Soluzione innovativa di posizionamento per la litografia DUV

Soluzione di posizionamento ultracompatta e ad alta precisione per l'esposizione di wafer in un'atmosfera di azoto secco e priva di ossigeno. (Immagine: Gruppo Steinmeyer)

Per la litografia DUV, Steinmeyer ha sviluppato presso la sede di Dresda, il più grande centro ICT/microelettronica d'Europa, una soluzione di posizionamento ultracompatta e ad alta precisione per l'esposizione di wafer in un'atmosfera di azoto secco e privo di ossigeno. Il modulo innovativo è progettato come optional da integrare in una macchina esistente e stabilisce nuovi standard in termini di compattezza, affidabilità e bassa produzione di particelle.

Grazie alla sua ampia competenza tecnologica, alla sua approfondita esperienza ingegneristica, alla sua profonda comprensione delle applicazioni e alla vasta esperienza, il gruppo Steinmeyer è un partner richiesto nella progettazione, nello sviluppo e nella produzione di soluzioni di posizionamento avanzate per la produzione di wafer e chip. Un esempio emblematico della elevata competenza di soluzione presso la sede di Dresda è il filtro di polarizzazione complementare per la miniaturizzazione e l'automazione nella litografia DUV.

Filtro di polarizzazione complementare per la litografia DUV

Il filtro di polarizzazione DUV ha dimensioni di circa 120 x 180 x 31 mm ed è estremamente compatto. A un'altezza di appena 15 mm, sono alloggiati tre filtri piani che si spostano lungo il percorso del raggio dell'impianto ottico e sono indipendenti tra loro in termini di posizionamento. La relazione relativa tra i tre filtri determina la proprietà di filtraggio desiderata. Il movimento avviene tramite vite a ricircolo di sfere (corsa di 75 mm) e motori DC a commutazione elettronica. Ogni filtro dispone di un proprio sistema di azionamento, protetto da una piastra in acciaio per la protezione contro le radiazioni DUV. Il sistema funziona in modalità dry-run, consente precisioni fino a 1,5 µm e garantisce un funzionamento senza manutenzione e flessibile 24/7 per molte migliaia di cicli di posizionamento (distribuiti su 10 anni).

Vite a ricircolo di sfere a basso contenuto di particelle

La vite a ricircolo di sfere miniaturizzata è il cuore del modulo. È stata sviluppata presso la sede di Suhl appositamente per applicazioni di litografia DUV e, con un diametro di spindola di soli 3 mm e una lunghezza di 112 mm, è tra le più piccole sul mercato in questa precisione. La coppia di materiali innovativa – la madrevite in plastica ad alte prestazioni PEEK e la vite in acciaio inossidabile non arrugginente – permette, anche in condizioni ambientali estreme della litografia DUV, un'ottimale scorrevolezza, dissipazione del calore e stabilità meccanica.

Partner richiesto dall'industria dei semiconduttori

Che si tratti di handling, ispezione o montaggio, di posizionamento HV, UHV o EUV: Steinmeyer ha decenni di esperienza nella progettazione e produzione di sistemi di posizionamento per applicazioni nel settore dei semiconduttori e possiede competenze specifiche in tribologia e lubrificazione in atmosfere secche e prive di ossigeno come vuoto e azoto puro. Grazie a ciò, il gruppo aziendale è in grado di realizzare soluzioni affidabili ed economiche anche per compiti sfidanti. I sistemi collaudati vengono personalizzati in base alle esigenze specifiche dell'applicazione – dal laboratorio di prova alla fabbrica di semiconduttori automatizzata fino alla norma ISO 14644-1 classe 1. Tutti i componenti di produzione sono progettati per il vuoto e sottoposti a pulizia separata dopo la produzione. L'assemblaggio avviene in una camera bianca certificata di classe ISO 6. Capacità variabili di oltre 3.900 m2 garantiscono un'elevata flessibilità. L'ampliamento della camera bianca sarà completato nel prossimo anno. Un imballaggio conforme alle norme di camera bianca, con riempimento di azoto inerte, protegge il prodotto finito durante il trasporto.