ZEISS investit 60 millions d'euros supplémentaires dans l'agrandissement de l'usine de technologie des semi-conducteurs

Le centre de lithographie-optique le plus moderne au monde doit continuer à se développer : la division Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) de ZEISS prévoit d'élargir ses capacités de production dans la zone industrielle intercommunale d'Oberkochen/Königsbronn.

- Le centre de lithographie-optique le plus moderne au monde à Oberkochen doit être agrandi de 6 000 mètres carrés
- Demande de permis de construire pour l'extension déposée

Le centre de lithographie-optique le plus moderne au monde doit continuer à croître : la division Semiconductor Manufacturing Technology (technologie des semi-conducteurs, SMT) de ZEISS prévoit d'étendre ses capacités de fabrication dans la zone industrielle intercommunale d'Oberkochen/Königsbronn. Une demande de permis de construire correspondante a été déposée auprès du conseil municipal compétent. Il est prévu, en plus de l'agrandissement des surfaces de production existantes, une nouvelle halle pour la prochaine génération d'objectifs de lithographie utilisant la lumière ultraviolette extrême (EUV). Ceux-ci nécessitent des normes de fabrication encore plus élevées et devraient être opérationnels au début de la prochaine décennie pour la production de nouveaux microprocesseurs haute performance.

Dr Hermann Gerlinger, membre du conseil d'administration de Carl Zeiss AG et responsable de la division Semiconductor Manufacturing Technology, déclare : « ZEISS continue de travailler intensément à la réalisation de la lithographie EUV innovante pour la fabrication des microprocesseurs de demain. Les signaux positifs du marché ces derniers mois nous encouragent à investir dès aujourd'hui dans cette technologie d'avenir, au-delà de la génération actuelle. Cela impose des exigences encore plus élevées à notre savoir-faire technologique — et à notre infrastructure. »

Au total, la division Semiconductor Manufacturing Technology de ZEISS investira plus de 60 millions d'euros dans les années à venir pour l'extension prévue du centre de lithographie-optique. Les surfaces de production seront agrandies d'environ 6 000 mètres carrés.

Utilisées dans les scanners de wafers du client néerlandais ASML, les optiques EUV de lithographie permettent la fabrication de microprocesseurs encore plus performants.

La finalisation des nouvelles surfaces de production est prévue pour 2018.