Applied Materials y Fraunhofer IPMS establecen un centro de tecnología para medición de semiconductores

Equipo de metrología eBeam de Applied Materials en la sala limpia del Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / Equipo de metrología eBeam de Applied Materials en la sala limpia del Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS

– El nuevo centro ofrecerá sistemas de metrología de vanguardia para avanzar en la investigación de semiconductores y apoyar proyectos de desarrollo con fabricantes de chips y socios de la industria en toda Europa, especialmente en segmentos de mercado ICAPS*

– Colaboración para acelerar el proceso de aprendizaje, desarrollar nuevos métodos y probar nuevos equipos de medición, métodos, algoritmos y software.

Applied Materials, Inc. y el Instituto Fraunhofer para Sistemas Fotónicos (IPMS), el principal centro de investigación de Alemania en semiconductores de 300 mm, anunciaron hoy una colaboración pionera para la creación de uno de los centros tecnológicos más grandes para la metrología de semiconductores y análisis de procesos en Europa.

El centro tecnológico, que estará ubicado en el Centro de Tecnologías Nanoelectrónicas (CNT) del Fraunhofer IPMS en Dresde, se encuentra en el corazón de Silicon Saxony, el mayor clúster de semiconductores de Europa. El centro estará equipado con sistemas de metrología eBeam de última generación de Applied Materials, incluido el sistema VeritySEM® CD-SEM (un microscopio de electrones de barrido para dimensiones críticas), y será atendido por ingenieros y expertos en I+D de Applied Materials.

»El Fraunhofer IPMS y sus socios se beneficiarán del acceso a los sistemas de metrología eBeam líderes en la industria de Applied», afirmó el Dr. Benjamin Uhlig-Lilienthal, director del área de Negocios de Computación de Nueva Generación en el Fraunhofer IPMS. «El nuevo centro tecnológico permitirá una metrología avanzada a nivel de obleas en nuestro entorno industrial CMOS, con la capacidad única del Fraunhofer IPMS de intercambiar directamente obleas con los fabricantes de semiconductores.»

»Nuestro centro de metrología conjunto acelerará los ciclos de aprendizaje y el desarrollo de nuevas aplicaciones para el Instituto Fraunhofer, Applied Materials y nuestros clientes y socios en Europa», dijo James Robson, Vicepresidente Corporativo de Applied Materials Europa. «Este centro de competencia único será capaz de probar y calificar procesos en una variedad de materiales de sustrato y grosores de obleas, que son cruciales para las aplicaciones en el diverso panorama de semiconductores en Europa.»

La tecnología de medición es fundamental en la fabricación de microchips, ya que permite mediciones precisas necesarias para supervisar y controlar con exactitud la calidad de cada paso y proceso en la producción de semiconductores. Los fabricantes de chips utilizan equipos de medición en puntos críticos para validar las propiedades físicas y eléctricas y garantizar el rendimiento deseado.

*ICAPS = Internet de las cosas, Comunicaciones, Automoción, Energía y Sensores