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Imec et ZEISS renforcent leur collaboration et signent un accord de partenariat stratégique

Imec et ZEISS renforcent leur collaboration. À cette fin, les deux parties ont signé un accord de partenariat stratégique. Avec cet accord signé, les deux partenaires de coopération réaffirment leurs efforts conjoints pour faire progresser les technologies clés de fabrication de semi-conducteurs telles que la lithographie EUV à haute NA.
Imec et ZEISS renforcent leur collaboration. À cette fin, les deux parties ont signé un accord de partenariat stratégique. Avec cet accord signé, les deux partenaires de coopération réaffirment leurs efforts conjoints pour faire progresser les technologies clés de fabrication de semi-conducteurs telles que la lithographie EUV à haute NA.
Imec et ZEISS renforcent leur collaboration. À cette fin, les deux parties ont signé un accord de partenariat stratégique. Avec cet accord signé, les deux partenaires de coopération réaffirment leurs efforts conjoints pour faire progresser les technologies clés de fabrication de semi-conducteurs telles que la lithographie EUV à haute NA.
Imec et ZEISS renforcent leur collaboration. À cette fin, les deux parties ont signé un accord de partenariat stratégique. Avec cet accord signé, les deux partenaires de coopération réaffirment leurs efforts conjoints pour faire progresser les technologies clés de fabrication de semi-conducteurs telles que la lithographie EUV à haute NA.

– La convention de partenariat stratégique signée prolonge le partenariat stratégique existant depuis 2019 entre imec et ZEISS pour dix années supplémentaires jusqu’en 2029.
– Grâce aux investissements dans la ligne pilote d’imec, ZEISS apporte une contribution significative à la recherche et au développement de technologies clés dans le domaine de la microélectronique, renforçant ainsi l’avance technologique de l’Europe, ce qui soutient les objectifs et ambitions de l’Union européenne et du European Chips Act.
– La forte cohésion entre partenaires européens tels qu’imec et ZEISS est essentielle pour la mise en place de la NanoIC-Pilotlinie, l’infrastructure la plus avancée au monde pour la recherche et le développement dans le domaine des semi-conducteurs en dessous de 2 nm.

Imec, un centre mondial de recherche et d’innovation de premier plan dans le domaine de la nanoélectronique et des technologies numériques, et ZEISS Semiconductor Manufacturing Technology (SMT), une entreprise technologique leader dans l’industrie optique et optoélectronique et fournisseur de composants clés pour la fabrication de microprocesseurs, renforcent leur collaboration afin de faire évoluer la NanoIC-Pilotlinie chez imec avec une technologie de semi-conducteurs de pointe et une expertise en fabrication pour la recherche et le développement dans le domaine des moins de 2 nm. À cette fin, les deux parties ont signé un accord de coopération stratégique (SPA).

Partenariat solide pour les technologies de fabrication de semi-conducteurs de demain

L’accord de coopération stratégique signé prolonge le partenariat stratégique existant depuis 2019 entre imec et ZEISS jusqu’en 2029. « Nous sommes très heureux d’intensifier notre collaboration avec imec afin de faire avancer ensemble les technologies de semi-conducteurs de demain grâce au réseau de partenaires solide d’imec », souligne Thomas Stammler, directeur technique et membre de l’équipe de direction de ZEISS SMT. Depuis 1997, imec et la division Semiconductor Manufacturing Technology de ZEISS travaillent sur divers projets communs pour faire progresser la loi de Moore, qui stimule l’amélioration continue des performances des microprocesseurs et des mémoires. « Le savoir-faire et l’expérience technologique de partenaires industriels comme ZEISS sont indispensables pour la recherche et le développement des technologies de semi-conducteurs les plus avancées. Nous sommes donc très heureux de renforcer encore notre partenariat », confirme Luc Van den hove, président et directeur général d’imec.

Avec cet accord, les deux partenaires confirment leur engagement commun à faire progresser des technologies clés de fabrication de semi-conducteurs telles que la lithographie EUV à haute NA. Cette technologie permettra de produire des microprocesseurs encore plus performants et économes en énergie, posant ainsi les bases de technologies clés telles que l’intelligence artificielle, la conduite autonome, l’industrie 4.0, ainsi que des solutions innovantes pour la médecine et la transition énergétique.

La ligne pilote d’Imec en tant que centre de recherche pour l’industrie mondiale des semi-conducteurs

Dans le cadre de l’accord, ZEISS soutient imec non seulement par sa participation à des projets de recherche pour le développement de technologies de fabrication, de processus et de mesure pour la production de semi-conducteurs, mais aussi en fournissant des systèmes optiques de lithographie de différentes générations pour la ligne pilote d’imec, qui constitue une composante essentielle de la collaboration. Ces optiques sont intégrées dans les systèmes de scanners de lithographie du partenaire stratégique ASML.

La ligne pilote d’Imec, désormais étendue par la NanoIC-Pilotlinie et exploitée à Louvain, en Belgique, couvre l’ensemble du processus de valeur ainsi que diverses filières technologiques de fabrication de semi-conducteurs. Elle vise à donner aux acteurs du secteur, tels que les clients finaux, les fournisseurs et les centres de recherche, un accès à des technologies et plateformes de semi-conducteurs innovantes et avancées, leur permettant d’explorer, de développer et de tester des innovations. L’optimisation des appareils, processus et méthodes de mesure existants est également poursuivie afin de permettre la fabrication de microprocesseurs de plus en plus petits, performants et économes en énergie, contribuant ainsi à la numérisation mondiale. La collaboration est renforcée par la participation de ZEISS à divers programmes partenaires industriels tels qu’Advanced Patterning, 3D System Integration et Optical Interconnect sous la direction d’imec. Ces programmes visent à développer conjointement les méthodes de processus et de contrôle les plus récentes pour l’optimisation des processus de la prochaine génération de semi-conducteurs.

Investissements en accord avec le European Chips Act

La collaboration étroite entre imec et ZEISS est conforme aux objectifs et ambitions de l’Union européenne et du European Chips Act, qui visent à renforcer la souveraineté technologique, la compétitivité et la résilience de l’Europe. « Grâce aux investissements dans la ligne pilote d’imec, désormais étendue par la NanoIC-Pilotlinie, ZEISS contribue de manière significative à maintenir la position de leader de l’Europe dans la nouvelle génération d’équipements pour semi-conducteurs et à la renforcer par le développement de feuilles de route technologiques », explique Stammler. La collaboration renforcée entre les deux partenaires est également un signal de l’importance du réseautage intersectoriel pour le marché mondial des semi-conducteurs : « Ce partenariat stratégique entre imec et ZEISS souligne à quel point la cohésion forte des partenaires européens, essentielle pour la mise en place de la NanoIC-Pilotlinie, l’infrastructure la plus avancée au monde pour la recherche et le développement dans le domaine des semi-conducteurs en dessous de 2 nm, accélère l’innovation et renforce la position de l’Europe dans l’écosystème des semi-conducteurs », précise Van den Hove.

L’acquisition et l’exploitation de la ligne pilote NanoIC sont financées conjointement par le Chips Joint Undertaking, à travers le programme Europe numérique (101183266) et Horizon Europe (101183277) de l’Union européenne, ainsi que par les États participants Belgique (Flandre), France, Allemagne, Finlande, Irlande et Roumanie. Pour plus d’informations, visitez www.nanoic-project.eu.



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