Nowy rok, nowa praca? Sprawdź oferty! Więcej ...
HJM MT-Messtechnik PMS Buchta



  • Przetłumaczone przez AI

AIST rozwija grafen na waflach o rozmiarze 300 mm za pomocą urządzenia AIXTRON

AIST rozwija grafen na 300 mm waflach za pomocą urządzenia AIXTRON
AIST rozwija grafen na 300 mm waflach za pomocą urządzenia AIXTRON

National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) w Japonii pomyślnie uruchomiło urządzenie AIXTRON BM 300. Urządzenie zostało zainstalowane w 2011 roku przez zespół serwisowy AIXTRON w czystej strefie japońskiego instytutu w Tsukubie. W ramach konferencji MRS Spring 2012 kierownik grupy AIST, dr Shintaro Sato, zaprezentował wyniki 10 kwietnia.

„Dzięki osadzaniu monowarstw grafenu na 300 mm waflach w AIST osiągnęliśmy kolejny ważny etap”, wyjaśnił dr Ken Teo, dyrektor działu nanoinstrumentów w AIXTRON. „BM 300 to najbardziej zaawansowana technologia do produkcji grafenu.” Oprócz nowoczesnego systemu precyzyjnego doprowadzania gazów do surowców, urządzenie jest standardowo wyposażone w in-situ pyrometr ARGUS do pomiaru temperatury powierzchni, system grzewczy zapewniający optymalne rozkłady temperatury na waflu oraz moduł transferowy do automatycznego załadunku wafli. „Wyjątkowa precyzyjna kontrola i wysoka powtarzalność urządzenia na waflach o rozmiarze 300 mm jest niezbędna do osadzania grafenu na dużą skalę”, kontynuował ekspert z AIXTRON. „Dzięki temu stworzyliśmy podstawy do pełnego wykorzystania unikalnych właściwości tego materiału przy produkcji następnej generacji elementów półprzewodnikowych.”

Zespół dr. Sato będzie osadzać wysokiej jakości grafen z kontrolowaną liczbą warstw – kluczowy warunek do produkcji z użyciem tej technologii CMOS-owych tranzystorów polowego typu z niskim napięciem pracy poniżej 0,3 V.

Projekt jest wspierany przez program FIRST1. Dzięki udostępnianiu wyników badań FIRST wspiera przyszłościowe inicjatywy badawcze, które przyczyniają się do wzmocnienia konkurencyjności Japonii na rynku światowym oraz do dobra społeczeństwa i obywateli. Program został zatwierdzony w 2009 roku przez Komitet ds. Polityki Nauki i Technologii (Kabinettbüro rządu japońskiego) oraz Japońskie Towarzystwo Wspierania Nauki.

Proces wafli odbywa się we współpracy z GNC (Green Nanoelectronics Center) przy AIST, kierowanym przez dr Naoki Yokoyamę, w ramach projektu badawczego „Rozwój kluczowych technologii dla zielonej nanoelektroniki”, który również jest wspierany przez FIRST. GNC działa od kwietnia 2010 roku i zatrudnia naukowców z instytucjonalnych i przemysłowych ośrodków badawczych.

1FIRST, Funding Program for World-Leading Innovative R&D on Science and Technology = Program finansowania dla światowej klasy innowacyjnych badań naukowych i technologicznych.

Obraz: AIXTRON BM 300 z automatycznym załadunkiem wafli


Lepsza informacja: ROCZNIK, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA oraz KATALOG EKSPERTÓW

Bądź na bieżąco i subskrybuj nasz comiesięczny newsletter e-mail oraz NEWSFLASH i NEWSEXTRA. Dodatkowo dowiedz się z drukowanego ROCZNIKA, co dzieje się w świecie cleanroomów. A z naszego katalogu dowiesz się, kto jest EKSPERTEM w cleanroomie.

ClearClean Pfennig Reinigungstechnik GmbH Vaisala Piepenbrock