Applied Materials en Fraunhofer IPMS richten een technologisch centrum op voor halfgeleider meettechnologie

eBeam-metrologiegereedschappen van Applied Materials in de cleanroom van het Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / eBeam-metrologieapparatuur van Applied Materials in de cleanroom van Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS

– Het nieuwe centrum zal geavanceerde meetsystemen voor metrologie bieden om de halfgeleideronderzoek te bevorderen en ontwikkelingsprojecten met chipfabrikanten en branchepartners in heel Europa te ondersteunen, met name in ICAPS*-marktsegmenten

– Samenwerking om het leerproces te versnellen, nieuwe methoden te ontwikkelen en nieuwe meetapparatuur, methoden, algoritmen en software te testen.

Applied Materials, Inc. en het Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS, Duitsland's toonaangevende onderzoekscentrum voor halfgeleiders op 300 mm, kondigden vandaag een baanbrekende samenwerking aan voor de oprichting van een van de grootste technologische centra voor halfgeleider metrologie en procesanalyse in Europa.

Het technologisch centrum, dat gevestigd zal zijn in het Center Nanoelectronic Technologies (CNT) van het Fraunhofer IPMS in Dresden, ligt in het hart van Silicon Saxony, de grootste halfgeleidercluster van Europa. Het centrum wordt uitgerust met state-of-the-art eBeam-metrologiesystemen van Applied Materials, inclusief het VeritySEM® CD-SEM-systeem (een rasterelektronenmicroscoop voor kritische dimensies), en zal worden beheerd door ingenieurs en R&D-experts van Applied Materials.

»Het Fraunhofer IPMS en zijn partners zullen profiteren van toegang tot de toonaangevende eBeam-metrologiesystemen van Applied«, aldus Dr. Benjamin Uhlig-Lilienthal, hoofd van de business unit Next Generation Computing bij het Fraunhofer IPMS. »De nieuwe technologische hub zal geavanceerde wafer-level metrologie mogelijk maken in onze industriële CMOS-omgeving, met de unieke mogelijkheid van het Fraunhofer IPMS om wafers direct uit te wisselen met halfgeleiderfabrikanten.«

»Onze gezamenlijke metrologiewerkplaats zal de leercycli en de ontwikkeling van nieuwe toepassingen voor het Fraunhofer-instituut, Applied Materials en onze klanten en partners in Europa versnellen«, zei James Robson, Corporate Vice President voor Applied Materials Europe. »Dit unieke competentiecentrum zal in staat zijn om processen te testen en te kwalificeren op een verscheidenheid aan substratematerialen en waferdiktes, die cruciaal zijn voor toepassingen in het diverse Europese halfgeleiderlandschap.«

Metrologie is van essentieel belang bij de productie van microchips, omdat het nauwkeurige metingen mogelijk maakt die nodig zijn om de kwaliteit van de verschillende stappen en processen bij de halfgeleiderproductie nauwkeurig te bewaken en te controleren. Chipfabrikanten gebruiken meetapparatuur op kritieke punten om de fysieke en elektrische eigenschappen te valideren en de gewenste opbrengst te garanderen.

*ICAPS = Internet of Things, Communicatie, Automotive, Power en Sensors