ZEISS investuje dalších 60 milionů eur do rozšíření závodu na polovodičovou technologii

Nejmodernější centrum pro litografickou optiku na světě má dále růst: divize ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (technologie polovodičů, SMT) plánuje rozšířit své výrobní možnosti v průmyslové zóně Oberkochen/Königsbronn.

- Nejmodernější centrum pro litografickou optiku na světě v Oberkochen má být rozšířeno o 6 000 metrů čtverečních
- Podán stavební návrh na rozšíření

Nejmodernější centrum pro litografickou optiku na světě má dále růst: divize Semiconductor Manufacturing Technology (technologie polovodičů, SMT) společnosti ZEISS plánuje rozšířit své výrobní kapacity v průmyslové zóně Oberkochen/Königsbronn. Příslušný stavební návrh byl podán příslušnému obecnímu zastupitelstvu. Kromě rozšíření stávajících výrobních prostor je plánována také nová hala pro příští generaci litografických optik s extrémně ultrafialovým světlem (EUV). Tyto optiky vyžadují ještě vyšší výrobní standardy a měly by být k dispozici na začátku příštího desetiletí pro výrobu nových vysoce výkonných čipů.

Dr. Hermann Gerlinger, člen představenstva společnosti Carl Zeiss AG a vedoucí divize Semiconductor Manufacturing Technology, uvádí: „ZEISS nadále intenzivně pracuje na realizaci inovativní EUV litografie pro výrobu mikroprocesorů zítřka. Pozitivní signály trhu z posledních měsíců nás utvrzují v tom, že již dnes, nad rámec současné generace, pokračujeme v investicích do této budoucí technologie. To klade ještě vyšší nároky na naše technologické know-how – a na naši infrastrukturu.“

Celkově plánuje divize Semiconductor Manufacturing Technology společnosti ZEISS v příštích letech investovat více než 60 milionů eur do plánovaného rozšíření centra pro litografickou optiku. Výrobní prostory budou rozšířeny o přibližně 6 000 metrů čtverečních.

Optiky EUV litografie používané v waferových skenerech nizozemského zákazníka ASML umožňují výrobu ještě výkonnějších mikroprocesorů.

Dokončení nových výrobních prostor je plánováno na rok 2018.