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La nouvelle PowerPulse CNp avec ultrasons nécessite seulement 2,2 m² d'espace de stationnement et dispose d'une filtration en courant complet ainsi que d'un séchage sous vide infrarouge. (Photo : LPW) Le panneau de commande est intuitif à utiliser, même via une tablette ou un smartphone. (Photo : LPW) Les cuvettes ont une capacité utile de 55 litres pour les porte-conteneurs jusqu'à la taille Schäfer 2. (Photo : LPW)
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Nouveau de LPW : Système PowerPulse CNp avec ultrasons

Haute performance dans un environnement de production

Il nécessite un espace minimal et offre une technologie de haute pureté maximale : la nouvelle PowerPulse CNp avec ultrasons de LPW Reinigungssysteme GmbH. L'installation compacte semi-automatique a été conçue pour des applications industrielles exigeantes dans un environnement de production et…

Afin de garantir que les substances éventuellement présentes à l'extérieur des fioles lors du remplissage ne présentent aucun danger pour l'homme et l'environnement, un nettoyage extérieur des contenants est de plus en plus souvent effectué. (Source de l'image : Bausch+Ströbel) Dans le but de réduire de manière significative la consommation de ressources lors du nettoyage de produits médicaux et pharmaceutiques, la compatibilité matérielle et la cytotoxicité du nettoyage par jet de neige sèche quattroClean ont été étudiées avec succès dans le cadre d'un projet collaboratif. (Source de l'image : acp Systems) Les images microscopiques des flacons présentant des dommages existants montrent que les défauts n'ont pas changé avant (à gauche) et après (à droite) le nettoyage Worst Case avec la neige de CO₂. (Source de l'image : Fraunhofer IPA) Résultats des analyses avec différentes substances de test avant et après le nettoyage. (Source de l'image : Bausch+Ströbel)
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Neige au lieu d'eau hautement pure

Nettoyage sûr et respectueux des ressources des emballages pharmaceutiques après le remplissage

Le nettoyage extérieur des emballages pharmaceutiques tels que bouteilles, flacons et carcules après le remplissage empêche d'éventuels résidus de produit adhérents de devenir une menace pour l'homme et l'environnement. Ce processus, jusqu'à présent basé sur des liquides, consomme d'énorme…

  • Électronique (wafers, semi-conducteurs, microprocesseurs,...)

Une étape importante sur la voie vers l'ère d'Ångstrøm

Imec reçoit le système EUV à haute NA le plus avancé au monde

— Imec annonce que le système de lithographie EUV High-NA ASML EXE:5200, le plus avancé au monde, est arrivé dans sa salle blanche de 300 mm à Louvain.
— L'utilisation du système EUV High-NA en combinaison directe avec des équipements et matériaux de mesure et de structuration de pointe accélère le…

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