e per il futuro del settore. Il progetto »HaloFreeEtch« mira a portare l'Europa in prima linea in questa transizione verde, contribuendo agli sforzi globali per ridurre l'impatto ambientale e promuovere pratiche sostenibili.

Il Fraunhofer ENAS svolgerà un ruolo chiave nel progetto »HaloFreeEtch«, supportando il Centro di Micro e Nanotecnologie (ZfM) dell'Università Tecnica di Chemnitz come capofila, grazie alla sua comprovata esperienza nello sviluppo e nell'ottimizzazione di processi di incisione che consentono una strutturazione precisa di materiali diversi. L'istituto si concentrerà in particolare sullo sviluppo di nuovi metodi che siano non solo ecocompatibili, ma anche in grado di soddisfare le esigenze di prestazioni della moderna produzione di semiconduttori. Attraverso l'uso di idrogeno e catalizzatori innovativi, si mira a sostituire i tradizionali processi basati su halogeni, che comportano rischi ambientali e per la salute significativi. In questo modo, il Fraunhofer ENAS contribuirà in modo significativo a ridurre l'impronta ecologica del settore.

«La nostra ricerca contribuirà a ridefinire la tecnologia dei semiconduttori in Europa e a guidare l'industria verso un futuro più sostenibile», afferma la Dr.ssa Karla Hiller, responsabile del progetto presso il Fraunhofer ENAS. «Siamo orgogliosi di far parte di questo progetto rivoluzionario e non vediamo l'ora di promuovere lo sviluppo di processi di incisione privi di halogeni.»

Informazioni sul progetto »HaloFreeEtch«

Il progetto, che riunisce i principali partner europei della ricerca e dell'industria, ha una durata di 48 mesi. I risultati non solo rivoluzioneranno la produzione di semiconduttori, ma consentiranno anche nuove applicazioni in settori come la microelettronica e la fotonica.