Imec reçoit le système EUV à haute NA le plus avancé au monde

— Imec annonce que le système de lithographie EUV High-NA ASML EXE:5200, le plus avancé au monde, est arrivé dans sa salle blanche de 300 mm à Louvain.
— L'utilisation du système EUV High-NA en combinaison directe avec des équipements et matériaux de mesure et de structuration de pointe accélère les cycles d'apprentissage et ouvre la voie aux performances nécessaires pour les technologies logiques sous-2 nm et les futurs dispositifs de mémoire, soutenant ainsi les marchés en pleine croissance de l'IA et du calcul haute performance (HPC).
— « Avec cette ressource stratégique, imec renforce son rôle central dans la transition de l'industrie vers l'ère de l'angstrom. Cet outil jouera également un rôle clé pour consolider la position de l'Europe en tant que centre de recherche et développement dans le domaine de la technologie des semi-conducteurs modernes au cours des prochaines décennies. » – Luc Van den hove, imec.

Le 18 mars 2026, imec, un centre mondial de recherche et d'innovation de premier plan dans les technologies avancées des semi-conducteurs, a annoncé l'inauguration du système de lithographie EUV High-NA ASML EXE:5200, l'outil de lithographie le plus moderne actuellement sur le marché. Avec cette étape stratégique, imec consolide sa position comme tremplin pour l'industrie vers l'ère de l'angstrom et offre à son écosystème mondial de partenaires un accès sans précédent en amont à la prochaine génération de technologies de miniaturisation des puces. Le système EUV High-NA est intégré directement dans une suite complète d'outils de structuration, de métrologie et de matériaux, permettant à imec et à ses partenaires d'explorer les performances nécessaires pour mener des travaux pionniers sur des technologies logiques sous-2 nm et de mémoire à haute densité, qui stimuleront la croissance rapide de l'IA avancée et des calculateurs haute performance.

Luc Van den hove, PDG d'imec : « Les deux dernières années ont marqué un chapitre important pour la lithographie EUV à haute ouverture numérique (0,55 NA), dans lequel imec et ASML, en collaboration avec l'écosystème dans leur laboratoire EUV à haute ouverture numérique à Veldhoven (Pays-Bas), ont été pionniers dans la technologie EUV à haute ouverture numérique. Avec l'installation du système de lithographie EUV High-NA EXE:5200 dans notre salle blanche de 300 mm à Louvain (Belgique), nous souhaitons porter ces technologies de structuration EUV High-NA à un niveau pertinent pour l'industrie et développer des cas d'utilisation pour la structuration EUV High-NA de prochaine génération. La résolution inégalée, la performance améliorée de superposition, le débit élevé et un nouveau stockeur de wafers, qui améliorent la stabilité du processus et le débit, offriront à nos partenaires un avantage décisif dans le développement plus rapide de technologies de puces inférieures à 2 nm. Alors que l'industrie entre dans l'ère de l'angstrom, le High-NA EUV sera une compétence fondamentale, et imec est fier de jouer un rôle de pionnier en offrant à ses partenaires l'accès le plus précoce et le plus complet à cette technologie. »

Cette étape constitue un élément central du partenariat stratégique quinquennal entre imec et ASML, soutenu par l'UE (Chips Joint Undertaking et IPCEI), le gouvernement flamand et le gouvernement néerlandais. Luc Van den hove : « En tant qu'élément intégral de la ligne pilote NanoIC financée par l'UE, cette installation jouera un rôle crucial dans le renforcement de la position de l'Europe en tant que centre de recherche et développement dans le domaine des semi-conducteurs avancés au cours des prochaines décennies. »

Avec le système de lithographie EUV High-NA ASML EXE:5200 dans la salle blanche d'imec, imec se positionne clairement comme la structure de développement la plus complète pour les procédés de structuration avancés. La collaboration étroite entre imec et les principaux fabricants de puces, fournisseurs d'équipements, de matériaux et de résines, fabricants de masques ainsi que spécialistes en métrologie nous permet d'accélérer les cycles d'apprentissage et d'améliorer la stabilité des processus, afin de développer et de démontrer des procédés de structuration de pointe pour la technologie logique et de mémoire de prochaine génération. Nous favorisons ainsi des innovations révolutionnaires qui façonneront l'avenir de l'informatique avancée et de l'IA dans les années à venir. »

Christophe Fouquet, PDG d'ASML : « L'installation du EXE:5200 chez Imec marque une étape importante dans l'ère de l'angstrom. Ensemble, nous poursuivons le développement de la technologie EUV à haute ouverture numérique (High NA) pour les prochaines générations de technologies de stockage et de calcul avancées. »

Imec prévoit que le système de lithographie EUV High-NA EXE:5200 sera entièrement qualifié d'ici le quatrième trimestre 2026. En attendant, le laboratoire commun ASML- imec pour la lithographie EUV High-NA à Veldhoven reste opérationnel, garantissant la continuité des activités de recherche et développement dans le domaine du High-NA EUV pour imec et ses partenaires de l'écosystème.