- Tisztítás | Eljárások, berendezések, szerek, médiumok (törlők, csereberék,...)
- MI-vel fordítva
LPW európai szabadalmakat kapott a CNp eljárásra
Finom tisztítás összetett alkatrészekhez
A lapos képernyők, érzékelőtechnika, mikrochipek vagy orvosi implantátumok gyártása magas tisztaságú gyártási környezetet igényel. Ennek eredményeként a legmagasabb elvárások vannak az ipari alkatrész- és felületkezelés terén. E tekintetben az LPW Reinigungssysteme GmbH többek között CNp-technológiájával évek óta az innováció vezetői között szerepel a High Purity szegmensben. Most a Riederich-i vállalat két további európai szabadalmat kapott a speciális tisztítási eljárásra.
2015-ben az LPW több alapvető védelmi jogot szerzett a nem európai országokban. Azóta a CNp eljárás (Cyclic Nucleation process vagy ciklikus nukleáció) szabadalmi portfólióját folyamatosan bővítették és pontosították. Idén két új európai szabadalmat (EP 3717141 B1 és EP 2212906 B1)* adtak hozzá.
Gerhard Koblenzer, az LPW ügyvezető igazgatója: „Ágazatokat áthidaló szakértelmünk a műszaki tisztaság területén, párosítva a DIN-szabványbizottságokban vagy fejlesztési projektekben való részvétel tapasztalataival, valamint a CNp-vel, gyakran technológiai különbséget jelent a komplex feladatoknál ügyfeleink számára.”
A folyamat különösen hatékony a kapilláris struktúrák és összetett geometriai formák tisztításában, és lényegében a következő kölcsönhatásra épül: az adott folyadék-specifikus gőznyomás görbe hat a tisztítási hatásokkal, kavitációval és aszimmetrikus térfogatáramlással, közvetlenül a komponens lamináris határfelületén. Ennek eredményeként a szennyeződés kivonódik, és az anyag szennyeződésének eltávolítására vagy elemzési minták előkészítésére kerül sor. Továbbá a ciklikus nukleáció hatása fokozható mosóhatású folyadék (pl. tisztítószer) hozzáadásával.
A hatékony mechanizmusok az egész médiával érintett alkatrész felületén megnyilvánulnak – még a lamináris határfelület alatt és az alkatrész és szennyeződés között is. Emellett kapilláris környezetben folyamatos tisztítási és öblítési hatások érhetők el akár tíz mikrométeres tartományban is.
Jelenleg egyes nyomásváltások 5-7 másodperc között mozognak nagy berendezéseknél (kamra térfogata jelenleg kb. 500-3.500 liter között), és akár 1 másodpercig kisebb kamráknál. Az új, részben már szabadalmaztatott eljárások (Dynamic CNp) már a berendezéstechnikai megvalósításban vannak, és a közeljövőben jelentősen csökkenthetik a nyomásváltási időket.
„A CNp egyszerűen és problémamentesen működik, ugyanakkor nagy kihívásokat jelent a technikai kialakítás, az alkatrészek anyagfáradása és a programozási komponensek terén. Az elmúlt hét évben sok időt és pénzt fektettünk ebbe a technológiába, és végül olyan eljárást fejlesztettünk ki, amely biztonságos és stabil folyamatokat tesz lehetővé a termelési környezetben” – mondta Gerhard Koblenzer.

LPW Reinigungssysteme GmbH
Industriestraße 19
72585 Riederich
Németország
Telefon: +49 7123 38040
E-mail: info@lpw-cleaning.de
Internet: http://www.lpw-cleaning.de








