Imec y ASML firman un Memorando de Entendimiento (MoU) para promover la investigación en semiconductores y la innovación sostenible en Europa

Imec, un centro de investigación e innovación líder en nanoelectrónica y tecnologías digitales, y ASML Holding N.V. (ASML), un proveedor líder en la industria de semiconductores, anuncian hoy que desean intensificar su colaboración durante la próxima fase de desarrollo de una línea de litografía de alta apertura numérica (High-NA) en ultravioleta extremo (EUV) de vanguardia en imec.

La línea de producción ayudará a las industrias que utilizan tecnologías de semiconductores a comprender los beneficios de la tecnología de semiconductores avanzada y a acceder a una plataforma de prototipado que respalde sus innovaciones. La colaboración entre imec, ASML y otros socios permitirá investigar nuevas aplicaciones de semiconductores, el desarrollo potencial de soluciones de fabricación sostenibles y pioneras para fabricantes de chips y clientes finales, así como el desarrollo de flujos de patrón avanzados y holísticos en colaboración con el ecosistema de equipos y materiales.

El Memorando de Entendimiento firmado hoy incluye la instalación y el mantenimiento de toda la gama de equipos avanzados de litografía y medición de ASML en la planta piloto de imec en Lovaina, Bélgica, como por ejemplo, el modelo más reciente de EUV 0,55 NA (TWINSCAN EXE:5200), los modelos más recientes de EUV 0,33 NA (TWINSCAN NXE:3800), DUV por inmersión (TWINSCAN NXT:2100i), tecnología de medición óptica Yieldstar y HMI Multi-Beam. El compromiso planeado representa una contribución extraordinariamente significativa para la línea de producción de vanguardia.

Esta tecnología revolucionaria de alta NA es crucial para el desarrollo de chips potentes y energéticamente eficientes, como los sistemas de IA de próxima generación. También permite soluciones tecnológicas profundas innovadoras que podrían utilizarse para abordar algunos de los mayores desafíos de nuestra comunidad, como en los ámbitos de atención médica, alimentación, movilidad/automoción, cambio climático y sistemas de energía sostenibles. Se requieren inversiones sustanciales para garantizar que la industria tenga acceso a la litografía EUV de alta NA más allá de 2025 y para asegurar las capacidades de I+D relacionadas con procesos avanzados en Europa.

Este acuerdo de cooperación marca el inicio de la próxima fase de colaboración intensiva entre ASML e imec en el campo de EUV de alta NA. La primera fase de investigación de procesos se llevará a cabo en el laboratorio conjunto de High-NA de imec y ASML utilizando el primer escáner EUV de alta NA (TWINSCAN EXE:5000). imec y ASML colaboran con todos los principales fabricantes de chips y socios del ecosistema de materiales y equipos para preparar la tecnología para su implementación en producción en serie lo antes posible. En la siguiente fase, estas actividades se ampliarán en la línea piloto de imec en Lovaina (Bélgica) con el escáner EUV de última generación de alta NA (TWINSCAN EXE:5200).

Los planes para una colaboración más estrecha entre estos dos especialistas en semiconductores en el campo de la litografía y la medición forman parte de los ambiciosos planes de la Comisión Europea y sus Estados miembros (Chips Act, IPCEI), que buscan potenciar la innovación para abordar desafíos sociales. Una parte de la colaboración entre imec y ASML está registrada en una solicitud de IPCEI, que actualmente está siendo revisada por el gobierno neerlandés.

"ASML participa activamente en la fábrica piloto de alta tecnología de imec para apoyar la investigación en semiconductores y la innovación sostenible en Europa. Con la rápida expansión de la inteligencia artificial (IA) en áreas como procesamiento del lenguaje, visión por computadora y sistemas autónomos, la complejidad de las tareas aumenta. Por ello, es fundamental desarrollar tecnologías de chips que puedan satisfacer estos requisitos de cálculo sin agotar los valiosos recursos energéticos de nuestro planeta", explica Peter Wennink, presidente y director ejecutivo de ASML.

"Este compromiso de ASML, basado en más de 30 años de colaboración exitosa, envía una fuerte señal de nuestro inquebrantable compromiso de impulsar el avance de la tecnología de chips subnanométricos", añade Luc Van den hove, presidente y director ejecutivo de imec. "Esta colaboración demuestra la fortaleza que reside en la unidad dentro de la industria de chips. Con estos proyectos, inicialmente podemos fortalecer nuestras fortalezas regionales, pero también allanan el camino para una futura colaboración global, en la que socios de todo el mundo puedan beneficiarse de avances locales. Gracias a estos esfuerzos conjuntos, podemos acelerar verdaderamente la innovación y llevar la industria de semiconductores a nuevas alturas."