Applied Materials e Fraunhofer IPMS fondano il centro tecnologico per la misurazione dei semiconduttori

Apparecchiature di metrologia eBeam di Applied Materials nel cleanroom del Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / Apparecchiature di metrologia eBeam di Applied Materials nel cleanroom del Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS

– Il nuovo centro metterà a disposizione sistemi di metrologia all'avanguardia per avanzare nella ricerca sui semiconduttori e supportare progetti di sviluppo con produttori di chip e partner del settore in tutta Europa, in particolare nei segmenti di mercato ICAPS*

– Collaborazione per accelerare il processo di apprendimento, sviluppare nuove metodologie e testare nuovi strumenti di misura, metodi, algoritmi e software.

Applied Materials, Inc. e l'Istituto Fraunhofer per i Sistemi Fotonici IPMS, il principale centro di ricerca tedesco sui semiconduttori a 300 mm, hanno annunciato oggi una collaborazione strategica per la creazione di uno dei più grandi centri tecnologici per la metrologia dei semiconduttori e l'analisi dei processi in Europa.

Il centro tecnologico, che sarà situato presso il Center Nanoelectronic Technologies (CNT) del Fraunhofer IPMS a Dresda, si trova nel cuore di Silicon Saxony, il più grande cluster di semiconduttori in Europa. Il centro sarà dotato di strumenti di metrologia eBeam all'avanguardia di Applied Materials, incluso il sistema VeritySEM® CD-SEM (un microscopio a scansione elettronica per dimensioni critiche), e sarà gestito da ingegneri ed esperti di R&S di Applied Materials.

«Il Fraunhofer IPMS e i suoi partner beneficeranno dell'accesso ai sistemi di metrologia eBeam leader del settore di Applied», ha affermato il Dr. Benjamin Uhlig-Lilienthal, responsabile del settore Next Generation Computing presso il Fraunhofer IPMS. «Il nuovo hub tecnologico consentirà di applicare metrologie avanzate a livello di wafer nel nostro ambiente industriale CMOS, sfruttando la capacità unica del Fraunhofer IPMS di scambiare direttamente wafer con i produttori di semiconduttori.»

«Il nostro hub di metrologia congiunto accelererà i cicli di apprendimento e lo sviluppo di nuove applicazioni per l'Istituto Fraunhofer, Applied Materials e i nostri clienti e partner in Europa», ha dichiarato James Robson, Vice Presidente Corporate di Applied Materials Europe. «Questo centro di competenza unico sarà in grado di testare e qualificare processi su una vasta gamma di materiali di substrato e spessori di wafer, essenziali per le applicazioni nel variegato panorama dei semiconduttori europei.»

La tecnologia di misurazione è fondamentale nella produzione di microchip, poiché permette di effettuare misurazioni precise necessarie per monitorare e controllare con esattezza la qualità di ogni fase e processo nella produzione di semiconduttori. I produttori di chip utilizzano strumenti di misura in punti critici per validare le proprietà fisiche ed elettriche e garantire il rendimento desiderato.

*ICAPS = Internet of Things, Comunicazioni, Automotive, Power e Sensors