Inovativní řešení polohování pro DUV-litografii

Ultrakompaktní, vysoce přesné řešení pro umístění na waferu při expozici v suché, bezkyslíkové atmosféře dusíku. (Obrázek: Steinmeyer Gruppe)

Pro DUV-litografii vyvinula společnost Steinmeyer na svém místě v Drážďanech, největším centru IKT/mikroelektroniky v Evropě, ultrakompaktní, vysoce přesné řešení pro polohování pro osvětlení waferů v suchém, bezkyslíkovém dusíkovém prostředí. Tato inovativní sestava je navržena jako volitelný doplněk pro integraci do stávajícího stroje a nastavuje měřítka v oblasti kompaktnosti, spolehlivosti a nízkého počtu částic.

Díky své široké technologické kompetenci, komplexní inženýrské expertíze, hlubokému porozumění aplikacím a velkým zkušenostem je skupina Steinmeyer žádaným partnerem při konstrukci, vývoji a výrobě náročných řešení pro polohování v oblasti výroby waferů a čipů. Příkladem vysoké schopnosti řešení na místě v Drážďanech je doplňující polarizační filtr pro miniaturizaci a automatizaci v DUV-litografii.

Doplňující polarizační filtr pro DUV-litografii

Polarizační filtr DUV je extrémně kompaktní s rozměry cca 120 x 180 x 31 mm. Na výšce pouhých 15 mm jsou umístěny tři ploché filtry, které se posouvají v optickém cestě zařízení a jsou nezávisle na sobě polohovatelné. Relativní poloha tří filtrů vůči sobě určuje požadovanou vlastnost filtru. Pohon je zajištěn pomocí posuvného šroubového pohonu (zdvih 75 mm) a elektronicky komutovaných stejnosměrných motorů. Každý filtr má vlastní pohonný řetězec, který je chráněn před DUV zářením ocelovým plechem. Systém je suchý, umožňuje přesnosti až 1,5 µm a nabízí bezúdržbový a flexibilní provoz 24/7 přes mnoho tisíc cyklů posunu (rozložených na 10 let).

Extrémně nízký počet částic u posuvného šroubového pohonu

Miniaturní posuvný šroubový pohon je srdcem sestavy. Byl speciálně vyvinut v Suhlu pro použití v DUV-litografii a patří s průměrem hřídele pouhých 3 mm a délkou 112 mm k nejmenším na trhu v této přesnosti. Inovativní kombinace materiálů – matice vyrobena z vysoce výkonného plastu PEEK a hřídel z nerezové oceli – umožňuje i za extrémních podmínek v prostředí DUV-litografie optimální kluznost, odvod tepla a mechanickou stabilitu.

Žádaný partner polovodičového průmyslu

Ať už se jedná o manipulaci, inspekci nebo montáž, o HV-, UHV- či EUV-polohování: skupina Steinmeyer má desetileté zkušenosti s konstrukcí a výrobou systémů pro polohování v aplikacích v polovodičovém průmyslu a disponuje speciálními znalostmi tribologie a mazání v suchých, bezkyslíkových prostředích, jako je vakuum a čistý dusík. Díky tomu je schopna realizovat spolehlivá, ekonomická řešení i pro náročné úkoly. Ověřené systémy jsou přizpůsobeny specifickým požadavkům zákazníků – od testovacích laboratoří po automatizované polovodičové továrny až po ISO 14644-1 třídy 1. Všechny výrobní díly jsou navrženy tak, aby vyhovovaly vakuovým podmínkám, a po výrobě jsou zvlášť čištěny. Montáž probíhá v certifikované čisté místnosti třídy ISO 6. Variabilní kapacity místností přesahující 3 900 m² zajišťují mimořádnou flexibilitu. Rozšíření čisté místnosti bude dokončeno v příštím roce. Čisté balení s inertní náplní dusíku chrání hotový produkt při přepravě.