Applied Materials i Fraunhofer IPMS zakładają Centrum Technologiczne ds. Pomiarów Półprzewodników

Urządzenia do metrologii eBeam firmy Applied Materials w czystym pomieszczeniu Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / Sprzęt do metrologii eBeam firmy Applied Materials w czystym pomieszczeniu Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS

– Nowe centrum zapewni najnowocześniejsze systemy metrologiczne, aby przyspieszyć badania nad półprzewodnikami i wspierać projekty rozwojowe z producentami układów scalonych i partnerami z branży w całej Europie, szczególnie w segmentach rynku ICAPS*

– Współpraca w celu przyspieszenia procesu uczenia się, rozwoju nowych metod i testowania nowych urządzeń pomiarowych, metod, algorytmów i oprogramowania.

Applied Materials, Inc. oraz Instytut Fraunhofera ds. Mikrosystemów Fotonicznych IPMS, niemieckie wiodące centrum badawcze dla półprzewodników na 300 mm, ogłosiły dzisiaj przełomową współpracę w zakresie utworzenia jednego z największych centrów technologicznych do metrologii półprzewodników i analizy procesów w Europie.

Centrum technologiczne, które będzie zlokalizowane w Centrum Technologii Nanoelektronicznych (CNT) Fraunhofera IPMS we Dreznie, znajduje się w sercu Silicon Saxony, największego klastra półprzewodników w Europie. Centrum zostanie wyposażone w najnowocześniejsze urządzenia metrologiczne eBeam firmy Applied Materials, w tym system VeritySEM® CD-SEM (skaningowy mikroskop elektronowy do krytycznych wymiarów), i będzie obsługiwane przez inżynierów i ekspertów ds. badań i rozwoju z Applied Materials.

„Fraunhofer IPMS i jego partnerzy skorzystają na dostępie do wiodących w branży systemów metrologicznych eBeam firmy Applied”, powiedział dr Benjamin Uhlig-Lilienthal, kierownik działu Next Generation Computing w Fraunhofer IPMS. „Nowe centrum technologiczne umożliwi zaawansowaną metrologię na poziomie wafli w naszej przemysłowej otoczeniu CMOS, z unikalną zdolnością Fraunhofera IPMS do bezpośredniej wymiany wafli z producentami półprzewodników.”

„Nasze wspólne centrum metrologiczne przyspieszy cykle uczenia się i rozwój nowych zastosowań dla instytutu Fraunhofera, Applied Materials oraz naszych klientów i partnerów w Europie”, powiedział James Robson, wiceprezes korporacyjny ds. Europy w Applied Materials. „To unikalne centrum kompetencyjne będzie w stanie testować i kwalifikować procesy na różnych materiałach substratowych i grubościach wafli, które są kluczowe dla różnorodnego przemysłu półprzewodnikowego w Europie.”

Technologia pomiarowa odgrywa kluczową rolę w produkcji mikroczipów, umożliwiając precyzyjne pomiary niezbędne do dokładnego monitorowania i kontrolowania jakości poszczególnych etapów i procesów w produkcji półprzewodników. Producenci układów scalonych używają urządzeń pomiarowych w krytycznych miejscach, aby weryfikować właściwości fizyczne i elektryczne oraz zapewnić oczekiwany poziom wydajności.

*ICAPS = Internet rzeczy, Komunikacja, Motoryzacja, Energia i Czujniki