System odzysku wody powrotnej wchodzi do eksploatacji

Wytwarzanie wody wysokiej czystości odbywa się poprzez kombinację odwróconej osmozy i elektrodejonizacji.

Membranowa dekarbonizacja wody czystej do usuwania tlenu.

System UV do wody czystej do redukcji TOC i dezynfekcji.

Firma zajmująca się budową urządzeń Hager + Elsässer uruchomiła w listopadzie 2015 roku instalację UPW (Ultra Pure Water) do produkcji wody oczyszczonej dla rosyjskiego producenta półprzewodników Angstrem-T. Instalacja, wybudowana w ramach nowego budynku dla najbardziej zaawansowanego producenta wafli, wytwarza 100 m3 wody oczyszczonej na godzinę. Hager + Elsässer przekonał zleceniodawcę koncepcją urządzenia, która znacznie zmniejsza zużycie chemikaliów i produkuje wodę oczyszczoną o bardzo niskiej zawartości pozostałości. Jest to jedno z największych projektów, które do tej pory zrealizowano dla przemysłu półprzewodników w Rosji.

Woda jest jednym z najważniejszych składników przy produkcji urządzeń mikroelektronicznych. Woda oczyszczona jest używana do wytwarzania roztworów chemicznych, mycia elementów i innych procesów technologicznych, a także do płukania kryształów na płytkach. Od jakości używanej w mikroelektronice wody stawia się szczególnie wysokie wymagania.

Obecne normy dotyczące produkcji półprzewodników wyróżniają cztery typy wody w zależności od rozmiaru elementów półprzewodnikowych, przy produkcji których woda jest stosowana. W instalacji UPW Angstrem-T w Zelenogradzie woda oczyszczona jest wytwarzana dla struktur o rozmiarach od 90 do 130 nm. Dodatkowo istnieje rezerwa na wypadek przejścia na technologie z rozmiarami struktur 65 nm i mniejszymi. Im mniejszy nanometr, tym wyższa wymagana czystość wody do procesu produkcyjnego. „Jakość wody oczyszczonej zawsze ma kluczowe znaczenie dla jakości produktu i efektywności procesu produkcyjnego w branży półprzewodników. W końcu 30% procesów polega na płukaniu płytek krzemu”, wyjaśnia Anatoly Sukhoparov, dyrektor generalny Angstrem-T AG. Planowanie nowej instalacji rozpoczęło się w kwietniu 2013 roku. Ogólnie rosyjski producent półprzewodników zainwestował około 11,5 mln euro w nową instalację, a Hager + Elsässer dostarczyła gotowe do uruchomienia urządzenie – od koncepcji po uruchomienie. „Od początku lat 90. współpracujemy z Hager + Elsässer z powodzeniem. Po raz kolejny udało nam się znaleźć optymalne rozwiązanie w ramach tego zlecenia, które przekonało nas zarówno pod względem kosztów, jak i jakości”, dodaje Anatoly Sukhoparov.

Instalacja zainstalowana przez Hager + Elsässer składa się z kilku etapów uzdatniania, które zapewniają odpowiednią jakość wody: wstępne oczyszczanie, odsalanie, głębokie oczyszczanie (dejonizacja), odgazowanie, obróbka światłem UV, wymiana jonowa i ultrafiltracja. Do wstępnego przygotowania surowej wody stosuje się filtr wielowarstwowy i filtr węglowy. W etapie „Make-up” wstępnie oczyszczona woda jest oczyszczana z niepożądanych cząstek, zanieczyszczeń organicznych i nieorganicznych oraz jonów za pomocą kombinacji procesu odwróconej osmozy i dwustopniowej elektrodejonizacji (EDI).

Specjalny polerownik borowy zapewnia zgodność z normami dotyczącymi boru zgodnie z wytycznymi „International Roadmap for Semiconductors”. Ostateczne oczyszczanie odbywa się w tak zwanej pętli polerującej („Polishing-Loop”). „Ten dwustopniowy proces ma szczególnie wysoką skuteczność oczyszczania. Umożliwia znacznie dłuższe czasy pracy i oszczędności przy wymianie złoża w polerze oraz przy regeneracji”, wyjaśnia Eugen Martens, kierownik projektu z Hager + Elsässer.

Nowa instalacja UPW usuwa niemal wszystkie nieorganiczne i organiczne zanieczyszczenia towarzyszące oraz jony z używanej wody gruntowej. W ten sposób proces spełnia surowe wymagania dotyczące możliwie najniższych pozostałości.