AIST grafént fejleszt 300 mm-es szilíciumlapkákon az AIXTRON berendezéssel

Az AIST grafént fejleszt 300 mm-es szilíciumlapkákon az AIXTRON berendezéssel

A Japán Nemzeti Fejlett Ipari Tudomány és Technológia Intézete (AIST) sikeresen üzembe helyezett egy AIXTRON BM 300 berendezést. A berendezést 2011-ben az AIXTRON szervizcsapata telepítette a japán intézet tisztatéri szobájában Tsukuba-ban. Az 2012-es MRS Spring Konferencia keretében az AIST csoportvezetője, Dr. Shintaro Sato bemutatta az eredményeket 2012. április 10-én.

„A grafén-monorétegek kiválasztása 300 mm-es szilíciumlapokra az AIST-nél elérte a következő fontos mérföldkövet” – magyarázta Dr. Ken Teo, az AIXTRON Nanoinstrumenszakaszának igazgatója. „A BM 300 a legkorszerűbb technológia a grafén gyártására.” A rendszer mellett egy rendkívül korszerű, a kiindulási anyagok rendkívül precíz gázellátását biztosító berendezés található, valamint egy ARGUS In-Situ Pirométer, amely a felületi hőmérséklet mérésére szolgál, továbbá egy fűtőrendszer az optimális hőmérséklet-eloszlás biztosítására a szilíciumlapokon, valamint egy átviteli modul az automatikus szilíciumlap-berakodáshoz. „A berendezés rendkívül pontos ellenőrzése és magas reprodukálhatósága 300 mm-es grafénlapokon elengedhetetlen ahhoz, hogy nagy szilíciumlap méretben lehessen grafént kiválasztani” – folytatta az AIXTRON szakértő. „Ezzel megalapoztuk az alapot arra, hogy a anyag egyedi tulajdonságait teljes mértékben kihasználjuk a következő generációs félvezető eszközök gyártásában.”

Dr. Sato csapata a berendezéssel magas minőségű grafént fog kiválasztani, kontrollált rétegszámmal – ez alapvető feltétele annak, hogy ezzel a folyamattechnológiával CMOS mezőfeszültségű tranzisztorokat, 0,3 volt alatti működési feszültséggel gyártsanak.

A projekt támogatást kap a FIRST1 program révén. A FIRST a kutatási eredmények megosztásával támogatja a jövőbe mutató kutatási kezdeményezéseket, amelyek hozzájárulnak Japán versenyképességének erősítéséhez a világpiacon, valamint a társadalom és a lakosság jólétéhez. A programot 2009-ben hagyta jóvá a Japán Kormány Tudomány- és Technológia Politikai Bizottsága (Kabinettiroda) és a Japán Tudományos Társaság.

A szilíciumlap-feldolgozás az AIST-hez kapcsolódó GNC (Green Nanoelectronics Center) együttműködésében zajlik, Naoki Yokoyama vezetésével, a „Kulcsfontosságú technológiák fejlesztése a zöld nanoelektronikához” kutatási projekt keretében, amelyet szintén támogat a FIRST. A GNC 2010 áprilisában alakult, és tudósokat foglalkoztat intézményi és ipari kutatásból.

1 FIRST, Funding Program for World-Leading Innovative R&D on Science and Technology = Világszínvonalú innovatív tudományos és technológiai kutatás-fejlesztés támogatási program.

Kép: AIXTRON BM 300 automatikus szilíciumlap-berakodással