LPW krijgt Europese octrooien voor het CNp-proces

../4 Bijschriften: CNp is een cavitatie-speciale procedure. Het ontplooit zijn reinigingswerking direct op het materiaaloppervlak, ook op verborgen gebieden en bij complexe geometrische vormen.

LPW-installatie in gebruik: De dampbellen tijdens het reinigen met CNp zijn typisch en inmiddels te zien in talrijke industriële bedrijven met uiteenlopende eisen aan hoogwaardige reiniging. Foto's/diagram: LPW

Op de vakbeurs parts2clean presenteerde LPW het nieuwe installatiesysteem „ULTRA“, dat onder andere de technologie van de cyclische nucleatie in serie bevat en geschikt is voor de hoogste eisen in het High Purity-segment.

De productie van flatscreens, sensortechnologie, microchips of medische implantaten vereist een uiterst schone productieomgeving. Hieruit vloeien ook de hoogste eisen voort aan de industriële onderdelenreiniging. In dit opzicht behoort LPW Reinigingssystemen GmbH, onder andere met haar CNp-technologie, al jaren tot de leiders in innovatie binnen het High Purity-segment. Nu heeft het Riedericher bedrijf nog twee aanvullende Europese octrooien ontvangen voor het speciale reinigingsproces.

Al in 2015 nam LPW meerdere fundamentele beschermrechten over in niet-Europese landen. Sindsdien werd het octrooienportfolio voor het CNp-proces (Cyclic Nucleation process of ook wel Cyclische Nukleatie) continu uitgebreid en gespecificeerd. Dit jaar kwamen daar de twee nieuwe Europese octrooien (EP 3717141 B1 en EP 2212906 B1)* bij.

LPW-zaakvoerder Gerhard Koblenzer: „Onze branche-overstijgende expertise op het gebied van Technische Reiniging, gecombineerd met de ervaringswaarden uit betrokkenheid bij bijvoorbeeld DIN-normcommissies of ontwikkelingsprojecten en de CNp-technologie, maakt vaak het verschil in processtechniek bij de veeleisende taken van onze klanten.“

Het proces is bijzonder krachtig bij het reinigen van capillaire structuren en complexe geometrieën en omvat in wezen deze wisselwerking: de respectievelijk vloeistofspecifieke dampdrukcurve werkt samen met de bekende reinigingseffecten, cavitatie en de asymmetrische volumestroom, direct op de laminaire grenslaag van een onderdeel. Dit leidt tot het verwijderen van contaminaties en het transport ervan naar een voorbereiding of analysemonster. Daarnaast kan het effect van de cyclische nukleatie worden versterkt door het toevoegen van een wasactieve vloeistof (bijvoorbeeld een reiniger).

De effectieve mechanismen manifesteren zich op het gehele media-betrokken oppervlak van het onderdeel – ook onder de laminaire grenslaag en tussen het onderdeel en de verontreiniging. Ook worden in capillaire omgevingen continue reinigings- en spoeleffecten tot in de dubbele cijfers μm-bereik gegenereerd.

Momenteel zijn bij grote installaties (met kamervolumes van ongeveer 500-3.500 l) drukwisselingen van 5 tot 7 s mogelijk, en bij kleinere kamers zelfs tot 1 s. De nieuwe, deels al gepatenteerde processen (Dynamic CNp) zijn reeds in de technische implementatie en zullen in de nabije toekomst aanzienlijk kortere drukwisseltijden mogelijk maken.

„CNp werkt eenvoudig en probleemloos, maar brengt grote uitdagingen met zich mee op het gebied van technische afstemming, materiaalvermoeidheid van componenten en programmeertechnische onderdelen. We hebben in de afgelopen zeven jaar veel tijd en geld geïnvesteerd in deze technologie en uiteindelijk een proces ontwikkeld dat gebruikers veilige en stabiele processen onder een productieve omgeving toestaat“, aldus Gerhard Koblenzer.