Száraz tisztítás a legmagasabb tisztaságért az elektronikagyártásban

A folyamat kialakítása és az optimális folyamatparaméterek meghatározása a saját tisztatéri tesztlaboratóriumban történik. A folyamatmedik - szén-dioxid és sűrített levegő - előkészítése olyan módon történik, hogy biztosítsa a félvezetőgyártásban elvárt levegőminőséget, például. (Kép forrása: acp systems)

A kompakt, rozsdamentes acélból készült JetCell tisztítókabin forgófejekkel a automatizált tisztítási alkalmazásokhoz lett kifejlesztve, és képes nagy felületek gyors tisztítására. Könnyen integrálható összekapcsolt gyártási környezetbe vagy önálló eszközként is működtethető. (Kép forrása: acp systems)

A száraz quattroClean hó-jet technológia biztosítja, hogy a részecskeszennyezettség az ORK 1 szerint ismételten elérhető legyen. Filmes maradványok esetén a tisztítási eredmények megegyeznek más finomszemcsés tisztítási eljárásokkal. (Kép forrása: acp systems) / A száraz quattroClean hó-jet technológia biztosítja, hogy a részecskeszennyezettség az SCC 1 szerint folyamatosan elérhető legyen. Filmes maradványok esetén a tisztítási eredmények megegyeznek más ultrafinom tisztítási folyamatokkal. (Fotó: acp systems)

Az elektronikai gyártásban részben rendkívül megnövekedett műszaki tisztasági követelmények megbízható teljesítéséhez, illetve az már összeszerelt alkatrészek tisztításához hatékony, száraz és tisztatéri megfelelőségű tisztítási megoldásokra, például a quattroClean hó-jet technológiára van szükség. (Kép forrása: acp systems) / Effective, dry and cleanroom-compatible cleaning solutions such as the quattroClean snow jet technology are a must in order to reliably meet the sometimes enormously increased requirements for technical cleanliness in the electronics industry or to clean pre-assembled components. (Photo credit: acp systems)

Az energia, mobilitás vagy ipar – a klímasemleges átállás során az elektronikus alkatrészek és rendszerek kulcsszerepet játszanak. Ezek gyártásánál a nagyobb teljesítménysűrűség és megbízhatóság iránti igények, valamint az új megoldások miatt jelentősen megnövekedtek a technikai tisztaság iránti követelmények. Ezeket a skálázható, tisztatéri és inline-képes quattroClean hólyagsugar-technológiával számos tisztítási alkalmazásban szárazon, folyamatbiztosan és fenntartható módon lehet kielégíteni.

A félvezető- és mikrorendszer-gyártástól kezdve a nyomtatott áramkörök és alkatrészek összeszerelésének technológiáján át a akkumulátorcella- és modulgyártásig, a fotovoltaikus gyártásig, valamint a lézerrel strukturált, szerves elektronika gyártásáig, a technikai tisztaság döntő hatással van az elektronikus alkatrészek és rendszerek teljesítőképességére, funkcionalitására, megbízhatóságára és élettartamára. Ennek mércéje a következő folyamatokra vagy végfelhasználásra szükséges tisztaság, amely stabilan és reprodukálható módon érhető el. A részecskék, filmes és szerves, valamint szervetlen maradvány szennyeződések esetében a tisztítás általában tisztaterekben történik. Az ilyen magas tisztasági feladatokra a megfelelő tisztatéri osztályhoz igazított quattroClean hólyagsugar-technológia bizonyult megoldásnak.

ORK 1 és a legmagasabb filmes tisztasági szintek mérhetően elérhetők

Ez egy száraz tisztítási eljárás, amely teljes felületeken és helyi alkalmazásokban is használható. A tisztítószer folyékony, a kémiai gyártási folyamatokból és biomassza energiatermeléséből újrahasznosított szén-dioxid. Ez egy kopásmentes kétkomponensű gyűrűs permeten keresztül halad, és a kilépéskor finom hókristályokká alakul. Ezeket egy külön, gyűrű alakú nyomású légáramú sugár összegyűjti, és túlhangsúlyozott sebességre gyorsítja. Amikor a jól fókuszált hó-nyomású légáram a tisztítandó felületre érkezik, a hő-, mechanikai, oldószer- és szublimációs hatások kombinációja jön létre, amelyre a tisztítás alapozódik. A kristályos szén-dioxid a folyamat során teljesen szublimál, így a kezelt felületek szárazak maradnak. A leválasztott szennyeződések a folyamatgázzal együtt elszívódnak, így megelőzve a részek újra szennyeződését és a környezet szennyezését. Nincs szükség költséges és energiaigényes öblítő- és szárítási folyamatokra.

