Imec recibe el sistema EUV de alta NA más avanzado del mundo

– Imec anuncia que el sistema de litografía EUV de alta apertura numérica (High NA) ASML EXE:5200, el más avanzado a nivel mundial, ha llegado a su sala limpia de 300 mm en Lovaina.
– La utilización del sistema EUV High-NA en combinación directa con las instalaciones y materiales de medición y estructuración más avanzados acelera los ciclos de aprendizaje y abre la puerta a la capacidad de rendimiento necesaria para tecnologías futuras de lógica de menos de 2 nm y memorias, apoyando así los mercados en rápido crecimiento de IA y computación de alto rendimiento (HPC).
– «Con este recurso estratégico, imec fortalece su papel central en la transición de la industria a la era del Ångström. La herramienta también jugará un papel decisivo en consolidar la posición de Europa como líder en investigación y desarrollo en tecnología moderna de semiconductores en las próximas décadas.» – Luc Van den hove, imec.

El 18 de marzo de 2026, imec, un centro de investigación e innovación líder mundial en tecnologías avanzadas de semiconductores, anunció la inauguración del sistema de litografía EUV High-NA ASML EXE:5200, la herramienta de litografía más moderna en el mercado en la actualidad. Con este hito estratégico, imec refuerza su posición como puente de la industria hacia la era del Ångström y proporciona a su ecosistema global de socios un acceso sin precedentes a la próxima generación de tecnologías para la miniaturización de chips. El sistema EUV High-NA está integrado directamente en un conjunto completo de herramientas y materiales de estructuración y metrología, permitiendo a imec y a sus socios explorar la capacidad de rendimiento necesaria para liderar en tecnologías de lógica de menos de 2 nm y memorias de alta densidad, impulsando así el rápido crecimiento de la IA avanzada y los supercomputadores.

Luc Van den hove, CEO de imec: «Los últimos dos años han marcado un capítulo importante para la litografía EUV de alta apertura numérica (0,55 NA), en el que imec y ASML, junto con el ecosistema, han realizado trabajos pioneros en su laboratorio conjunto de litografía EUV de alta apertura numérica en Veldhoven (Países Bajos). Con la instalación del sistema de litografía EUV High-NA EXE:5200 en nuestra sala limpia de 300 mm en Lovaina (Bélgica), queremos llevar estas tecnologías de estructuración EUV High-NA a un nivel relevante para la industria y desarrollar casos de uso para la estructuración EUV High-NA de próxima generación. La resolución inigualable, la mejora en el rendimiento de superposición, el alto rendimiento y un nuevo cargador de obleas que mejora la estabilidad del proceso y el rendimiento, proporcionarán a nuestros socios una ventaja decisiva en el desarrollo más rápido de tecnologías de chips menores de 2 nm. A medida que la industria avanza hacia la era del Ångström, EUV High-NA será una competencia fundamental, y en imec estamos orgullosos de liderar el camino, ofreciendo a nuestros socios el acceso más temprano y completo a esta tecnología.»

Este hito es una parte central de la asociación estratégica de cinco años entre imec y ASML, respaldada por la UE (Chips Joint Undertaking y IPCEI), el gobierno flamenco y el gobierno neerlandés. Luc Van den hove: «Como parte integral de la línea piloto NanoIC financiada por la UE, la instalación jugará un papel decisivo en las próximas décadas para fortalecer la posición de Europa como líder en investigación y desarrollo en tecnologías avanzadas de semiconductores.»

Con el sistema de litografía EUV High-NA ASML EXE:5200 en la sala limpia de imec, imec se posiciona claramente como la instalación de desarrollo más completa para procedimientos avanzados de estructuración. La estrecha colaboración de imec con los principales fabricantes de chips, proveedores de equipos, materiales y resistencias, fabricantes de máscaras y expertos en metrología nos permite acelerar los ciclos de aprendizaje y mejorar la estabilidad del proceso para desarrollar y demostrar procedimientos de estructuración de vanguardia para la lógica y la tecnología de memoria de próxima generación. Con ello, impulsamos innovaciones revolucionarias que marcarán el futuro de la computación avanzada y la IA en los próximos años.»

Christophe Fouquet, CEO de ASML: «La instalación del EXE:5200 en imec marca un paso importante hacia la era del Ångström. Juntos, impulsamos el desarrollo de la tecnología EUV de alta apertura numérica (High NA) para las próximas generaciones de tecnologías avanzadas de memoria y computación.»

Se espera que el sistema de litografía EUV High-NA EXE:5200 esté completamente calificado para el cuarto trimestre de 2026. Mientras tanto, el laboratorio conjunto de ASML-imec para litografía EUV High-NA en Veldhoven seguirá en operación, garantizando la continuidad de las actividades de investigación y desarrollo en el área de EUV High-NA para imec y sus socios en el ecosistema.