Applied Materials a Fraunhofer IPMS zakládají technologické centrum pro měření polovodičů

eBeam-metrologická zařízení od Applied Materials v čisté místnosti Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS / eBeam metrologické zařízení Applied Materials v čisté místnosti Fraunhofer IPMS. © Fraunhofer IPMS

– Nové centrum poskytne nejmodernější metrologické systémy k podpoře výzkumu polovodičů a rozvoji projektů s výrobci čipů a partnery z odvětví po celé Evropě, zejména v segmentech trhu ICAPS*

– Spolupráce na urychlení procesu učení, vývoji nových metod a testování nových měřicích přístrojů, metod, algoritmů a softwaru.

Applied Materials, Inc. a Fraunhoferův institut pro fotonické mikrosystémy IPMS, přední německé výzkumné centrum pro polovodiče na 300 mm, dnes oznámily průkopnickou spolupráci na založení jednoho z největších technologických center pro metrologii polovodičů a analýzu procesů v Evropě.

Technologické centrum, které bude umístěno v Centru nanoelektronických technologií (CNT) Fraunhofer IPMS v Drážďanech, se nachází v srdci Silicon Saxony, největšího evropského clusteru polovodičů. Centrum bude vybaveno nejmodernějšími eBeam metrologickými zařízeními od Applied Materials, včetně systému VeritySEM® CD-SEM (skenerové elektronové mikroskopy pro kritické rozměry), a bude jej spravovat tým inženýrů a výzkumných expertů z Applied Materials.

„Fraunhofer IPMS a jeho partneři budou mít přístup k předním eBeam metrologickým systémům od Applied," uvedl Dr. Benjamin Uhlig-Lilienthal, vedoucí oddělení Next Generation Computing v Fraunhofer IPMS. „Nové technologické centrum umožní pokročilou metrologii na úrovni waferu v naší průmyslové CMOS prostředí s unikátní schopností Fraunhofer IPMS přímo vyměňovat wafery s výrobci polovodičů.“

„Naše společné metrologické centrum urychlí cykly učení a vývoj nových aplikací pro Fraunhofer Institut, Applied Materials a naše zákazníky a partnery v Evropě,“ řekl James Robson, viceprezident společnosti Applied Materials Europe. „Toto jedinečné centrum bude schopné testovat a kvalifikovat procesy na různých substrátových materiálech a tloušťkách waferů, které jsou klíčové pro rozmanité evropské polovodičové prostředí.“

Měření je klíčové při výrobě mikroprocesorů, protože umožňuje přesná měření potřebná k přesnému sledování a kontrole kvality jednotlivých kroků a procesů při výrobě polovodičů. Výrobci čipů používají měřicí přístroje na kritických místech k validaci fyzikálních a elektrických vlastností a zajištění požadované výtěžnosti.

*ICAPS = Internet věcí, Komunikace, Automobilový průmysl, Energie a Senzory