Innovatives positioneringsysteem voor Raman-spectroscopie tot 12"

Het innovatieve 2X-Y-Ys(Z) positioneringssysteem van Steinmeyer is een ideale oplossing voor het nauwkeurig positioneren van grote en zware monsters in de Raman-spectroscopie. (Afbeelding: Steinmeyer Groep)

Het 2X-Y-Ys(Z) Positioneringsysteem van Steinmeyer Mechatronik is een ideale oplossing voor de nauwkeurige positionering van grote en zware monsters in de Raman-spectroscopie. De cleanroom-geschikte microscooptafel in gantry-bouw biedt een extra laadhoogte en scoort met een groot scanbereik, een hoge draagkracht en minimale ruimtebehoefte. Aangepaste oplossingen zijn mogelijk.

De Raman-spectroscopie heeft zich bewezen als een niet-destructieve, contactloze methode voor de analyse en karakterisering van materialen in industrie en onderzoek. De kwaliteit en betrouwbaarheid van de resultaten hangen sterk af van de prestaties van het positioneringssysteem dat wordt gebruikt voor de uitlijning en beweging van de monsters. Steinmeyer Mechatronik, onderdeel van de Steinmeyer-groep, is gespecialiseerd in uiterst nauwkeurige positioneringsconcepten en is een ervaren partner voor de halfgeleiderindustrie. Het realiseert hoogperformante, op maat gemaakte oplossingen die optimaal voldoen aan de toepassingsspecifieke eisen.

2X-Y-Ys (XYZ) Positioneringsysteem voor de waferinspectie

Traditionele microscooptafels beschikken meestal over scanbereiken van maximaal 150 x 150 mm en zijn daarmee voor veel toepassingen te klein. Uitkomst biedt het 2X-Y-Ys(Z) positioneringsysteem van Steinmeyer. Het maakt hoogresolutiebewegingen in XYZ mogelijk voor monsters tot 400 x 400 mm met een extra laadhoogte en belastingen tot 40 kg, en is daarmee ideaal voor de Raman-metingen van zware wafer-chucks en grote wafers tot 12". De zeer goede stilstand, gelijkmatige loop en trillingsisolatie zorgen voor een exacte focus op het specifieke monstergebied. Zo kunnen gedetailleerde en nauwkeurige informatie op moleculair niveau worden verkregen.

Ontwikkeld voor continu gebruik in de halfgeleiderproductie

De gantry-constructie zorgt voor de XY-beweging. Met een dubbel zo lange hef in de bovenste as wordt – naast de 400 mm werkhoogte in XY – een laadhoogte van nog eens 400 mm gerealiseerd. De verticale beweging en de focus worden mogelijk gemaakt door een schuin geplaatste as, terwijl de Y-as gelijktijdig beweegt. De schuine hef maakt deel uit van de laadhoogte. Door gelijktijdige aansturing van de assen Y en Ys wordt de verticale beweging in Z gerealiseerd. Dankzij de verticale verplaatsing kunnen verschillende monstersdiktes worden gemeten. Het positioneringssysteem is ontworpen voor een onderhoudsarme werking bij 24/7-productie tot reinheidsgraad ISO 4 (hoger op aanvraag) en kan eenvoudig worden geïntegreerd in bestaande mechanieken en behuizingen. De optiek kan stationair worden geplaatst. Voor de aandrijving zorgen kogellagers en stappenmotoren. De aansluiting op een bestaande besturings-elektronica gebeurt via een externe besturing en DLL- of AVI-interfaces.

Breed scala aan opties voor klantgerichte aanpassingen

Als specialist in klantgerichte oplossingen biedt Steinmeyer Mechatronik een breed scala aan mogelijkheden voor toepassingsspecifieke aanpassingen. Onder andere zijn de volgende opties beschikbaar: lineair meetstafje voor 0,5 µm herhaalbaarheid, lineair motor voor hoge doorvoer, kantelassen voor het uitlijnen van de chuck, draaischijf voor het meten van ronde monsters, bandafdichting, afzuiging, rem, monstershouder, behuizing, veiligheidsconcept en -techniek (noodstop, deuropener, lichtgordijn, laserscanner, STO, SLS). Uiteraard is ook een op maat gemaakte opbouw met frame, behuizing of integratie in de fab mogelijk.

Innovatieve oplossing voor de halfgeleiderindustrie

Groot scanbereik en hoge draagkracht bij minimale ruimtebehoefte en een hoge mate van flexibiliteit: Het 2X-Y-Ys(Z) positioneringsysteem van Steinmeyer zet maatstaven op het gebied van prestaties, veiligheid en betrouwbaarheid en is een innovatieve oplossing voor de analyse van organische verbindingen op hoogzuivere oppervlakken – of het nu gaat om de halfgeleiderproductie en -ontwikkeling (chucks, wafers, chips), bij het onderzoeken van functionele oppervlakken (lithografische apparatuur, waferstepper, dicing), bij de productie van displays, bij medicijnontwikkeling, bij de ontwikkeling van assemblages of bij de optimalisatie van werkzame stoffen.