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LITHOSCALE® elimina i materiali di consumo legati alla maschera grazie al suo approccio senza maschera, mentre la sua sorgente di esposizione laser a stato solido regolabile è progettata per un'alta ridondanza e una lunga stabilità nel tempo, con praticamente nessuna manutenzione e nessuna ricalibrazione richiesta. Il sistema di esposizione senza maschera LITHOSCALE® di EV Group rende disponibili i vantaggi della litografia digitale nella produzione ad alto volume.
  • Automazione

LITHOSCALE® sistemi basati sulla tecnologia EVGs MLE™ (Maskless Exposure) rendono i vantaggi della litografia digitale accessibili a un'ampia gamma di applicazioni e mercati

EV Group porta la litografia senza maschera con LITHOSCALE® nella produzione di volume elevato

EV Group (EVG), leader nello sviluppo e nella produzione di sistemi per applicazioni di bonding di wafer e litografia nell'industria dei semiconduttori, microsistemi e nanotecnologia, ha presentato oggi il sistema di esposizione senza maschera LITHOSCALE® - la prima piattaforma di prodotto basata su…

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