- Czyszczenie | Metody, urządzenia, środki, media (tkaniny, wymiany,...)
- Przetłumaczone przez AI
LPW otrzymuje europejskie patenty na proces CNp
Precyzyjne czyszczenie skomplikowanych elementów
Produkcja ekranów płaskich, technologii sensorowych, mikroczipów czy implantów medycznych wymaga bardzo czystego środowiska produkcyjnego. W związku z tym stawiane są również najwyższe wymagania dotyczące przemysłowego czyszczenia elementów. W tym zakresie systemy czyszczenia LPW Reinigungssysteme GmbH, m.in. z technologią CNp, od lat należą do liderów innowacji w segmencie wysokiej czystości. Teraz firma z Ried im Innkreis otrzymała dwa kolejne europejskie patenty na specjalistyczną metodę czyszczenia.
Już w 2015 roku LPW objęła ochroną kilka podstawowych praw patentowych za granicą spoza Europy. Od tego czasu portfel patentów dla metody CNp (Cyclic Nucleation process, czyli cykliczna nukleacja) był stopniowo rozbudowywany i precyzowany. W tym roku dodano dwa nowe europejskie patenty (EP 3717141 B1 i EP 2212906 B1)*.
Dyrektor zarządzający LPW, Gerhard Koblenzer: „Nasza ponadbranżowa ekspertyza w zakresie technicznej czystości, połączona z doświadczeniem zdobytym podczas udziału w na przykład komisjach norm DIN czy projektach rozwojowych, a także technologia CNp, często stanowi różnicę procesową przy realizacji wymagających zadań naszych klientów.”
Metoda ta jest szczególnie skuteczna przy czyszczeniu struktur kapilarnych oraz złożonych geometrii i obejmuje zasadniczo następujący cykl działania: krzywa parowania specyficzna dla danej cieczy działa wraz z efektami czyszczenia, kawitacją i asymetrycznym przepływem objętościowym bezpośrednio na laminarną warstwę graniczną elementu. Prowadzi to do usunięcia zanieczyszczeń oraz ich transportu do przygotowania próbki do analizy lub dalszej obróbki. Ponadto efekt cyklicznej nukleacji można wzmocnić przez dodanie środka czyszczącego (np. detergentu).
Skuteczne mechanizmy widoczne są na całej powierzchni elementu, również poniżej laminarnych warstw granicznych oraz pomiędzy elementem a zanieczyszczeniem. W środowiskach kapilarnych można również generować ciągłe efekty czyszczenia i płukania sięgające dwucyfrowych wartości w mikrometrach.
Obecnie możliwe są cykle zmiany ciśnienia od 5 do 7 sekund w dużych urządzeniach (objętość komory od około 500 do 3500 l) oraz do 1 sekundy w mniejszych komorach. Nowe, częściowo już opatentowane metody (Dynamic CNp) są już wdrażane w technice urządzeń i w niedalekiej przyszłości pozwolą na znacznie krótsze czasy zmian ciśnienia.
„CNp działa prosto i bezproblemowo, jednak wiąże się z dużymi wyzwaniami dotyczącymi technicznego projektowania, zużycia materiałów w zespołach oraz komponentów programowych. W ciągu ostatnich siedmiu lat zainwestowaliśmy dużo czasu i pieniędzy w tę technologię i ostatecznie opracowaliśmy metodę, która umożliwia użytkownikom bezpieczne i stabilne procesy w środowisku produkcyjnym,” mówi Gerhard Koblenzer.

LPW Reinigungssysteme GmbH
Industriestraße 19
72585 Riederich
Niemcy
Telefon: +49 7123 38040
e-mail: info@lpw-cleaning.de
Internet: http://www.lpw-cleaning.de