Részletes vizsgálatok igazolták, hogy a quattroClean eljárással a részecskés maradvány szennyeződések tekintetében reprodukálhatóan elérhető az VDI 2083, 9.1. lap:2006 szerinti felületi tisztasági osztály (ORK) 1. Emellett a már nedves kémiai finomtisztítási folyamaton átesett alkatrészeknél is elérhető a részecskés tisztaság az ORK 0,1 szintjén. Filmes maradványok esetén a tisztítás eredményei összevethetők más finomtisztítási módszerekkel, például nedves kémiai, plazma- vagy vákuumos hevítési eljárásokkal.

Fenntartható tisztítás Green Screen tanúsítvánnyal rendelkező közeggel

A Linde folyadékgázaival kombinálva a hatékony quattroClean eljárás rendelkezik a Clean Production Action Green Screen tanúsítvánnyal a tisztítószerek és zsírtalanítók számára. Ez a független, non-profit szervezet egy olyan mércét hozott létre, amely kifejezetten a gyártásban, különösen az elektronikai iparban alkalmazott tisztítószerekre vonatkozik. A tanúsítvány igazolja, hogy a folyamatgáz nem tartalmaz olyan vegyi anyagokat, amelyek károsítják az emberi egészséget vagy a természetet.

Tisztatéri megoldások minden alkalmazáshoz

A megfelelő tisztítási megoldás optimális kialakításához az acp systems különféle, szabványosított modulokra épülő berendezéseket és egyedi tervezésű rendszereket kínál. A teljesen rozsdamentes acélból készült megoldások kivitelezése és felszereltsége az adott tisztatéri osztályhoz igazodik. Így például a folyékony szén-dioxidhoz való médiagyártás során a folyadék tisztasága eléri a 99,995 százalékot, a nyomásos levegő előállításánál pedig az ISO 8573-1:2010 szerint az 1.2.1. osztályt. A nyomásos levegő (XCDA) tisztítószereként szükség szerint beépíthető egy gázmosó, amely kiszűri a szerves anyagokat. Az így elért levegőminőség például megfelel a félvezetőgyártás követelményeinek.

Például a kompakt JetCell, forgófejes szórófejekkel, amely a jelenlegi Productronica kiállításon lesz látható. Ez a rugalmas Plug and Play tisztítógép az automatizált tisztításhoz lett kifejlesztve, és könnyen beépíthető sorozatgyártási környezetbe, például közvetlenül egy prés- vagy fröccsöntő gép után, vagy önálló megoldásként is működtethető. Magas tisztítási teljesítményt nyújt minimális közegfelhasználással. A felületi tisztítás során, amely egyszerre történhet felül és alul, a tökéletes folyamatfelügyelet és -ellenőrzés biztosítja, hogy minden alkatrész a korábban validált paraméterekkel kerüljön kezelésre. Integrált interfészek lehetővé teszik a digitálisan irányított tisztítórendszer csatlakoztatását egy felsőbb szintű irányítórendszerhez.

Reinraum-technikum a folyamattervezéshez és -validáláshoz

Az acp systems saját tisztatéri technikumot üzemeltet a folyamattervezéshez. Ez lehetővé teszi a tisztítási próbák elvégzését egy ISO 7-es osztályú validált tisztatérben, ISO 14644-1 szerint zónákra bontva, akár az 5. osztályig. A folyamatparaméterek, mint például a nyomás- és szén-dioxid-áramok, a sugárzó fúvókák száma, a sugárzás területe és időtartama, pontosan igazíthatók az alkalmazáshoz, az anyag tulajdonságaihoz, a leválasztandó szennyeződésekhez és a kívánt tisztasághoz. A mért értékek alapján a rendszerben elmenthetőek a részegység-specifikus tisztítási programok.

A száraz quattroClean hólyagsugar-technológiával olyan tisztítási megoldás áll rendelkezésre, amely különböző feladatokat képes megbízhatóan és hatékonyan ellátni az elektronikai iparban. Egyidejűleg lehetővé teszi az elektronikus, mechanikus, optikai és szenzoros komponensek szükséges tisztaságának energia- és erőforrás-megtakarító előállítását.