AIST développe du graphène sur des wafers de 300 mm avec une installation AIXTRON

AIST développe du graphène sur des wafers de 300 mm avec une installation AIXTRON

Le National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) au Japon a mis en service avec succès une installation AIXTRON BM 300. L'installation a été installée en 2011 par l'équipe de service d'AIXTRON dans la salle blanche de l'institut japonais à Tsukuba. Dans le cadre de la conférence MRS Spring 2012, le chef du groupe AIST, Dr. Shintaro Sato, a présenté les résultats le 10 avril.

« Avec la déposition de monocouches de graphène sur des wafers de 300 mm chez AIST, nous avons atteint la prochaine étape importante », explique le Dr. Ken Teo, directeur du département Nanoinstruments chez AIXTRON. « La BM 300 est la technologie la plus avancée pour la fabrication de graphène. » En plus d'un système de pointe pour l'alimentation en gaz extrêmement précis des matériaux de départ, elle est généralement équipée d'un pyromètre In-Situ ARGUS pour la mesure de la température de surface, d'un système de chauffage pour une distribution optimale de la température sur le wafer, ainsi que d'un module de transfert pour le chargement automatique des wafers. « La contrôle exceptionnellement précis et la haute reproductibilité de l'installation sur des wafers de 300 mm en graphène sont indispensables pour pouvoir déposer du graphène à grande échelle sur des wafers », poursuit l'expert d'AIXTRON. « Cela nous a permis de poser les bases pour exploiter pleinement les propriétés uniques de ce matériau dans la fabrication de la prochaine génération de composants semi-conducteurs. »

L'équipe de Dr. Sato déposera du graphène de haute qualité avec un nombre contrôlé de couches — une condition essentielle pour fabriquer des transistors à effet de champ CMOS à faibles tensions d'alimentation inférieures à 0,3 volt avec cette technologie de procédé.

Le projet bénéficie d'un financement par le programme FIRST1. En fournissant des résultats de recherche, FIRST soutient des initiatives de recherche innovantes et tournées vers l'avenir, qui contribuent à renforcer la compétitivité du Japon sur le marché mondial et au bien-être de la société et de la population. Le programme a été approuvé en 2009 par le Comité pour la politique scientifique et technologique (Bureau du Cabinet du gouvernement japonais) et la Société japonaise pour la promotion de la science.

La fabrication des wafers se déroule en collaboration avec le GNC (Green Nanoelectronics Center), affilié à l'AIST, sous la direction du Dr. Naoki Yokoyama, dans le cadre du projet de recherche « Développement de technologies clés pour la nanoélectronique verte », également financé par FIRST. Le GNC existe depuis avril 2010 et emploie des chercheurs issus de la recherche institutionnelle et industrielle.

1 FIRST, Funding Program for World-Leading Innovative R&D on Science and Technology = Programme de financement pour la recherche et le développement scientifique et technologique innovant de classe mondiale.

Image : AIXTRON BM 300 avec chargement automatique de wafers