Innowacyjny system pozycjonowania do spektroskopii Ramana do 12"

Niezawodny system pozycjonowania 2X-Y-Ys(Z) firmy Steinmeyer to idealne rozwiązanie do precyzyjnego ustawiania dużych i ciężkich próbek w spektroskopii Ramana. (Obraz: Grupa Steinmeyer)

System pozycjonowania 2X-Y-Ys(Z) firmy Steinmeyer Mechatronik to idealne rozwiązanie do precyzyjnego ustawiania dużych i ciężkich próbek w spektroskopii Ramana. Mikroskopowy stół w konstrukcji gantry, odporny na czystość pomieszczeń, oferuje dodatkowy zakres załadunku i wyróżnia się dużym obszarem skanowania, wysoką nośnością oraz minimalnym zapotrzebowaniem na miejsce. Możliwe są indywidualne dostosowania.

Spektroskopia Ramana sprawdziła się jako metoda bezkontaktowa i nieinwazyjna do analizy i charakteryzacji materiałów w przemyśle i badaniach. Jakość i niezawodność wyników zależą w dużej mierze od wydajności systemu pozycjonowania, który służy do ustawiania i ruchu próbek. Steinmeyer Mechatronik, część grupy Steinmeyer, jest specjalistą w dziedzinie precyzyjnych koncepcji pozycjonowania oraz doświadczonym partnerem przemysłu półprzewodnikowego, realizującym wysokowydajne, dostosowane do potrzeb rozwiązania, które optymalnie odpowiadają wymaganiom aplikacji.

System pozycjonowania 2X-Y-Ys (XYZ) do inspekcji wafli

Klasyczne mikroskopowe stoły zazwyczaj mają zakres skanowania do maksymalnie 150 x 150 mm, co jest niewystarczające dla wielu zastosowań. Rozwiązaniem jest system pozycjonowania 2X-Y-Ys(Z) firmy Steinmeyer. Umożliwia on wysokorozdzielcze ruchy w osiach XYZ dla próbek do 400 x 400 mm z dodatkowymi zakresami załadunku i obciążeniem do 40 kg, co czyni go idealnym do pomiarów Ramana ciężkich chwytów waferowych oraz dużych wafli do 12". Bardzo dobra stabilność, równomierny ruch i izolacja od drgań zapewniają precyzyjne ustawienie konkretnego obszaru próbki. Dzięki temu można uzyskać szczegółowe i dokładne informacje na poziomie molekularnym.

Przeznaczony do ciągłej pracy w przemyśle półprzewodnikowym

Konstrukcja gantry zapewnia ruch w osiach XY. Podwójny zakres podnoszenia w osi górnej – oprócz 400 mm zakresu pracy w XY – umożliwia również załadunek na poziomie dodatkowych 400 mm. Ruch pionowy i ostrość są realizowane przez skośnie ustawioną oś przy jednoczesnym ruchu osi Y. Podnoszenie skośne jest częścią zakresu załadunku. Dzięki jednoczesnemu sterowaniu osiami Y i Ys ruch pionowy w osi Z jest możliwy. Dzięki pionowemu przesuwowi można mierzyć różne grubości próbek. System pozycjonowania jest zaprojektowany do bezawaryjnej pracy w trybie 24/7 w czystości klasy ISO 4 (wyższa na życzenie) i może być łatwo zintegrowany z istniejącą mechaniką i obudowami. Optyka może być umieszczona na stałe. Napęd zapewniają śruby kulowe i silniki krokowe. Podłączenie do istniejącej elektroniki sterującej odbywa się przez zewnętrzne sterowanie oraz interfejs DLL lub AVI.

Szeroka oferta opcji dla indywidualnych dostosowań

Jako specjalista w dziedzinie rozwiązań dostosowanych do potrzeb klienta, Steinmeyer Mechatronik oferuje szeroki wybór możliwości dostosowania do konkretnej aplikacji. Między innymi dostępne są następujące opcje: linijka o powtarzalności 0,5 µm, silnik liniowy do wysokiej przepustowości, osie przechyłu do wyrównania chwytu, stolik obrotowy do pomiaru okrągłych próbek, uszczelnienie taśmy, odciąg, hamulec, uchwyt próbek, obudowa, system i technika bezpieczeństwa (wyłączenie awaryjne, wyłącznik drzwi, bariera świetlna, skaner laserowy, STO, SLS). Oczywiście możliwa jest również indywidualna konfiguracja z ramą, obudową lub integracją z fabryką.

Innowacyjne rozwiązanie dla przemysłu półprzewodnikowego

Duży zakres skanowania i wysokie obciążenie przy minimalnym zapotrzebowaniu na miejsce oraz wysoki poziom elastyczności: system pozycjonowania 2X-Y-Ys(Z) firmy Steinmeyer wyznacza standardy pod względem wydajności, bezpieczeństwa i niezawodności. Jest to innowacyjne rozwiązanie do analizy związków organicznych na wysokiej czystości powierzchniach – zarówno w produkcji i rozwoju półprzewodników (chwyt, wafer, układ scalony), jak i w badaniach powierzchni funkcjonalnych (urządzenia litografii, stepy waferowe, cięcie), w produkcji wyświetlaczy, rozwoju leków, opracowywaniu układów i optymalizacji substancji czynnych.