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Alle Veröffentlichungen zur Rubrik Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Der Reinraum von Imec bildet die Grundlage für die PDKs von NanoIC, die auf 2-nm-Prozessabläufen basieren. (Bild: Imec) / Imec’s cleanroom provides the foundation for NanoIC’s PDKs, based on 2 nm process flows. (Photo: Imec)
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  • Workshop / Lehrgang

Umfangreiches Update des Pathfinding N2 P-PDK von NanoIC ermöglicht Forschern und Entwicklern, sich mit vollständigen SoC-Architekturen vertraut zu machen und Innovationen voranzutreiben.

NanoIC erweitert sein bahnbrechendes N2-PDK um fortschrittliche SRAM-Speichermakros

NanoIC-Pilotlinie, eine von imec koordinierte europäische Initiative zur Beschleunigung von Innovationen im Bereich der Chip-Technologien jenseits von 2 nm, kündigte die Veröffentlichung des N2 P-PDK v1.0 an, einem wichtigen Update ihres N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK). Diese Version en…
Abbildung 1 - (links) Übertragungskurven von 2D-pFET-Bauelementen mit defektpassivierten, synthetisch hergestellten WSe2-Schichten, wobei das beste Bauelement Imax = 690µA/µm aufweist; (rechts) TEM-Querschnitt des fertigen 2D-pFET mit doppeltem Gate (Lch= Kanallänge; TG=Top-Gate; BG=Back-Gate; S=Source; D=Drain; IL=Interlayer), in Zusammenarbeit mit TSMC. / Figure 1 – (Left) Transfer curves of 2D-pFET devices using defect-passivated synthetically-created bi-layer WSe2 films, with best device showing Imax = 690µA/µm; (right) TEM cross-section of finalized dual-gated 2D pFET (Lch=channel length TG=top gate; BG=back gate; S=source; D=drain; IL=interlayer), in collaboration with TSMC. Abbildung 2 - (a) Trockenätzung in SiO2; (b) Trocken- und Nassätzung, die selektiv auf dem WS2-Monolayer-Kanal gestoppt wird, wobei auch die AlOx-Zwischenschicht über die gesamte Kanallänge entfernt wird (in Zusammenarbeit mit Intel). / Figure 2 – (a) Trench dry etch into SiO2; (b) dry and wet etch selectively stopping on the monolayer WS2 channel, also causing AlOx interlayer lateral removal along the full channel length (in collaboration with Intel).
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  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Die Zusammenarbeit mit führenden Halbleiterherstellern ist entscheidend für die Optimierung der entscheidenden Module für die Integration von 2D-Materialien in Bauelemente

Imec entwickelt die auf 2D-Materialien basierende Bausteintechnologie weiter, um die Roadmap für die zukünftige Logiktechnologie zu unterstützen

– In Zusammenarbeit mit führenden Halbleiterherstellern befasste sich Imec mit den wichtigsten Herausforderungen bei der Weiterentwicklung der 2D- Bausteintechnologie, die als langfristige Option für die Erweiterung der Roadmap der Logiktechnologie gilt.
– Die Zusammenarbeit mit TSMC führte zu pFETs…
Imec leistet Pionierarbeit bei der Herstellung von Festkörper-Nanoporen im Wafer-Maßstab (300 mm) mit EUV-Lithographie, wie auf dem Foto zu sehen. © imec / Imec pioneers full wafer-scale (300mm) production of solid-state nanopores with EUV lithography, as shown on photo. © imec Querschnitt und Aufsicht im TEM: Die hergestellte Halbleiter-Nanopore. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore, Querschnitt und Aufsicht im TEM: Die hergestellte Halbleiter-Nanopore. / Cross-sectional and top-view TEM of the fabricated solid-state nanopore,
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  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Durchbruch ermöglicht skalierbare, hochpräzise Biosensorik-Anwendungen in Biowissenschaften und in der Medizintechnik

Imec demonstriert erstmals mittels EUV-Lithographie die Herstellung von Halbleiter-Nanoporen im Wafermaßstab

1. Imec hat die erste erfolgreiche Herstellung von Halbleiter-Nanoporen im Wafer-Maßstab mittels EUV-Lithographie auf 300mm-Wafern erreicht. Diese Innovation verwandelt die Nanoporen-Technologie von einem Konzept im Labormaßstab in eine skalierbare Plattform für Biosensorik, Genomik und Proteomik.
2. Na…
Laserentwicklung bei TRUMPF (Bildquelle: TRUMPF) / Laser development at TRUMPF (Photo: TRUMPF)
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  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Entwicklung von Quantenalgorithmen // Gemeinsames Projekt von TRUMPF, Fraunhofer Institut für Lasertechnik ILT und FU Berlin // Effizienzsteigerung in der Lasertechnik angestrebt

Forschungsprojekt: TRUMPF will mit Quantencomputern seine Laser verbessern

Das Hochtechnologieunternehmen TRUMPF, das Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILT und das Dahlem Center for Complex Quantum Systems am Fachbereich Physik der Freien Universität Berlin erforschen die Grundlagen der Laserphysik mit Hilfe von Quantenalgorithmen. Das langfristige Ziel ist, mit Quant…
Das MP220-4 von Steinmeyer Mechatronik ist eine kompakte, wirtschaftliche und präzise Alternative zu Hexapod-Systemen – ideal für Active-Alignment-Prozesse in der Halbleiter- und Optikfertigung. (Bild: Steinmeyer Gruppe)
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  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Innovatives Positioniersystem für kombinierte XY- und Tip/Tilt-Bewegungen

Hochpräzise Active-Alignment-Lösung für Optik- und Halbleiteranwendungen

Mit dem MP220-4 bietet Steinmeyer Mechatronik, ein Unternehmen der Steinmeyer-Gruppe, ein hochpräzises XYZ Tip-Tilt Positioniersystem für optische und aktive Ausrichtprozesse in der Optik- und Halbleiterfertigung jetzt auch für höhere Lasten. Die Lösung vereint exzellente Präzision, hohe Leben…
Der Reinraum von Imec bildet die Grundlage für die PDKs von NanoIC, die auf 2-nm-Prozessabläufen basieren. / Imec’s cleanroom provides the foundation for NanoIC’s PDKs, based on 2 nm process flows.
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Umfangreiches Update des Pathfinding N2 P-PDK von NanoIC ermöglicht Forschern und Entwicklern, sich mit vollständigen SoC-Architekturen vertraut zu machen und Innovationen voranzutreiben.

NanoIC erweitert sein bahnbrechendes N2-PDK um fortschrittliche SRAM-Speichermakros

Diese Woche kündigt die NanoIC-Pilotlinie, eine von imec koordinierte europäische Initiative zur Beschleunigung von Innovationen im Bereich der Chip-Technologien jenseits von 2 nm, auf der SEMICON Europe die Veröffentlichung des N2 P-PDK v1.0 an, einem wichtigen Update ihres N2 Pathfinding Proces…
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