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Eau de rinçage pour l'industrie des semi-conducteurs

Hager + Elsässer reçoit un gros contrat en Russie

Le cœur de l'installation UPW est constitué d'une installation d'osmose inverse à étages de perméat. L'installation à trois voies assure une redondance de 3 x 50 %. (Photo : Hager + Elsässer)
Le cœur de l'installation UPW est constitué d'une installation d'osmose inverse à étages de perméat. L'installation à trois voies assure une redondance de 3 x 50 %. (Photo : Hager + Elsässer)

Le spécialiste du traitement de l'eau et des eaux usées Hager + Elsässer a obtenu le contrat pour le développement et la construction d'une installation d'eau ultrapure en Russie. L'installation de traitement de l'eau ultrapure (en anglais : Ultra Pure Water / abrégé UPW) est l'un des plus grands projets réalisés jusqu'à présent pour l'industrie des semi-conducteurs en Russie. L'installation UPW, qui sera construite dans le cadre d'une nouvelle construction pour un fabricant de wafers de haute technologie, doit produire à l'avenir 100 m³ d'eau ultrapure par heure. L'eau est nécessaire pour la fabrication d'environ 15 000 départs de wafers par mois. Hager + Elsässer a convaincu le client avec un concept d'installation qui nécessite beaucoup moins de produits chimiques pour le traitement de l'eau que d'autres technologies. La procédure à plusieurs étapes garantit également l'élimination efficace du bore pour respecter les valeurs de référence recommandées selon la feuille de route ITRS (ITRS = International Technology Roadmap for Semiconductors). La mise en service de l'installation est prévue pour la mi-2014.

La société de semi-conducteurs fabriquera à l'avenir des puces avec une taille de structure comprise entre 65 et 90 nanomètres. Pour les produits de cette taille, les exigences en matière d'eau ultrapure sont particulièrement élevées. En effet : plus la taille des produits à l'échelle nanométrique est petite, plus la pureté de l'eau nécessaire au processus de fabrication doit être élevée. La qualité de l'eau ultrapure a toujours une influence déterminante sur la qualité du produit et l'efficacité du processus de fabrication dans l'industrie des semi-conducteurs.

L'installation de Hager + Elsässer répond aux normes UPW les plus récentes et garantit le respect des spécifications UPW concernant la concentration d'ions dans la plage ppt ainsi que les seuils les plus bas pour les particules et le TOC (carbone organique total).

Grâce à plusieurs étapes de traitement, l'eau est portée à la qualité requise. Pour la prétraitement de l'eau brute, un filtre multi-média et un filtre à charbon actif sont utilisés. Lors de l'étape de processus « Make-up », l'eau prétraitée est débarrassée des particules indésirables, des impuretés organiques et inorganiques, ainsi que des ions, à l'aide d'une combinaison de procédé d'osmose inverse et d'électrodeionisation (EDI). Un « polisseur de bore » spécial est utilisé pour respecter la spécification sur le bore. Enfin, l'eau traitée est purifiée dans une dernière étape de nettoyage, appelée boucle de « Polissage ».

Hager + Elsässer figure parmi les leaders du marché des installations UPW et d'eaux usées pour l'industrie de la microélectronique et des semi-conducteurs en Russie. Dans cette industrie très exigeante en traitement de l'eau, l'entreprise propose des concepts d'installations pour l'ensemble du cycle de l'eau — de la production d'eau ultrapure jusqu'aux systèmes de recyclage, de récupération et d'eaux usées.


H+E GmbH
70565 Stuttgart
Allemagne


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