Imec erhält das weltweit modernste High-NA-EUV-System

– Imec gibt bekannt, dass das ASML EXE:5200, das weltweit fortschrittlichste EUV-Lithografiesystem mit hoher numerischer Apertur (High NA), in seinem 300-mm-Reinraum in Leuven eingetroffen ist.
– Der Einsatz des High-NA-EUV-Systems in direkter Kombination mit modernsten Mess- und Strukturierungsanlagen bzw. -materialien beschleunigt die Lernzyklen und eröffnet damit die für Sub-2-nm-Logik- und zukünftige Speichertechnologien erforderliche Leistungsfähigkeit, wodurch die schnell wachsenden Märkte für KI und High-Performance-Computing (HPC) unterstützt werden.
– „Mit dieser strategischen Ressource stärkt imec seine zentrale Rolle bei der Überführung der Branche in das Ångström-Zeitalter. Das Tool wird auch eine entscheidende Rolle dabei spielen, Europas Position als führender Standort für die Forschung und Entwicklung im Bereich der modernen Halbleitertechnologie in den kommenden Jahrzehnten zu festigen.“ – Luc Van den hove, imec.

Am 18. März 2026 gab imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für fortschrittliche Halbleitertechnologien, die Einweihung des ASML EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystems bekannt, dem derzeit modernsten Lithografietool auf dem Markt. Mit diesem strategischen Meilenstein festigt imec seine Position als Sprungbrett der Branche in das Ångström-Zeitalter und verschafft seinem globalen Ökosystem von Partnern einen beispiellosen frühen Zugang zur nächsten Generation von Technologien zur Chip-Miniaturisierung. Das High-NA-EUV-System ist direkt in eine umfassende Suite von Strukturierungs- und Metrologie-Tools und Materialien integriert und wird imec und seinen Partnern im Ökosystem ermöglichen, die erforderliche Leistungsfähigkeit zu erschließen, um Pionierarbeit bei Sub-2-nm-Logik- und hochdichten Speichertechnologien zu leisten, die das rasante Wachstum fortschrittlicher KI und Hochleistungsrechner vorantreiben werden.

Luc Van den hove, CEO von imec: „Die letzten zwei Jahre markieren ein wichtiges Kapitel für die EUV-Lithografie mit hoher numerischer Apertur (0,55 NA), in dem imec und ASML gemeinsam mit dem Ökosystem in ihrem gemeinsamen EUV-Lithografie-Labor mit hoher numerischer Apertur in Veldhoven (Niederlande) Pionierarbeit für die EUV-Technologie mit hoher numerischer Apertur geleistet haben. Mit der Installation des EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystems in unserem 300-mm-Reinraum in Leuven (Belgien) wollen wir diese High-NA-EUV-Strukturierungstechnologien auf ein für die Industrie relevantes Level bringen und Anwendungsfälle für die High-NA-EUV-Strukturierung der nächsten Generation entwickeln. Die unübertroffene Auflösung, die verbesserte Overlay-Leistung, der hohe Durchsatz und ein neuer Wafer-Stocker, der die Prozessstabilität und den Durchsatz verbessert, werden unseren Partnern einen entscheidenden Vorteil bei der schnelleren Entwicklung von Chip-Technologien kleiner als 2 nm verschaffen. Während die Branche in das Ångström-Zeitalter eintritt, wird High-NA-EUV eine grundlegende Kompetenz sein, und imec ist stolz darauf, eine Vorreiterrolle einzunehmen, indem es seinen Partnern den frühesten und umfassendsten Zugang zu dieser Technologie bietet.“

Dieser Meilenstein ist ein zentraler Bestandteil der fünfjährigen strategischen Partnerschaft zwischen imec und ASML, die von der EU (Chips Joint Undertaking und IPCEI), der flämischen Regierung und der niederländischen Regierung unterstützt wird. Luc Van den hove: „Als integraler Bestandteil der von der EU finanzierten NanoIC-Pilotlinie wird die Anlage in den kommenden Jahrzehnten eine entscheidende Rolle dabei spielen, Europas Position als führender Standort für die Forschung und Entwicklung im Bereich fortschrittlicher Halbleiter zu stärken.

Mit dem ASML EXE:5200 High-NA-EUV-Lithografiesystem im Reinraum von imec positioniert sich imec eindeutig als umfassendste Entwicklungseinrichtung für fortschrittliche Strukturierungsverfahren. Die enge Zusammenarbeit von imec mit führenden Chipherstellern, Ausrüstungs-, Material- und Resistlieferanten, Maskenherstellern sowie Messtechnik-Experten ermöglicht es uns, Lernzyklen zu beschleunigen und die Prozessstabilität zu verbessern, um modernste Strukturierungsverfahren für die Logik- und Speichertechnologie der nächsten Generation zu entwickeln und zu demonstrieren. Damit treiben wir bahnbrechende Innovationen voran, die die Zukunft des fortschrittlichen Computing und der KI in den kommenden Jahren prägen werden.“

Christophe Fouquet, CEO von ASML: „Die Installation des EXE:5200 bei Imec markiert einen wichtigen Schritt in das Ångström-Zeitalter. Gemeinsam treiben wir die Weiterentwicklung von EUV-Technologie mit hoher numerischer Apertur (High NA) für die nächsten Generationen fortschrittlicher Speicher- und Rechentechnologie voran.“

Imec geht davon aus, dass das High NA EUV-Lithografiesystem EXE:5200 bis zum vierten Quartal 2026 vollständig qualifiziert sein wird. In der Zwischenzeit bleibt das gemeinsame ASML-imec-Labor für High-NA-EUV-Lithografie in Veldhoven in Betrieb, wodurch die Kontinuität der Forschungs- und Entwicklungsaktivitäten im Bereich High-NA-EUV für imec und seine Partner im Ökosystem gewährleistet ist.