Tak element trafia czysto do pomieszczenia czystego

Wymagania dotyczące łańcucha procesów uległy znacznej zmianie w związku ze zwiększonymi wymaganiami dotyczącymi czystości. Dotyczy to między innymi interfejsu między techniką przemysłowego czyszczenia a czystym pomieszczeniem. (Zdjęcie/rysunek: LPW)

Spojrzenie na czystą izbę w Centrum Testowym i Usługowym LPW. Nowe wymagania wymagają najbardziej czystych warunków otoczenia. (Zdjęcie/rysunek: LPW)

Ostatecznie, brama jakościowa systemu czyszczenia, oprócz zapewnienia określonego poziomu czystości komponentów, musi zapewnić proces transferu z środowiska produkcyjno-montażowego do czystych warunków środowiskowych (np. do pomieszczenia czystego). (Zdjęcie/rysunek: LPW)

Gerhard Koblenzer jest dyrektorem generalnym firmy LPW Reinigungssysteme GmbH w Riederich. (Zdjęcie/ grafika: LPW)

Nowe produkty, skomplikowane geometrie, najwyższe wymagania dotyczące czystości – technika przemysłowego czyszczenia stoi wobec szerokich i głębokich, a także szybkich zmian we wszystkich segmentach. To, co dziś działało, może jutro już być zupełnie inne. Gdzie i jak więc znaleźć bezpieczeństwo, znaleźć wspólny wątek, jeśli chodzi o wymaganą stopień czystości technicznej? A także o płynny transfer z środowiska produkcyjnego do czystego pomieszczenia? „Rozwiązanie nie leży początkowo w projektowaniu procesu czyszczenia czy samego przejścia do czystego pomieszczenia” – mówi Gerhard Koblenzer, CEO LPW Reinigungssysteme GmbH w Schwäbisch Riederich. Przede wszystkim chodzi o ocenę procesu poprzedzającego czyste pomieszczenie, którego podstawą jest ostatecznie wymagana czystość w miejscu użycia. W wywiadzie dla REINRAUM ONLINE Gerhard Koblenzer wyjaśnia między innymi, jakie czynniki wpływają na proces i jak na nowo ocenić i dostosować jakość procesów wstępnych, aby w ogóle osiągnąć wyższe wymagania dotyczące czystości.

1. Panie Koblenzer, zanim zagłębimy się w temat – co się zmieniło w porównaniu do przeszłości?

Gerhard Koblenzer: „Kiedyś w segmencie czyszczenia precyzyjnego i ultra-precyzyjnego główny nacisk kładziono na cząstkowe i filmowe zanieczyszczenia, które wpływały na zdolność do obróbki cieplnej lub na zdolność lakierowania i powlekania, dziś natomiast skupia się na molekułach i atomach, toksycznych i biologicznych pozostałościach – czyli minimalnych zanieczyszczeniach. W bezpośredniej konsekwencji rosną wymagania wobec procesów. Na scenę wchodzą nowe czynniki wpływu. Na przykład, potencjalne zanieczyszczenia z procesów wstępnych, takich jak obróbka skrawaniem, obróbka powierzchni, powlekanie oraz montaż i obsługa, muszą być znacznie bardziej uwzględniane niż wcześniej, a pytanie brzmi, czy można ich uniknąć lub przynajmniej utrzymać je na stabilnym poziomie. Ponadto, jakość stosowanych mediów i wpływ warunków otoczenia muszą być oceniane na nowo, ponieważ mają kluczowe znaczenie dla osiągnięcia celów. Tak, i wszystko to stanowi nowość w wielu branżach przemysłowych.”

2. Z jakimi wyzwaniami branża, szczególnie w segmencie czystych pomieszczeń, musi się zmierzyć?

Gerhard Koblenzer: „Sam proces czyszczenia jest już wyzwaniem pod względem odpowiednich metod, chemii i systemów przygotowania mediów zgodnie z wymaganiami. Do tego dochodzi rosnące znaczenie zapobiegania powrotnej i krzyżowej kontaminacji. Co najmniej równie ważne są trzy kolejne aspekty: Jak zapewnić czysty transfer z środowiska produkcyjnego do czystego pomieszczenia poprzez proces czyszczenia? Jak można te procesy zwalidować? I jakie to ma konsekwencje dla monitorowania procesu oraz zbierania danych na poziomie partii? Szczególnie w przypadku pierwszego z nich wiele podejść kończy się niepowodzeniem. Przyczynami są często nieaktualne myślenie oraz brak komunikacji między producentem urządzeń, budowniczym czystych pomieszczeń i klientem. Muszą oni otwarcie i celowo rozmawiać na tematy takie jak czystość interfejsu czystego pomieszczenia czy rozmieszczenie techniki czyszczącej, aby wykluczyć wszystkie czynniki ryzyka ponownego zanieczyszczenia.”

