Applied Materials et Fraunhofer IPMS fondent un centre de technologie pour la mesure des semi-conducteurs

Équipements de métrologie eBeam d'Applied Materials dans la salle blanche du Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / Équipements de métrologie eBeam d'Applied Materials dans la salle blanche du Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS

– Le nouveau centre mettra à disposition des systèmes de métrologie de pointe pour faire progresser la recherche sur les semi-conducteurs et soutenir des projets de développement avec des fabricants de puces et des partenaires du secteur dans toute l'Europe, en particulier dans les segments de marché ICAPS*

– Collaboration pour accélérer le processus d'apprentissage, développer de nouvelles méthodes et tester de nouveaux appareils de mesure, méthodes, algorithmes et logiciels.

Applied Materials, Inc. et l'Institut Fraunhofer pour les Micro-systèmes Photonique IPMS, le principal centre de recherche allemand sur les semi-conducteurs en 300 mm, ont annoncé aujourd'hui une collaboration innovante pour la création de l'un des plus grands centres technologiques pour la métrologie des semi-conducteurs et l'analyse des processus en Europe.

Le centre technologique, qui sera situé au sein du Center Nanoelectronic Technologies (CNT) du Fraunhofer IPMS à Dresde, se trouve au cœur de Silicon Saxony, le plus grand cluster de semi-conducteurs d'Europe. Le centre sera équipé d'instruments de métrologie eBeam de pointe d'Applied Materials, y compris le système VeritySEM® CD-SEM (un microscope électronique à balayage pour les dimensions critiques), et sera supervisé par des ingénieurs et des experts en R&D d'Applied Materials.

« Le Fraunhofer IPMS et ses partenaires bénéficieront de l'accès aux systèmes de métrologie eBeam de pointe d'Applied », déclare le Dr Benjamin Uhlig-Lilienthal, responsable du domaine Next Generation Computing au Fraunhofer IPMS. « Le nouveau hub technologique permettra une métrologie avancée au niveau des wafers dans notre environnement industriel CMOS, avec la capacité unique du Fraunhofer IPMS d'échanger directement des wafers avec les fabricants de semi-conducteurs. »

« Notre hub de métrologie commun accélérera les cycles d'apprentissage et le développement de nouvelles applications pour l'institut Fraunhofer, Applied Materials, ainsi que pour nos clients et partenaires en Europe », a déclaré James Robson, vice-président de Applied Materials Europe. « Ce centre de compétences unique sera capable de tester et de qualifier des processus sur une variété de matériaux de substrats et d'épaisseurs de wafers, essentiels pour les applications dans le paysage diversifié des semi-conducteurs européens. »

La technologie de mesure est essentielle dans la fabrication de microprocesseurs, car elle permet des mesures précises nécessaires pour surveiller et contrôler avec exactitude la qualité des différentes étapes et processus de fabrication des semi-conducteurs. Les fabricants de puces utilisent des appareils de mesure à des points critiques pour valider les propriétés physiques et électriques et garantir le rendement souhaité.

*ICAPS = Internet of Things, Communications, Automobiles, Power and Sensors