Nowy rok, nowa praca? Sprawdź oferty! Więcej ...
ClearClean Piepenbrock Vaisala PMS
reinraum online
Niemiecki Angielski Francuski Węgierski Polski Czeski Włoski Hiszpański Niderlandzki

Wszystkie publikacje od Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS

FeFET wafer © Fraunhofer IPMS Ilustracja ferroelektrycznych elementów na bazie HfO₂, umożliwiających skalowalne, kompatybilne z CMOS nieulotne pamięci. Architektura wspiera integrację zarówno w strukturach pamięci na przednim (FeFET), jak i tylnym etapie, jednocześnie otwierając możliwości dla zaawansowanych funkcji ferroelektrycznych, takich jak multiferroiczne, piezoelektryczne i dostrajane elementy HF. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Elektronika (wafer, półprzewodniki, mikroczipy,...)

Udany wymiana magazynek dla materiałów ferroelektrycznych między Fraunhofer IPMS a CEA-Leti w ramach linii pilotażowej FAMES

Fraunhofer IPMS i CEA-Leti pomyślnie zakończyły pierwszy wymianę ferroelektrycznych wafli pamięciowych w ramach pilotażowej linii FAMES. Tym samym osiągnięto ważny kamień milowy na wspólnej europejskiej platformie dla zaawansowanych, osadzonych, nieulotnych technologii pamięci. Z tym sukcesem, pilot…
Nowy adapter pomiarowy do jednoczesnego kontaktowania do ośmiu par elektrod interdigitalnych. © Fraunhofer IPMS / New measurement adapter for simultaneous contacting of up to eight interdigital electrode pairs. © Fraunhofer IPMS Rozkład wybuchowy adaptera pomiarowego z pozycją układu AX1580. Czerwone gniazda kontaktują się z bramką, a gniazda SMA kontaktują się z każdą parą źródło-drain. © Fraunhofer IPMS / Widok rozbity adaptera pomiarowego pokazujący pozycję układu AX1580. Czerwone gniazda łączą się z bramką, natomiast gniazda SMA łączą się z każdą parą źródło-drain. © Fraunhofer IPMS Chip AX1580, 15x15 mm², z 8 parami złotych elektrod interdigitalnych o szerokości kanału 10 mm i długościach kanałów 2,5; 5, 10 i 20 µm. Sam chip może być używany jako elektroda bramki; tlenek bramki między bramką a elektrodami interdigitalnymi jest zazwyczaj SiO₂ o grubości 230 nm. © Fraunhofer IPMS / Chip AX1580, 15x15 mm², z 8 parami złotych elektrod interdigitalnych o szerokości kanału 10 mm i długościach kanałów 2,5; 5, 10 i 20 µm. Sam chip może być używany jako elektroda bramki; tlenek bramki między bramką a elektrodami interdigitalnymi jest zazwyczaj SiO₂ o grubości 230 nm. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Elektronika (wafer, półprzewodniki, mikroczipy,...)

Revolutionäre Chips für die Materialforschung

Fraunhofer IPMS zamyka lukę w charakteryzacji organicznych półprzewodników

Innowacyjne układy scalone Instytutu Fraunhofera ds. Mikrosystemów Fotonicznych IPMS rewolucjonizują charakteryzację materiałów organicznych i przyspieszają rozwój nowych zastosowań elektronicznych. Nowo opracowany adapter pomiarowy umożliwia po raz pierwszy jednoczesne podłączenie do ośmiu par elek…
Kontrolluntersuchungen im Wafer-Herstellungsprozess. © Fraunhofer IPMS / Kontrolldurchführung im Wafer-Herstellungsprozess. © Fraunhofer IPMS
  • ‌
  • Media ponowne (woda, gazy, ...)

Reines Wasser für eine nachhaltige Halbleiterproduktion

Fraunhofer IPMS, AlixLabs i NSS Water rewolucjonizują zrównoważone zarządzanie wodą oczyszczoną w produkcji półprzewodników

AlixLabs i NSS Water ogłaszają strategiczną współpracę nad rozwojem zrównoważonych i opłacalnych rozwiązań w zakresie zarządzania wodą wysokiej czystości (niem. ultra-pure water, UWP) w produkcji chipów. Ze względu na rosnące obawy związane z ciągłym wzrostem zużycia wody przez przemysł półprzewodni…
Eksperci z DIVE i Fraunhofer IPMS w czystym pomieszczeniu w Dreźnie. © Fraunhofer IPMS / Eksperci z DIVE i Fraunhofer IPMS w czystym pomieszczeniu w Fraunhofer IPMS w Dreźnie. © Fraunhofer IPMS Systemy obrazowania firmy DIVE umożliwiają bezinwazyjną kontrolę wafli. © DIVE imaging systems GmbH / Systemy obrazowania od DIVE do nieinwazyjnej kontroli wafli. © DIVE imaging systems GmbH
  • ‌
  • Urządzenia

Innowacyjne partnerstwo na rzecz oszczędzającej zasoby kontroli wafli

Fraunhofer IPMS i DIVE optymalizują procesy półprzewodnikowe za pomocą innowacyjnego systemu pomiarowego

Fraunhofer-Institut für photonische Mikrosysteme IPMS wspólnie z firmą DIVE imaging systems GmbH dokonał przełomowego kroku w kierunku oszczędnej produkcji półprzewodników. Dzięki udanej instalacji optycznego urządzenia pomiarowego firmy DIVE w czystym pomieszczeniu Fraunhofer IPMS można znacznie zm…
Podgląd NEWSLETTERÓW

Lepsza informacja: ROCZNIK, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA oraz KATALOG EKSPERTÓW

Bądź na bieżąco i subskrybuj nasz comiesięczny newsletter e-mail oraz NEWSFLASH i NEWSEXTRA. Dodatkowo dowiedz się z drukowanego ROCZNIKA, co dzieje się w świecie cleanroomów. A z naszego katalogu dowiesz się, kto jest EKSPERTEM w cleanroomie.

HJM Berner International GmbH C-Tec MT-Messtechnik