- Čištění | Postupy, zařízení, prostředky, média (utěrky, výměny,...)
- Přeloženo pomocí AI
LPW získává evropské patenty na postup CNp
Důkladné čištění složitých součástí
Výroba plochých obrazovek, senzorové techniky, mikroprocesorů nebo lékařských implantátů vyžaduje vysoce čisté výrobní prostředí. Z toho vyplývají i nejvyšší nároky na průmyslové čištění součástek. V této souvislosti patří systémové čištění LPW Reinigungssysteme GmbH, mimo jiné s jejich technologií CNp, již léta mezi průkopníky inovací v segmentu vysoké čistoty. Nyní získala společnost z Riedu ještě dvě další evropské patenty na speciální čisticí proces.
Již v roce 2015 převzala LPW několik základních ochranných práv v mimoevropských zemích. Od té doby byla patentová portfolia pro proces CNp (Cyclic Nucleation process nebo také cyklická nukleace) kontinuálně rozšiřována a zpřesňována. Letos byly přidány dva nové evropské patenty (EP 3717141 B1 a EP 2212906 B1)*.
Ředitel LPW Gerhard Koblenzer: „Naše průmyslově nezávislá expertíza v oblasti technické čistoty spolu s zkušenostmi z účasti například v normativních komisích DIN nebo při vývojových projektech a navíc s technologií CNp často představují procesní rozdíl u náročných úkolů našich zákazníků.“
Proces je obzvláště výkonný při čištění kapilárních struktur a složitých geometrických tvarů a v zásadě zahrnuje toto střídání: specifická pára na základě tekutiny působí společně s známými účinky čištění, kavitačními efekty a asymetrickým objemovým prouděním přímo na laminární hranici součástky. To má za následek odstranění kontaminace a její přenos k přípravě nebo analýze vzorku. Navíc lze efekt cyklické nukleace posílit přidáním čisticí kapaliny (například čističe).
Účinné mechanismy se projevují na celé povrchové ploše součástky, která je vystavena médiím – i pod laminární hranicí a mezi součástí a nečistotou. Také v kapilárních prostředích jsou kontinuální čistící a oplachové efekty vytvářeny až do dvouciferných mikrometrických rozměrů.
V současnosti jsou možné jednotlivé změny tlaku trvající 5 až 7 sekund u velkých zařízení (aktuální objem komory mezi cca 500–3 500 l) a až do 1 sekundy u menších komor. Nové, částečně již patentované metody (Dynamic CNp) jsou již implementovány v technickém vybavení zařízení a v blízké budoucnosti umožní výrazně zkrátit dobu změny tlaku.
„CNp působí jednoduše a bez problémů, avšak přináší velké výzvy z hlediska technického návrhu, únava materiálu sestav a programových komponent. V posledních sedmi letech jsme do této technologie investovali hodně času a peněz a nakonec jsme vyvinuli proces, který umožňuje uživatelům bezpečné a stabilní procesy v produktivním prostředí,“ říká Gerhard Koblenzer.

LPW Reinigungssysteme GmbH
Industriestraße 19
72585 Riederich
Německo
Telefon: +49 7123 38040
E-mail: info@lpw-cleaning.de
Internet: http://www.lpw-cleaning.de








