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LITHOSCALE® élimine les consommables liés aux masques grâce à son approche sans masque, tandis que sa source d'exposition laser à état solide réglable est conçue pour une haute redondance et une longue durée de vie, avec pratiquement aucune maintenance ni recalibrage nécessaire. Le système d'exposition sans masque LITHOSCALE® d'EV Group exploite les avantages de la lithographie numérique dans la production à grande volume. / The LITHOSCALE® maskless exposure system from EV Group brings the benefits of digital lithography to high-volume manufacturing.
  • Automatisation

LITHOSCALE® systèmes basés sur la technologie EVGs MLE™ (exposition sans masque) permettent de rendre les avantages de la lithographie numérique accessibles à un large éventail d'applications et de marchés

EV Group introduit la lithographie sans masque avec LITHOSCALE® dans la production en volume élevé

EV Group (EVG), un leader dans le développement et la fabrication d’équipements pour les applications de bonding de wafers et de lithographie dans l’industrie des semi-conducteurs, de la microsystémique et de la nanotechnologie, a présenté aujourd’hui le système d’exposition sans masque LITHOSCALE®…

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