Meer duurzaamheid in de halfgeleiderproductie

© Ines Escherich / Fraunhofer ENAS

Das Fraunhofer ENAS is onderdeel van het nieuwe project »HaloFreeEtch« dat in september 2024 van start gaat (»Nieuwe benaderingen voor halogenvrije en duurzame etsmethoden voor silicium en glas«). Het door de Technische Universiteit Chemnitz gecoördineerde project heeft een looptijd van 48 maanden en wordt door de Europese Unie met in totaal €3.997.735 gefinancierd. Samen met zes internationale partners zal het Fraunhofer ENAS de productie van toekomstige halfgeleiders naar een hoger niveau tillen door middel van innovatieve en slimme etsmethoden.

Het project »HaloFreeEtch« heeft als doel de halfgeleiderfabricage-industrie te revolutioneren door de ontwikkeling van nieuwe, duurzame, halogenvrije etsmethoden voor silicium en siliciumdioxide. Traditionele industriële plasmametodes voor etsen zijn gebaseerd op halogenen, die aanzienlijke milieuproblemen en gezondheidsrisico's met zich meebrengen. Door deze te vervangen door duurzamere alternatieven, wordt de CO2-voetafdruk verminderd en wordt de duurzaamheid van de halfgeleiderproductie verbeterd.

Aangezien de halfgeleiderindustrie centraal staat in technologische innovaties, is de ontwikkeling van duurzame fabricagemethoden van cruciaal belang voor het milieu en de toekomst van de sector. Het project »HaloFreeEtch« moet Europa aan de top brengen van deze groene transitie en zo bijdragen aan wereldwijde inspanningen om milieubelasting te verminderen en duurzame praktijken te bevorderen.

Het Fraunhofer ENAS speelt binnen het kader van »HaloFreeEtch« een sleutelrol en zal het Centrum voor Micro- en Nanotechnologieën (ZfM) van de Technische Universiteit Chemnitz ondersteunen als projectleider met zijn uitgebreide expertise in de ontwikkeling en optimalisatie van etsmethoden die een nauwkeurige structurering van diverse materialen mogelijk maken. Het instituut zal zich daarbij vooral richten op de ontwikkeling van nieuwe methoden die niet alleen milieuvriendelijk zijn, maar ook voldoen aan de prestatie-eisen van de moderne halfgeleiderfabricage. Door gebruik te maken van waterstof en innovatieve katalysatoren moeten conventionele halogeen gebaseerde methoden, die aanzienlijke milieuproblemen en gezondheidsrisico's met zich meebrengen, worden vervangen. Hiermee levert het Fraunhofer ENAS een waardevolle bijdrage aan het aanzienlijk verminderen van de ecologische voetafdruk van de sector.

»Ons onderzoek zal bijdragen aan het herdefiniëren van de halfgeleidertechnologie in Europa en de industrie naar een duurzamere toekomst leiden«, zegt Dr. Karla Hiller, projectleider bij het Fraunhofer ENAS. »We zijn er trots op deel uit te maken van dit baanbrekende project en kijken ernaar uit om de ontwikkeling van halogenvrije etsmethoden te stimuleren.«

Over het project »HaloFreeEtch«

Het project, dat toonaangevende Europese onderzoeks- en industriële partners samenbrengt, heeft een looptijd van 48 maanden. De resultaten moeten niet alleen de halfgeleiderproductie revolutioneren, maar ook nieuwe toepassingen mogelijk maken op gebieden zoals microsensoriek en fotonica.