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Tutte le pubblicazioni per la rubrica Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

La camera bianca di Imec costituisce la base per i PDK di NanoIC, basati su processi di 2 nm. (Immagine: Imec) / La cleanroom di Imec fornisce la base per i PDK di NanoIC, basati su flussi di processo da 2 nm. (Foto: Imec)
  • Workshop / Corso

Aggiornamento completo del Pathfinding N2 P-PDK di NanoIC consente a ricercatori e sviluppatori di familiarizzare con architetture SoC complete e di promuovere l'innovazione.

NanoIC amplia il suo rivoluzionario N2-PDK con avanzati macro di memoria SRAM

NanoIC-Pilotlinie, un'iniziativa europea coordinata da imec per accelerare l'innovazione nel settore delle tecnologie chip oltre i 2 nm, ha annunciato la pubblicazione del N2 P-PDK v1.0, un importante aggiornamento del loro N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK). Questa versione include diverse n…

Figura 1 - (A sinistra) Curve di trasferimento di dispositivi 2D-pFET con strati di WSe2 sintetici passivati dai difetti, con il miglior dispositivo che mostra Imax = 690µA/µm; (a destra) Sezione TEM del 2D-pFET a doppia gate completato (Lch=lunghezza del canale; TG=top-gate; BG=back-gate; S=source; D=dreno; IL=interstrato), in collaborazione con TSMC. Figura 2 – (a) Incisione a secco in SiO2; (b) incisione a secco e umido che si ferma selettivamente sul canale monostrato di WS2, causando anche la rimozione laterale dello strato intermedio di AlOx lungo tutta la lunghezza del canale (in collaborazione con Intel).
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

La collaborazione con i principali produttori di semiconduttori è fondamentale per ottimizzare i moduli chiave per l'integrazione dei materiali 2D negli elementi

Imec sviluppa ulteriormente la tecnologia dei blocchi basata su materiali 2D per supportare la roadmap della futura tecnologia logica

– In collaborazione con i principali produttori di semiconduttori, Imec si è occupata delle principali sfide nello sviluppo della tecnologia dei dispositivi 2D, considerata un'opzione a lungo termine per l'espansione della roadmap della tecnologia logica.
– La collaborazione con TSMC ha portato a pFE…

Imec fa il lavoro di pionieri nella produzione di nanopori a stato solido su scala wafer (300 mm) con litografia EUV, come si può vedere nella foto. © imec / Imec pioneers full wafer-scale (300mm) production of solid-state nanopores with EUV lithography, as shown on photo. © imec Sezione trasversale e vista dall'alto al TEM della nanoporo a stato solido fabbricata, Sezione trasversale e vista dall'alto al TEM della nanoporo a stato solido realizzata,
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

Il breakthrough consente applicazioni di biosensori scalabili e ad alta precisione nelle scienze della vita e nella tecnologia medica

Imec dimostra per la prima volta tramite litografia EUV la produzione di nanopori semiconduttori in wafer di dimensioni standard

1. Imec ha raggiunto la prima produzione di nanopori semiconduttori su scala wafer mediante litografia EUV su wafer da 300 mm. Questa innovazione trasforma la tecnologia dei nanopori da un concetto di laboratorio a una piattaforma scalabile per biosensori, genomica e proteomica.
2. I nanopori sono ce…

Sviluppo laser presso TRUMPF (Fonte immagine: TRUMPF) / Sviluppo laser presso TRUMPF (Foto: TRUMPF)
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

Sviluppo di algoritmi quantistici // Progetto congiunto di TRUMPF, Fraunhofer Institut für Lasertechnik ILT e FU Berlino // Aumento dell'efficienza nella tecnologia laser

Progetto di ricerca: TRUMPF vuole migliorare i suoi laser con i computer quantistici

La società high-tech TRUMPF, l'Istituto Fraunhofer per la tecnologia laser ILT e il Dahlem Center for Complex Quantum Systems del Dipartimento di Fisica dell'Università libera di Berlino studiano le basi della fisica laser con l'aiuto di algoritmi quantistici. L'obiettivo a lungo termine è di acc…

Il MP220-4 di Steinmeyer Mechatronik è un'alternativa compatta, economica e precisa ai sistemi esapodi – ideale per i processi di Active-Alignment nella produzione di semiconduttori e ottica. (Immagine: Gruppo Steinmeyer)
  • Elettronica (wafer, semiconduttori, microchip,...)

Sistema di posizionamento innovativo per movimenti combinati XY e Tip/Tilt

Soluzione di allineamento attivo ad alta precisione per applicazioni ottiche e di semiconduttori

Con il MP220-4, Steinmeyer Mechatronik, una società del gruppo Steinmeyer, offre un sistema di posizionamento XYZ Tip-Tilt ad alta precisione per processi di allineamento ottico e attivo nel settore dell'ottica e della produzione di semiconduttori, ora anche per carichi più elevati. La soluzione c…

Il cleanroom di Imec costituisce la base per i PDK di NanoIC, basati su processi di 2 nm.
  • Workshop / Corso

Aggiornamento approfondito del Pathfinding N2 P-PDK di NanoIC consente a ricercatori e sviluppatori di familiarizzare con architetture SoC complete e di promuovere innovazioni.

NanoIC amplia il suo rivoluzionario N2-PDK con avanzati macro di memoria SRAM

Questa settimana la NanoIC-Pilotlinie, un'iniziativa europea coordinata da imec per accelerare l'innovazione nel settore delle tecnologie dei chip oltre i 2 nm, annuncia a SEMICON Europe la pubblicazione del N2 P-PDK v1.0, un importante aggiornamento del loro N2 Pathfinding Process Design Kit (P-PDK…

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