AIST desarrolla grafeno en obleas de 300 mm con equipo de AIXTRON

AIST desarrolla grafeno en obleas de 300 mm con equipo de AIXTRON

El Instituto Nacional de Ciencia y Tecnología Industrial Avanzada (AIST) en Japón ha puesto en marcha con éxito una planta AIXTRON BM 300. La planta fue instalada en 2011 por el equipo de servicio de AIXTRON en la sala limpia del instituto japonés en Tsukuba. Como parte de la Conferencia Spring MRS 2012, el director del grupo AIST, Dr. Shintaro Sato, presentó los resultados el 10 de abril.

„Con la deposición de monocapas de grafeno en obleas de 300 mm en AIST, hemos alcanzado el siguiente hito importante”, explicó el Dr. Ken Teo, director del área de instrumentos nanométricos en AIXTRON. „La BM 300 es la tecnología más avanzada para la fabricación de grafeno.” Además de un sistema de vanguardia para la alimentación de gases extremadamente precisa de las materias primas, se entrega de forma estándar con un pirómetro In-Situ ARGUS para medir la temperatura superficial, un sistema de calefacción para una distribución de temperatura óptima en la oblea, y un módulo de transferencia para el manejo automático de las obleas. „El control extraordinariamente preciso y la alta reproducibilidad de la planta en obleas de 300 mm de grafeno son imprescindibles para poder depositar grafeno a gran escala en obleas”, continuó el experto de AIXTRON. „Con esto, hemos creado la base para aprovechar al máximo las propiedades únicas de este material en la fabricación de la próxima generación de componentes semiconductores.”

El equipo dirigido por el Dr. Sato depositará grafeno de alta calidad con un número controlado de capas, una condición esencial para poder fabricar transistores de efecto campo CMOS con bajas tensiones de operación por debajo de 0,3 voltios con esta tecnología de proceso.

El proyecto recibe financiación a través del programa FIRST1. Con la provisión de resultados de investigación, FIRST apoya iniciativas de investigación sostenibles que contribuyen a fortalecer la competitividad de Japón en el mercado mundial y al bienestar de la sociedad y la población. El programa fue aprobado en 2009 por el Comité de Política Científica y Tecnológica (Oficina del Gabinete del Gobierno Japonés) y la Sociedad Japonesa para el Fomento de la Ciencia.

El proceso de fabricación de obleas se realiza en colaboración con el GNC (Centro de Nanoelectrónica Verde) adjunto al AIST, bajo la dirección del Dr. Naoki Yokoyama, en el marco del proyecto de investigación "Desarrollo de tecnologías clave para la nanoelectrónica ecológica", también financiado por FIRST. El GNC fue establecido en abril de 2010 y emplea a científicos de investigación institucional e industrial.

1FIRST, Programa de financiación para I+D innovadora de vanguardia mundial en ciencia y tecnología = Programa de apoyo para investigaciones científicas y tecnológicas innovadoras líderes a nivel mundial.

Imagen: AIXTRON BM 300 con carga automática de obleas