Système de positionnement innovant pour la spectroscopie Raman jusqu'à 12"

Le système de positionnement innovant 2X-Y-Ys(Z) de Steinmeyer est une solution idéale pour le positionnement précis de grandes et lourdes échantillons en spectroscopie Raman. (Image : Groupe Steinmeyer)

Le système de positionnement 2X-Y-Ys(Z) de Steinmeyer Mechatronik est une solution idéale pour le positionnement précis de grandes et lourdes échantillons en spectroscopie Raman. La table de microscope adaptée aux salles blanches, en construction à portique, offre une course de chargement supplémentaire et se distingue par une grande plage de balayage, une capacité de charge élevée ainsi qu’un encombrement minimal. Des adaptations individuelles sont possibles.

La spectroscopie Raman s’est révélée être une méthode non destructive et sans contact pour l’analyse et la caractérisation des matériaux dans l’industrie et la recherche. La qualité et la fiabilité des résultats dépendent entièrement de la performance du système de positionnement, utilisé pour l’alignement et le déplacement des échantillons. Steinmeyer Mechatronik, membre du groupe Steinmeyer, est un spécialiste des concepts de positionnement de haute précision ainsi qu’un partenaire expérimenté de l’industrie des semi-conducteurs, réalisant des solutions hautes performances et sur mesure, répondant de manière optimale aux exigences spécifiques de chaque application.

Système de positionnement 2X-Y-Ys (XYZ) pour l’inspection des wafers

Les tables de microscope classiques disposent généralement d’une plage de balayage maximale de 150 x 150 mm, ce qui est nettement insuffisant pour de nombreuses applications. La solution est apportée par le système de positionnement 2X-Y-Ys(Z) de Steinmeyer. Il permet des déplacements haute résolution en XYZ pour des échantillons jusqu’à 400 x 400 mm, avec une course de chargement supplémentaire et une capacité de charge jusqu’à 40 kg, ce qui le rend idéal pour la mesure Raman de porte-wafers lourds ainsi que de grands wafers jusqu’à 12". La très bonne stabilité, le mouvement fluide et l’isolation contre les vibrations garantissent une mise au point précise de la zone spécifique de l’échantillon. Ainsi, il est possible d’obtenir des informations détaillées et précises au niveau moléculaire.

Conçu pour une utilisation continue dans la fabrication de semi-conducteurs

La construction à portique assure le mouvement XY. Avec une course doublement longue dans l’axe supérieur, un chargement supplémentaire de 400 mm est réalisé – en plus de la course de travail XY de 400 mm. Le déplacement vertical et la mise au point sont possibles grâce à un axe incliné combiné à un mouvement simultané de l’axe Y. La course inclinée fait partie de la course de chargement. En contrôlant simultanément les axes Y et Ys, le mouvement vertical en Z est réalisé. Grâce à la course verticale, différentes épaisseurs d’échantillons peuvent être mesurées. Le système de positionnement est conçu pour un fonctionnement peu exigeant en maintenance, en production 24/7 jusqu’à la classe ISO 4 en salle blanche (plus élevé sur demande), et peut être facilement intégré dans des mécanismes et boîtiers existants. L’optique peut être placée de manière fixe. La transmission est assurée par des vis à billes et des moteurs pas à pas. La connexion à une électronique de contrôle existante se fait via une commande externe et des interfaces DLL ou AVI.

Grande variété d’options pour des adaptations spécifiques au client

En tant que spécialiste des solutions sur mesure, Steinmeyer Mechatronik propose de nombreuses possibilités d’adaptation spécifique à l’application. Parmi celles-ci, on trouve notamment : une règle de mesure linéaire pour une répétabilité de 0,5 µm, un moteur linéaire pour un débit élevé, des axes d’inclinaison pour l’alignement du porte-wafers, une table tournante pour la mesure d’échantillons ronds, une étanchéité à bande, une aspiration, un frein, un porte-échantillons, un boîtier, un concept et une technologie de sécurité (arrêt d’urgence, interrupteur de porte, grille lumineuse, scanner laser, STO, SLS). Bien entendu, une configuration individuelle avec cadre, boîtier ou intégration dans la fab est également possible.

Solution innovante pour l’industrie des semi-conducteurs

Grande plage de balayage et capacité de charge élevée avec un encombrement minimal et un haut degré de flexibilité : le système de positionnement 2X-Y-Ys(Z) de Steinmeyer établit des références en termes de performance, de sécurité et de fiabilité. Il constitue une solution innovante pour l’analyse des composés organiques sur des surfaces ultra pures – que ce soit dans la fabrication et le développement de semi-conducteurs (porte-wafers, wafers, puces), lors de l’étude des surfaces fonctionnelles (appareils lithographiques, steppers, dicing), dans la fabrication d’écrans, le développement de médicaments, la conception d’assemblages ou l’optimisation de principes actifs.