Neues Jahr, neuer Job? Zu den Angeboten! Mehr ...
Piepenbrock C-Tec Pfennig Reinigungstechnik GmbH PMS



Alle Veröffentlichungen zur Rubrik Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Vertreter der zwölf Konsortiumsmitglieder versammelten sich im Internationalen Iberischen Nanotechnologielabor in Braga, Portugal. / Representatives of the twelve consortium members gathered at the International Iberian Nanotechnology Laboratory in Braga, Portugal.
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Das Konsortium ermöglicht europäischen Start-ups, kleinen und mittleren Unternehmen sowie Forschungsorganisationen im Bereich der Halbleiterfertigung den Zugang zu Designinfrastruktur, Schulungen und Kapital.

Imec koordiniert EU Chip Design Platform

Im Rahmen des European Chips Act wurde ein Konsortium aus 12 europäischen Partnern unter der Koordination von imec ausgewählt, um die EU-Chips-Design Platform zu entwickeln. Die von Chips JU (European Joint Undertaking for Semiconductor Research and Innovation) finanzierte Plattform wird fabless Hal…

Starke Nachfrage aus dem Pharma- und Halbleitersektor führt zu Erweiterung des chinesischen Vertriebsnetzes. (Copyright: LUM GmbH)
  • Unternehmen

LUM GmbH und Alpharmaca Inc. starten Zusammenarbeit im Februar

Starke Nachfrage aus dem Pharma- und Halbleitersektor führt zu Erweiterung des chinesischen Vertriebsnetzes

Im Februar 2025 hat die LUM GmbH eine strategische Vertriebspartnerschaft mit der chinesischen Firma Alpharmaca Inc. mit Sitz in Shanghai begonnen, um der starken Nachfrage aus dem pharmazeutischen Bereich und aus dem Halbleitersektor nachzukommen und den Kunden auch mit hoher lokaler Expertise bei…

Abbildung 1 – Top-down-REM-Aufnahmen von Mäandern (links) und Gabeln (rechts) mit 20 nm Abstand nach der Musterübertragung in eine TiN-Hartmaske. / Figure 1 - Top-down SEM pictures of 20nm pitch meanders (left) and forks (right) after pattern transfer into TiN hard mask. Abbildung 2 – TEM-Bild metallisierter Drähte mit 20 nm Abstand nach einem chemisch-mechanischen Poliervorgang (CMP). / Figure 2 - TEM picture of metallized 20nm pitch wires after a chemical mechanical polishing (CMP) step.
  • Elektronik (Wafer, Halbleiter, Mikrochips,...)

Erste elektrische Tests mit 20 nm Pitch stellen einen weiteren Meilenstein bei der Validierung des High NA Extreme Ultraviolet (EUV) Patterning Ecosystem dar

Imec belegt die elektrische Leistungsfähigkeit von Metallleitungen mit einem Pitch von 20 nm, die mit High NA EUV Single Patterning hergestellt wurden

Diese Woche präsentiert imec, ein weltweit führendes Forschungs- und Innovationszentrum für Nanoelektronik und digitale Technologien, auf der SPIE Advanced Lithography + Patterning die ersten Ergebnisse des elektrischen Tests (e-test), die mit Metallleitungsstrukturen mit einem Pitch von 20 nm erzie…

Besser informiert: Mit JAHRBUCH, NEWSLETTER, NEWSFLASH, NEWSEXTRA und EXPERTEN VERZEICHNIS

Bleiben Sie auf dem Laufenden und abonnieren Sie unseren monatlichen eMail-NEWSLETTER und unseren NEWSFLASH sowie NEWSEXTRA. Lassen Sie sich zusätzlich mit unserem gedruckten JAHRBUCH darüber informieren, was in der Welt der Reinräume passiert. Und erfahren Sie mit unserem Verzeichnis, wer die EXPERTEN im Reinraum sind.

Hydroflex Systec & Solutions GmbH Buchta Becker