Imec ontvangt het meest geavanceerde High-NA-EUV-systeem ter wereld

– Imec kondigt aan dat de ASML EXE:5200, het meest geavanceerde EUV-lithografiesysteem ter wereld met hoge numerieke opening (High NA), is gearriveerd in haar cleanroom van 300 mm in Leuven.
– Het gebruik van het High-NA-EUV-systeem in directe combinatie met geavanceerde meet- en structureringsapparatuur en -materialen versnelt de leercurves en opent daarmee de prestatielat die nodig is voor sub-2-nm logica- en toekomstige geheugentechnologieën, waardoor de snelgroeiende markten voor AI en High-Performance Computing (HPC) worden ondersteund.
– “Met deze strategische hulpbron versterkt imec haar centrale rol bij het overbrengen van de industrie naar het Ångström-tijdperk. Het hulpmiddel zal ook een cruciale rol spelen bij het verstevigen van Europa’s positie als toonaangevende locatie voor onderzoek en ontwikkeling op het gebied van moderne halfgeleidertechnologie in de komende decennia.” – Luc Van den hove, imec.

Op 18 maart 2026 kondigde imec, een wereldwijd toonaangevend onderzoeks- en innovatiecentrum voor geavanceerde halfgeleidertechnologieën, de ingebruikname aan van het ASML EXE:5200 High-NA-EUV-lithografiesysteem, het meest geavanceerde lithografietool op de markt. Met deze strategische mijlpaal verstevigt imec haar positie als springplank voor de industrie naar het Ångström-tijdperk en biedt het haar wereldwijde ecosysteem van partners ongeëvenaarde vroege toegang tot de volgende generatie technologieën voor chip-miniaturisatie. Het High-NA-EUV-systeem is direct geïntegreerd in een uitgebreide suite van structuur- en metrologietools en -materialen en stelt imec en haar partners in het ecosysteem in staat om de benodigde prestatieniveaus te ontsluiten om pionierswerk te verrichten op het gebied van sub-2-nm logica- en hoogdicht geheugentechnologieën, die de snelle groei van geavanceerde AI en high-performance computers zullen stimuleren.

Luc Van den hove, CEO van imec: “De afgelopen twee jaar markeren een belangrijk hoofdstuk voor EUV-lithografie met hoge numerieke opening (0,55 NA), waarin imec en ASML samen met het ecosysteem pionierswerk hebben verricht in hun gezamenlijke EUV-lithografielaboratorium met hoge numerieke opening in Veldhoven (Nederland). Met de installatie van het EXE:5200 High-NA-EUV-lithografiesysteem in onze cleanroom van 300 mm in Leuven (België) willen we deze High-NA-EUV-structureringstechnologieën naar een relevant industrieel niveau brengen en toepassingsgevallen ontwikkelen voor de next-generation High-NA-EUV-structurering. De ongeëvenaarde resolutie, verbeterde overlay-prestaties, hoge doorvoer en een nieuwe wafer-stacker die de processtabiliteit en doorvoer verbetert, zullen onze partners een belangrijk voordeel geven bij het sneller ontwikkelen van chiptechnologieën kleiner dan 2 nm. Terwijl de industrie het Ångström-tijdperk ingaat, zal High-NA-EUV een fundamentele competentie zijn, en imec is trots een voortrekkersrol te vervullen door haar partners de vroegste en meest uitgebreide toegang tot deze technologie te bieden.”

Deze mijlpaal is een kernonderdeel van het vijfjarige strategische partnerschap tussen imec en ASML, dat wordt ondersteund door de EU (Chips Joint Undertaking en IPCEI), de Vlaamse overheid en de Nederlandse overheid. Luc Van den hove: “Als integraal onderdeel van de door de EU gefinancierde NanoIC-pilootlijn zal de faciliteit in de komende decennia een cruciale rol spelen bij het versterken van Europa’s positie als toonaangevende locatie voor onderzoek en ontwikkeling op het gebied van geavanceerde halfgeleiders.”

Met het ASML EXE:5200 High-NA-EUV-lithografiesysteem in de cleanroom van imec positioneert imec zich duidelijk als de meest uitgebreide ontwikkelingsfaciliteit voor geavanceerde structuureringstechnieken. De nauwe samenwerking van imec met toonaangevende chipfabrikanten, apparatuur-, materiaal- en resistleveranciers, maskfabrikanten en metrologiespecialisten stelt ons in staat om leercurves te versnellen en processtabiliteit te verbeteren, om geavanceerde structuureringstechnieken voor de logica- en geheugentechnologie van de volgende generatie te ontwikkelen en te demonstreren. Daarmee stimuleren we baanbrekende innovaties die de toekomst van geavanceerd computing en AI in de komende jaren zullen bepalen.”

Christophe Fouquet, CEO van ASML: “De installatie van het EXE:5200 bij imec markeert een belangrijke stap in het Ångström-tijdperk. Samen drijven we de verdere ontwikkeling van EUV-technologie met hoge numerieke opening (High NA) voor de volgende generaties geavanceerde opslag- en rekenstechnologieën voort.”

Imec verwacht dat het High NA EUV-lithografiesysteem EXE:5200 tegen het vierde kwartaal van 2026 volledig gekwalificeerd zal zijn. In de tussentijd blijft het gezamenlijke ASML-imec-laboratorium voor High-NA-EUV-lithografie in Veldhoven operationeel, waardoor de continuïteit van onderzoeks- en ontwikkelingsactiviteiten op het gebied van High-NA-EUV voor imec en haar partners in het ecosysteem wordt gewaarborgd.