3. Jak wygląda rozwiązanie, aby element został czysto wprowadzony do czystego pomieszczenia? Czy istnieje jakiś plan działania?

Gerhard Koblenzer: „Wysokie wymagania dotyczące czystości wymagają dostosowania wszystkich procesów do unikania i eliminacji niepożądanych zanieczyszczeń aż do ostatecznego miejsca użycia. Celem jest przestrzeganie obowiązującej specyfikacji czystości aż do momentu użycia. Wracając do analogii z planem jazdy, zaczynamy od procesów wstępnych. Muszą one być tak zaprojektowane, aby zapewnić czystość i możliwość czyszczenia elementów, czyli ich „czystość możliwa do usunięcia”. Podczas całej „podróży” chodzi o konsekwentne unikanie powrotnej i krzyżowej kontaminacji, na przykład ze względu na warunki otoczenia, stosowane media czy wpływ obsługi i automatyzacji. Oczywiście, podczas samego procesu czyszczenia nie można wprowadzać nowych zanieczyszczeń mechaniką, procesami czy chemikaliami. Chodzi więc o ocenę każdego etapu, czy wspiera on lub przeszkadza w osiągnięciu celu.”

4. Jak LPW radzi sobie z tymi zadaniami i zmianami?

Gerhard Koblenzer: „Przewidzieliśmy te zmiany i już ponad dziesięć lat temu intensywnie zajmowaliśmy się reorganizacją w kluczowych dla nas na całym świecie branżach. W efekcie stopniowo dostosowywaliśmy nasze struktury, produkty i usługi. Na początku najważniejsza była transformacja techniki maszynowej i procesowej oraz odpowiednie szkolenie pracowników. Ponadto rozbudowaliśmy infrastrukturę, tworząc wysokoczyste laboratoria i strefy testowe, aby móc znacznie rozwinąć ofertę usług. Należy do nich między innymi nasze inżynieria aplikacyjna, wspierająca klientów w planowaniu i optymalizacji wysokoczystych procesów produkcyjnych. Co więcej, posiadamy czysto pomieszczenia do usług czyszczenia na zlecenie, specjalnie dostosowane do nowych wyzwań. Na koniec, w ubiegłym roku opracowaliśmy standardowe koncepcje urządzeń, które pozwalają naszym mniejszym i średnim klientom przemysłowym stopniowo inwestować, a my możemy ich fachowo wspierać.”

5. Jakie rady ma Pan dla firm, które jeszcze nie są pewne siebie w tym zakresie lub są w trakcie zmian? I jak mogą Państwo im pomóc?

Gerhard Koblenzer: „Z mojego doświadczenia wynika, że warto, aby firmy w pierwszym kroku skupiły się głównie na tematach, które dotyczą ich kluczowych kompetencji i które można bezpośrednio wpływać i za nie odpowiadać. Należą do nich między innymi jasno określone wymagania dotyczące czystości, znajomość własnych procesów, w tym stosowanych materiałów pomocniczych i operacyjnych. Równie ważne jest jasne określenie poziomu zanieczyszczeń na wejściu na element przed czyszczeniem. Na tej podstawie można opracować dostosowany plan, najlepiej z udziałem odpowiedzialnych za procesy wstępne i końcowe. Taka koncepcja obejmuje także zdefiniowanie krytycznych punktów styku, na przykład między techniką czyszczenia a kolejnym etapem w czystym pomieszczeniu.”

Panie Koblenzer, dziękuję za rozmowę.

Informacja:
Jak zachować czystość w czystym pomieszczeniu – tak się to robi

W przypadku konieczności nowego projektowania lub dostosowania procesów do wyższego poziomu czystości technicznej, pomocne jest następujące przygotowanie:

1. Określenie specyficznych wymagań dotyczących czystości i wyjaśnienie, kiedy i gdzie są one faktycznie potrzebne.
2. Szkolenie personelu w zakresie nowych zadań i procesów.
3. Wyjaśnienie wpływu procesów poprzedzających na możliwość spełnienia tych wymagań.
4. Sprawdzenie, czy istniejący system czyszczenia jest w stanie bezpiecznie wykonać wymaganą operację czyszczenia.
5. Zapewnienie parametrów środowiskowych, aby zapobiec niepożądanej krzyżowej kontaminacji, także w czystym pomieszczeniu.
6. Kontrola jakości stosowanych mediów (np. wody, powietrza, sprężonego powietrza).
7. Jasne opisanie i wyznaczenie granic interfejsów między procesami wstępnymi a czyszczeniem oraz między czyszczeniem a kolejnym etapem (w razie potrzeby w czystym pomieszczeniu).

Oczywiście, konieczne jest także zapewnienie, że osiągnięta czystość będzie utrzymywana aż do końcowego miejsca użycia, że wczesne wykrycie negatywnych wpływów jest możliwe oraz że wszystkie kluczowe kroki jakościowe będą monitorowane w sposób możliwy do odtworzenia.