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LPW obtient des brevets européens pour la procédure CNp
Nettoyage en profondeur de composants complexes
La fabrication d’écrans plats, de technologies de capteurs, de microprocesseurs ou d’implants médicaux nécessite un environnement de production hautement pur. Cela entraîne également des exigences très strictes en matière de nettoyage industriel des composants. À cet égard, LPW Reinigungssysteme GmbH, notamment avec sa technologie CNp, figure depuis des années parmi les leaders innovants dans le segment de la haute pureté. Aujourd’hui, l’entreprise de Riederich a obtenu deux nouveaux brevets européens pour sa procédure de nettoyage spécialisée.
Déjà en 2015, LPW a acquis plusieurs droits de protection fondamentaux dans des pays hors de l’Europe. Depuis lors, le portefeuille de brevets pour la procédure CNp (Cyclic Nucleation process ou aussi nucléation cyclique) a été continuellement développé et précisé. Cette année, deux nouveaux brevets européens (EP 3717141 B1 et EP 2212906 B1)* ont été ajoutés.
Gerhard Koblenzer, directeur général de LPW : « Notre expertise intersectorielle dans le domaine de la propreté technique, combinée aux expériences acquises lors de la participation à des commissions de normalisation telles que DIN ou dans des projets de développement, ainsi que le CNp en complément, font souvent la différence dans la maîtrise des processus pour les tâches exigeantes de nos clients. »
La procédure est particulièrement performante pour le nettoyage de structures capillaires ainsi que de géométries complexes et repose essentiellement sur ce jeu d’interactions : la courbe de pression de vapeur spécifique à chaque liquide agit, avec les effets de nettoyage connus, la cavitation et le flux volumique asymétrique, directement sur la couche limite laminaire d’un composant. Cela entraîne l’extraction de la contamination ainsi que son introduction dans un prélèvement pour traitement ou analyse. De plus, l’effet de nucléation cyclique peut être renforcé par l’ajout d’un liquide nettoyant (par exemple un détergent).
Les mécanismes efficaces se manifestent sur toute la surface du composant en contact avec le média – même sous la couche limite laminaire ainsi qu’entre le composant et la contamination. Des effets de nettoyage et de rinçage continus sont également générés dans des environnements capillaires, jusqu’à une dizaine de micromètres.
Actuellement, des changements de pression de 5 à 7 secondes sont possibles dans de grandes installations (le volume de la chambre étant actuellement compris entre environ 500 et 3 500 litres) et jusqu’à 1 seconde dans des chambres plus petites. Les nouvelles méthodes, en partie déjà brevetées (Dynamic CNp), sont déjà en cours de mise en œuvre technique et permettront à l’avenir des temps de changement de pression nettement plus courts.
« Le CNp fonctionne simplement et sans problème, mais pose de grands défis en termes de conception technique, de fatigue matérielle des groupes et de composants programmables. Nous avons investi beaucoup de temps et d’argent dans cette technologie au cours des sept dernières années et avons finalement développé une procédure permettant aux utilisateurs d’assurer des processus sûrs et stables dans un environnement productif », explique Gerhard Koblenzer.

LPW Reinigungssysteme GmbH
Industriestraße 19
72585 Riederich
Allemagne
Téléphone: +49 7123 38040
e-mail: info@lpw-cleaning.de
Internet: http://www.lpw-cleaning.de








