– Imec gibt bekannt, dass das ASML EXE:5200, das weltweit fortschrittlichste EUV-Lithografiesystem mit hoher numerischer Apertur (High NA), in seinem 300-mm-Reinraum in Leuven eingetroffen ist.
– Der Einsatz des High-NA-EUV-Systems in direkter Kombination mit modernsten Mess- und Strukturierungsanlag…
Auf der Fachtagung „Mikroelektronik-Forschung in Deutschland: von den Grundlagen zur Anwendung“, die zurzeit in Bochum stattfindet, wurde der ForLabKompetenzatlas freigeschaltet. Die Online-Plattform präsentiert die Hochtechnologie-Infrastruktur und die spezifischen Expertisen in der Mikroelektronik…
Am 02. März 2026 veröffentlichte die NanoIC-Pilotlinie, eine von imec koordinierte europäische Initiative zur Beschleunigung von Innovationen im Bereich der Chip-Technologien jenseits von 2 nm, zwei einzigartige fortschrittliche PDKs (Process Design Kits) für Verbindungstechnologien: ein PDK für Fin…
Wenn es um hochspezialisierte, kundenindividuelle Positionierlösungen geht, führt an Steinmeyer kein Weg vorbei. Auch in der Halbleiterindustrie gilt der Standort Dresden im „Silicon Saxony“ längst als Eldorado für das eigentlich Unmögliche, denn die Sachsen meistern als Europas größtes IKT-/Mikroel…
Am Standort in Mogliano Veneto hat die ALBA PCB Group einen zweiten Reinraum der Klasse 10.000 in Betrieb genommen. Die kontinuierlich dekontaminierte Umgebung ist speziell dafür ausgelegt, modernste Direct-Imaging-Technologien für Leiterplatten aufzunehmen.
Das kürzlich installierte LDI-Ledia-System…
Ausgestattet mit modernsten Werkzeugen, darunter das High-NA-EUV-Werkzeug von ASML, ist der Reinraum von Imec ein Eckpfeiler der NanoIC-Initiative, die sich mit der Entwicklung von Chip-Technologie unter 2 nm befasst. Genau vier Jahre, nachdem EU-Präsidentin Von der Leyen den European Chips Act ange…
Ein innovatives Mikrolaser-Konzept auf Basis von sogenannten Oberflächenemittern (VCSEL) hat das Fachgebiet „Optoelektronik und Quantenbauelemente“ der TU Berlin unter Leitung von Prof. Dr. Stephan Reitzenstein entwickelt. Bei den neuen Mikrolasern handelt es sich um vertikal aufgebaute Laserdioden…
Am 02. Februar 2026 gab die NanoIC-Pilotlinie, eine von imec koordinierte europäische Initiative zur Beschleunigung von Innovationen im Bereich der Chip-Technologien mit Strukturen kleiner als 2 nm, die Veröffentlichung von zwei neuen Prozessdesign-Kits (PDKs) bekannt: ein A14-Pathfinding-PDK für fo…
Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO) und imec gaben bekannt, dass sie gemeinsam einen für die Massenproduktion geeigneten 300-mm-Prozess entwickelt haben, der die Integration von Bariumtitanat (BaTiO3 oder BTO) auf einer Silizium-Photonik-Plattform ermöglicht. BTO ist ein vielversprechendes Materia…
Der weltweite Bedarf an Leistungselektronik und Chips für Anwendungen in den Bereichen Automotive, Kommunikation und Industrie wächst ungebremst. Doch viele der Produktionsstätten stammen aus einer anderen Zeit: 200-mm-Waferfabriken, die in den 1990er- und 2000er-Jahren entstanden sind, arbeiten noc…
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