Innovatieve positioneringsoplossing voor DUV-lithografie

Ultrakompakte, hoogprecisie positioneringsoplossing voor waferbelichting in droge, zuurstofvrije stikstofatmosfeer. (Afbeelding: Steinmeyer Groep)

Voor de DUV-lithografie heeft Steinmeyer op de locatie in Dresden, Europa's grootste IKT-/micro-elektronica centrum, een ultracompacte, hoogprecisie positioneringsoplossing ontwikkeld voor waferbelichting in droge, zuurstofvrije stikstofatmosfeer. De innovatieve module is ontworpen als optionele add-on voor integratie in een bestaande machine en zet maatstaven op het gebied van compactheid, betrouwbaarheid en stofvrijheid.

Dankzij hun brede technologische expertise, uitgebreide engineeringkennis, diepgaand toepassingsbegrip en grote ervaring is de Steinmeyer Groep een gewilde partner bij de constructie, ontwikkeling en productie van geavanceerde positioneringsoplossingen voor de wafer- en chipproductie. Een uitstekend voorbeeld van de hoge oplossingscompetentie op de locatie Dresden is de aanvullende polarisatiefilter voor miniaturisering en automatisering in de DUV-lithografie.

Aanvullende polarisatiefilter voor de DUV-lithografie

De DUV-polarisatiefilter is met afmetingen van ongeveer 120 x 180 x 31 mm uiterst compact gebouwd. Op een hoogte van slechts 15 mm bevinden zich drie vlakke filters die in het lichtpad van de optische installatie verschoven kunnen worden en onafhankelijk van elkaar kunnen worden gepositioneerd. De relatieve positie van de drie filters ten opzichte van elkaar bepaalt de gewenste filtereigenschap. De aandrijving gebeurt via een glijspindel (verplaatsing 75 mm) en elektronisch commuterende DC-motoren. Elk filter beschikt over een eigen aandrijflijn, die ter bescherming tegen de DUV-straling met een stalen plaat is afgedekt. Het systeem werkt droog, biedt nauwkeurigheden tot 1,5 µm en is onderhoudsvrij en flexibel inzetbaar 24/7, met vele duizenden verplaatsingscycli (verdeeld over 10 jaar).

Extreem stofvrij lopende glijspindel

De miniatuur-glijspindel is het hart van de module. Deze is speciaal ontwikkeld op de locatie in Suhl voor toepassingen in de DUV-lithografie en behoort met een spindeldiameter van slechts 3 mm en een spindellengte van 112 mm tot de kleinste op de markt in deze precisie. Het innovatieve materiaalpaar - de moer bestaat uit hoogwaardig kunststof PEEK en de spindel uit roestvrij staal - maakt onder extreme omgevingsomstandigheden in de DUV-lithografie een optimale glijbaarheid, warmteafvoer en mechanische stabiliteit mogelijk.

Gewilde partner in de halfgeleiderindustrie

Of het nu gaat om handling, inspectie of montage, of het nu HV-, UHV- of EUV-positionering betreft: Steinmeyer heeft decennia lange ervaring in de constructie en productie van positioneringssystemen voor halfgeleider toepassingen en beschikt over speciale knowhow op het gebied van tribologie en smering in droge, zuurstofvrije omgevingen zoals vacuüm en zuiver stikstof. Hierdoor is de onderneming in staat om ook voor veeleisende taken betrouwbare, economische oplossingen te realiseren. De beproefde systemen worden klant-specifiek aangepast aan de toepassingsgerichte eisen – van het testlaboratorium tot de geautomatiseerde halfgeleiderfabriek en volgens ISO 14644-1 klasse 1. Alle fabricageonderdelen worden vacuümgeschikt ontworpen en na productie apart gereinigd. De montage vindt plaats in een gecertificeerde cleanroom van ISO klasse 6. Variabele ruimtelijke capaciteit van meer dan 3.900 m2 garandeert een uitzonderlijke flexibiliteit. Een uitbreiding van de cleanroom wordt volgend jaar afgerond. Een cleanroomgeschikte verpakking met stikstof-inertgasvulling beschermt het eindproduct tijdens transport.