Új év, új munka? Nézze meg az ajánlatokat! Több ...
PMS MT-Messtechnik Piepenbrock HJM
reinraum online
Német Angol Francia Magyar Lengyel Cseh Olasz Spanyol Holland

A rovat összes publikációja Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

Gyártás magas színvonalú mikroelektronikából. (Kép forrása: Microdul) EnviroFALK vízkezelés. (Kép forrása: EnviroFALK) Gyártás magas színvonalú mikroelektronikának. (Kép forrása: EnviroFALK)
  • ‌
  • Újraindított médiumok (víz, gáz, ...)

Személyre szabott vízkezelés a legmagasabb minőségi szabványoknak megfelelően a mikroelektronikában

Tisztaság biztosítja a pontosságot

A magas színvonalú mikroelektronika gyártásához elengedhetetlen a kezelt víz. Csak a legmagasabb tisztasági szabványok biztosítják az integrált áramkörök és a miniatürizált elektronikai modulok minőségét. Minden tisztítási lépésben a folyamatosan magas vízminőség kulcsszer…
Az Imec tisztaszobája adja a NanoIC PDK-jainak alapját, amelyek 2 nm-es folyamatlépésekre épülnek. (Kép: Imec) / Az Imec tisztaszobája biztosítja a NanoIC PDK-jainak alapját, amelyek 2 nm-es folyamatlépésekre épülnek. (Fotó: Imec)
  • ‌
  • Workshop / tanfolyam

Alapos frissítés a NanoIC Pathfinding N2 P-PDK-jából lehetővé teszi a kutatók és fejlesztők számára, hogy megismerkedjenek a teljes SoC-architektúrákkal és előmozdítsák az innovációkat.

A NanoIC bővíti áttörő N2-PDK-ját fejlett SRAM-tároló makrókkal

NanoIC-Pilotlinie, az imec által koordinált európai kezdeményezés a 2 nm-től elérhető chip-technológiák innovációjának felgyorsítására, bejelentette a N2 P-PDK v1.0 kiadását, amely fontos frissítés a N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK) számára. Ez a verzió több új funk…
Ábra 1 - (balra) Átvitel görbék 2D-pFET eszközöknél, amelyek hibamentesített, szintetikusan előállított WSe2 rétegeket tartalmaznak, a legjobb eszköz Imax = 690µA/µm értéket mutat; (jobbra) TEM keresztmetszet a kész, kettős kapus 2D-pFET-ről (Lch=csatorna hossza; TG=felső kapu; BG=hátsó kapu; S=forrás; D=kimenet; IL=rétegek közötti tér), együttműködésben a TSMC-vel. Ábra 2 - (a) Száraz maratás SiO2-ben; (b) száraz és nedves maratás, amely szelektíven megáll a WS2-monolayer csatornán, és a teljes csatornavonal mentén eltávolítja az AlOx közbenső réteget (az Intel-lel együttműködve). / Ábra 2 – (a) Mélyedés száraz marása SiO2-ben; (b) száraz és nedves maratás, amely szelektíven megáll a WS2-monolayer csatornán, és az AlOx közbenső réteget oldalirányban eltávolítja a teljes csatornavonal mentén (az Intel-lel együttműködve).
  • ‌
  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

Az együttműködés vezető félvezetőgyártókkal döntő fontosságú a 2D anyagok eszközökbe történő integrációjához szükséges kulcsfontosságú modulok optimalizálásában

Imec továbbfejleszti a 2D anyagokon alapuló építőelemek technológiáját, hogy támogassa a jövőbeli logikai technológia útitervét

– Az imec vezető félvezetőgyártókkal együttműködve foglalkozott a 2D-s alkatrészek technológia fejlesztésének legfontosabb kihívásaival, amelyek hosszú távú lehetőségként szerepelnek a logikai technológia útitervének bővítésében.
– Az együttműködés a TSMC-vel rekordteljesítményű WSe2-alapú pFET-ekhez vezetett (max Imax akár 690 µA/µm…
Az imec úttörő munkát végez a szilárdtest-nanopórusok gyártásában a lapkán (300 mm-es méretben) EUV-litográfiával, ahogy a képen is látható. © imec / Az imec az első, aki teljes lapka-méretű (300 mm-es) szilárdtest-nanopórokat gyárt EUV-litográfiával, ahogy a képen is látható. © imec Vágási és felülnézeti TEM a gyártott szilárdtest nanocsatornáról. Vágási és felülnézeti TEM a gyártott szilárdtest nanoporon,
  • ‌
  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

