L'installation de traitement de l'eau de reflux est mise en service

La production d'eau ultrapure se fait par une combinaison d'osmose inverse et d'électrodéionisation.

La dégasification par membrane de l'eau ultrapure pour l'élimination de l'oxygène.

L'installation UV pour eau ultrapure pour la réduction du COT et la désinfection.

Le constructeur d'installations Hager + Elsässer a mis en service en novembre 2015 une installation UPW (Eau Ultra Pure) pour la production d'eau ultrapure chez le fabricant de semi-conducteurs russe Angstrem-T. L'installation, construite dans le cadre d'une nouvelle construction pour le fabricant de wafers de pointe, produit 100 m3 d'eau ultrapure par heure. Hager + Elsässer a convaincu le client avec un concept d'installation qui réduit considérablement la consommation de produits chimiques et produit de l'eau ultrapure avec des teneurs résiduelles très faibles en substances. Il s'agit de l'un des plus grands projets réalisés jusqu'à présent pour l'industrie des semi-conducteurs en Russie.

L'eau est l'une des composantes les plus importantes dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. L'eau ultrapure est utilisée pour la production de solutions chimiques, le nettoyage des pièces de travail et d'autres processus technologiques, ainsi que pour le rinçage des cristaux sur les cartes. La qualité de l'eau utilisée dans l'industrie de la microélectronique doit répondre à des exigences particulièrement élevées.

Les normes actuelles pour la fabrication de semi-conducteurs distinguent quatre types d'eau en fonction de la taille des éléments semi-conducteurs, lors de leur fabrication, où l'eau est utilisée. Dans l'installation UPW d' Angstrem-T sur le site de Zelenograd, de l'eau ultrapure est produite pour des tailles de structure de 90 à 130 nm. De plus, une réserve est prévue pour le passage à des technologies avec des tailles de structure de 65 nm et moins. En effet, plus la gamme nanométrique des produits fabriqués est petite, plus la pureté requise de l'eau pour le processus de fabrication est élevée. « La qualité de l'eau ultrapure a toujours une influence déterminante sur la qualité du produit et l'efficacité du processus de fabrication dans l'industrie des semi-conducteurs », explique Anatoly Sukhoparov, directeur général de Angstrem-T AG. La planification de la nouvelle installation a commencé en avril 2013. Au total, le fabricant russe de semi-conducteurs a investi environ 11,5 millions d'euros dans la nouvelle installation, Hager + Elsässer ayant fourni une installation clé en main – de la conception à la mise en service. « Nous collaborons avec Hager + Elsässer avec succès depuis le début des années 1990. Une fois de plus, nous avons pu trouver une solution optimale dans le cadre de cette commande, où le coût et la qualité nous ont convaincus », explique Anatoly Sukhoparov.

L'installation installée par Hager + Elsässer se compose de plusieurs étapes de traitement qui amènent l'eau à la qualité requise : prétraitement, déionisation, nettoyage en profondeur (désionisation), dégasification, traitement par UV, échange d'ions et ultrafiltration. Pour le prétraitement de l'eau brute, un filtre multicouche et un filtre à charbon actif sont utilisés. Lors de l'étape de processus « Make-up », l'eau prétraitée est débarrassée des particules indésirables, des impuretés organiques et inorganiques, ainsi que des ions, grâce à une combinaison de processus d'osmose inverse et d'une électrodeionisation à deux étages (EDI).

Un polisseur au bore spécial garantit le respect des spécifications de bore conformément aux directives de la « International Roadmap for Semiconductors ». Le nettoyage final est effectué dans ce qu'on appelle la boucle de polissage. « Cette méthode en deux étapes possède une efficacité de nettoyage particulièrement élevée. Elle permet des durées de fonctionnement nettement plus longues et donc des économies lors du changement de résine dans le polisseur et de la régénération », explique Eugen Martens, chef de projet chez Hager + Elsässer.

La nouvelle installation UPW élimine presque toutes les substances associées inorganiques et organiques ainsi que les ions de l'eau de source utilisée. Ainsi, le procédé répond aux exigences strictes en matière de résidus minimaux.