Más sostenibilidad en la fabricación de semiconductores

© Inés Escherich / Fraunhofer ENAS

El Fraunhofer ENAS forma parte del nuevo proyecto «HaloFreeEtch» («Nue enfoques para el grabado de silicio y vidrio sin halógenos y sostenibles»), que comenzó en septiembre de 2024. El proyecto, coordinado por la Universidad Técnica de Chemnitz, tiene una duración de 48 meses y cuenta con una financiación total de 3.997.735 € por parte de la Unión Europea. Junto con seis socios internacionales, el Fraunhofer ENAS llevará la producción de futuros semiconductores a un nivel superior mediante procesos de grabado innovadores e inteligentes.

El proyecto «HaloFreeEtch» tiene como objetivo revolucionar la industria de fabricación de semiconductores mediante el desarrollo de nuevos procesos de grabado sostenibles y sin halógenos para silicio y óxido de silicio. Los procesos industriales tradicionales de grabado por plasma se basan en halógenos, que representan riesgos considerables para el medio ambiente y la salud. Al reemplazarlos por alternativas más sostenibles, se busca reducir la huella de carbono y mejorar la sostenibilidad de la fabricación de semiconductores.

Dado que la industria de semiconductores está en el centro de innovaciones tecnológicas, el desarrollo de procesos de fabricación sostenibles es crucial para el medio ambiente y el futuro del sector. El proyecto «HaloFreeEtch» pretende situar a Europa a la vanguardia de este cambio ecológico y contribuir a los esfuerzos globales por reducir las cargas ambientales y promover prácticas sostenibles.

El Fraunhofer ENAS desempeñará un papel clave en el marco de «HaloFreeEtch» y apoyará al Centro de Micro y Nanotecnologías (ZfM) de la Universidad Técnica de Chemnitz como líder del proyecto, aportando su experiencia en el desarrollo y optimización de procesos de grabado que permiten una estructuración precisa de diversos materiales. La institución se centrará especialmente en el desarrollo de nuevos procedimientos que no solo sean respetuosos con el medio ambiente, sino que también cumplan con los requisitos de rendimiento de la fabricación moderna de semiconductores. Mediante el uso de hidrógeno y catalizadores innovadores, se reemplazarán los procesos tradicionales basados en halógenos, que representan riesgos significativos para el medio ambiente y la salud. De este modo, el Fraunhofer ENAS contribuirá de manera valiosa a reducir considerablemente la huella ecológica del sector.

«Nuestra investigación contribuirá a redefinir la tecnología de semiconductores en Europa y a llevar a la industria hacia un futuro más sostenible», afirma la Dra. Karla Hiller, directora del proyecto en el Fraunhofer ENAS. «Estamos orgullosos de ser parte de este proyecto innovador y esperamos impulsar el desarrollo de procesos de grabado sin halógenos.»

Sobre el proyecto «HaloFreeEtch»

El proyecto, que reúne a los principales socios de investigación e industria europeos, tiene una duración de 48 meses. Los resultados no solo revolucionarán la fabricación de semiconductores, sino que también permitirán nuevas aplicaciones en áreas como la microsensórica y la fotónica.