Áttörés lehetővé teszi skálázható, rendkívül pontos bioszenzoros alkalmazásokat a biotudományokban és az orvostechnikában

Imec bemutatja először az EUV-litográfia segítségével az félvezető-nanorképződések gyártását a lapméretben

1. Az Imec elérte az első sikeres gyártását félvezető nanoporoknak a wafer méretben EUV-litográfia segítségével 300 mm-es wafereken. Ez az innováció a nanopor-technológiát egy laboratóriumi koncepcióból egy skálázható platformmá alakítja bioszenzorok, genomika és proteomika számára.
2. A nanoporokat döntő fejlődésként ün…
Lézerfejlesztés a TRUMPF-nál (Kép forrása: TRUMPF) / Lézerfejlesztés a TRUMPF-nál (Fotó: TRUMPF)
  • ‌
  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

Fejlesztés kvantumalgoritmusokon // Közös projekt a TRUMPF, a Fraunhofer Lasertechnikai Intézet ILT és a FU Berlin részéről // Hatékonyságnövelés a lézertechnológiában

Kutatási projekt: A TRUMPF kvantumszámítógépekkel szeretné javítani lézerberendezéseit

A csúcstechnológiai vállalat TRUMPF, a Fraunhofer Lézertechnika Intézete ILT és a Dahlem Komplex Kvantumrendszerek Központ a Berlini Szabad Egyetem Fizikai Tanszékén kvantumalgoritmusok segítségével kutatják a lézerfizika alapjait. A hosszú távú cél az, hogy a kvantumszámítógép…
A Steinmeyer Mechatronik MP220-4-je kompakt, gazdaságos és precíz alternatíva a hexapod rendszerekhez – ideális az aktív igazítási folyamatokhoz a félvezető- és optikai gyártásban. (Kép: Steinmeyer Csoport)
  • ‌
  • Elektronika (wafer, félvezető, mikrochipek,...)

Innovatív pozícionáló rendszer a kombinált XY- és Tip/Tilt mozgásokhoz

Magas pontosságú aktív igazítási megoldás optikai és félvezető alkalmazásokhoz

Az MP220-4 rendszerrel a Steinmeyer Mechatronik, a Steinmeyer-csoport egyik vállalata, egy rendkívül pontos XYZ Tip-Tilt pozícionáló rendszert kínál optikai és aktív igazítási folyamatokhoz az optika- és félvezetőgyártásban, most már nagyobb terhelésekhez is. A megoldás kiváló…
Az Imec tisztaszobája adja a NanoIC PDK-jainak alapját, amelyek a 2 nm-es gyártási folyamatokra épülnek. / Az Imec tisztaszobája biztosítja a NanoIC PDK-jainak alapját, amelyek 2 nm-es gyártási folyamatokra épülnek.
  • ‌
  • Workshop / tanfolyam

Átfogó frissítés a NanoIC Pathfinding N2 P-PDK-hoz lehetővé teszi a kutatók és fejlesztők számára, hogy megismerkedjenek teljes SoC-architektúrákkal és előmozdítsák az innovációkat.

A NanoIC bővíti áttörő N2-PDK-ját fejlett SRAM-tároló makrókkal

Ebben a héten a NanoIC-Pilotlinie, az imec koordinálta európai kezdeményezés a 2 nm feletti chip-technológiák innovációinak gyorsítására, bejelenti a SEMICON Europe-on a N2 P-PDK v1.0 kiadását, amely egy fontos frissítés a N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK)-jükhöz. Ez az új…
Betekintés a HÍRLEVELEK-be

Jobban tájékozott: ÉVKÖNYV, HÍRLEVÉL, NEWSFLASH, NEWSEXTRA és SZAKÉRTŐI JEGYZÉK

Maradjon naprakész, és iratkozzon fel havi e-mail hírlevelünkre, valamint a NEWSFLASH-ra és a NEWSEXTRA-ra. Emellett nyomtatott ÉVKÖNYVÜNKBŐL is tájékozódhat arról, mi történik a tisztaterek világában. És jegyzékünkből megtudhatja, kik a tisztatér SZAKÉRTŐI.

Systec & Solutions GmbH Pfennig Reinigungstechnik GmbH Vaisala C-Tec