Limpieza en seco para la máxima pureza en la fabricación de electrónica

La definición del proceso y la determinación de los parámetros óptimos del proceso se realizan en el propio laboratorio de salas limpias de la empresa. La preparación de los medios del proceso, dióxido de carbono y aire comprimido, garantiza una calidad del aire como la que se exige, por ejemplo, en la producción de semiconductores. (Fuente de la imagen: acp systems) / El proceso se diseña en las propias instalaciones de pruebas en sala limpia de la empresa. Los parámetros óptimos del proceso también se definen aquí. Los medios del proceso, dióxido de carbono y aire comprimido, se preparan de manera que garantizan la calidad del aire requerida por la industria de semiconductores, por ejemplo. (Crédito de la foto: acp systems)

La compacta celda de limpieza JetCell, fabricada en acero inoxidable, con boquillas giratorias, fue diseñada para aplicaciones de limpieza automatizada y permite una alta tasa de limpieza en poco tiempo. Puede integrarse fácilmente en entornos de producción en cadena o funcionar como una solución independiente. (Fuente de la imagen: acp systems) / La celda de limpieza JetCell, compacta y de acero inoxidable, con boquillas giratorias, fue desarrollada para aplicaciones de limpieza automatizada y es capaz de limpiar áreas grandes en un corto período de tiempo. Puede integrarse fácilmente en un entorno de fabricación interconectado o operarse como un dispositivo independiente. (Crédito de la foto: acp systems)

Con la tecnología de chorro de nieve quattroClean en seco, se puede lograr una limpieza particulada conforme a ORK 1 de manera reproducible. En el caso de residuos filmados, los resultados de limpieza son iguales a los que se obtienen con otros procedimientos de limpieza ultrafinos. (Crédito de la imagen: acp systems) / La tecnología de chorro de nieve quattroClean en seco garantiza que se logre una limpieza particulada de acuerdo con SCC 1 de manera constante. En el caso de residuos filmados, los resultados de limpieza corresponden a los logrados con otros procesos de limpieza ultrafinos. (Crédito de la foto: acp systems)

Para cumplir de manera confiable con los requisitos a veces enormemente aumentados de limpieza técnica en la fabricación de electrónica o para limpiar componentes ya montados, son necesarias soluciones de limpieza efectivas, secas y compatibles con salas limpias, como la tecnología de chorro de nieve quattroClean. (Fuente de la imagen: acp systems) / Effective, dry and cleanroom-compatible cleaning solutions such as the quattroClean snow jet technology are a must in order to reliably meet the sometimes enormously increased requirements for technical cleanliness in the electronics industry or to clean pre-assembled components. (Photo credit: acp systems)

Ob energía, movilidad o industria: en la transformación hacia la neutralidad climática, los componentes y sistemas electrónicos desempeñan un papel clave. La fabricación de estos componentes conlleva requisitos cada vez más estrictos en cuanto a densidad de rendimiento y fiabilidad, así como nuevas soluciones que han aumentado enormemente las exigencias en cuanto a limpieza técnica. Estas se pueden cumplir de manera seca, segura para el proceso y sostenible con la tecnología de chorro de nieve quattroClean, que es escalable, apta para salas limpias y compatible con procesos en línea, en una variedad de aplicaciones de limpieza.

Desde la producción de semiconductores y microsistemas, pasando por la tecnología de unión de placas de circuito impreso y tecnología de montaje, hasta la fabricación de celdas y módulos de baterías, la producción de energía fotovoltaica y la electrónica orgánica estructurada con láser, la limpieza técnica tiene una influencia decisiva en la capacidad de rendimiento, funcionalidad, fiabilidad y durabilidad de los componentes y sistemas electrónicos. La norma de referencia es la pureza requerida para los procesos posteriores o la aplicación final, que debe lograrse de manera estable y reproducible. Para garantizar el cumplimiento de los límites extremadamente estrictos en cuanto a contaminantes particulados, residuos orgánicos en película y residuos inorgánicos, la limpieza se realiza habitualmente en salas limpias. Como solución para estos desafíos de alta pureza, se ha establecido la tecnología de chorro de nieve quattroClean de acp systems, adaptada a la clase de sala limpia correspondiente.

Se alcanzan de manera demostrable los niveles de pureza filmica más altos y la clase ORK 1

Se trata de un método de limpieza en seco para aplicaciones tanto en toda la superficie como localizadas. El medio de limpieza es dióxido de carbono líquido, reciclado de procesos químicos de producción y generación de energía a partir de biomasa. Se canaliza a través de un anillo de doble vía sin desgaste y se relaja al salir, formando finos cristales de nieve. Estos son agrupados por un chorro de aire comprimido en forma de anillo y acelerados a velocidad supersónica. Cuando el chorro de nieve enfocado y el aire comprimido impactan en la superficie a limpiar, se produce una combinación de efectos térmicos, mecánicos, solventes y de sublimación, sobre los cuales se basa la acción de limpieza. El dióxido de carbono cristalino se sublima completamente durante el proceso, dejando las superficies tratadas secas. Las contaminaciones eliminadas se aspiran junto con el gas del proceso, evitando así la recontaminación de las piezas y la contaminación del entorno. Se eliminan procesos costosos y energéticamente intensivos de enjuague y secado.

Numerosos estudios han demostrado que el método quattroClean logra de forma reproducible los requisitos de la clase de limpieza de superficie (ORK) 1 según VDI 2083, hoja 9.1:2006 en cuanto a residuos particulados. Además, en componentes ya sometidos a limpieza fina con métodos químicos húmedos, se puede alcanzar una pureza particulada equivalente a ORK 0,1 de manera repetible. En cuanto a residuos en película, los resultados de limpieza son comparables con otros métodos de limpieza fina, como la limpieza química húmeda, la limpieza por plasma y el secado en vacío.

Limpieza sostenible con medio certificado Green Screen

En combinación con el gas de proceso de Linde, el método efectivo quattroClean cuenta con la certificación Green Screen para limpiadores y desengrasantes de Clean Production Action. Esta organización independiente sin fines de lucro ha establecido un estándar específico para los medios de limpieza utilizados como productos químicos en la fabricación, especialmente en la industria electrónica. La certificación confirma que el gas de proceso no contiene sustancias químicas que puedan dañar a las personas o al medio ambiente.

Soluciones de limpieza aptas para salas limpias para cada aplicación

Para adaptar de manera óptima la solución de limpieza a los requisitos y la situación de producción, acp systems ofrece diferentes instalaciones basadas en módulos estandarizados y sistemas diseñados a medida. La ejecución y el equipamiento de las soluciones, fabricadas completamente en acero inoxidable, se ajustan a la clase de sala limpia correspondiente. Así, en el tratamiento de medios para dióxido de carbono líquido se puede garantizar una pureza del 99,995 por ciento del medio de proceso, y en el tratamiento de aire comprimido, la calidad 1.2.1 según ISO 8573-1:2010. En el suministro de medios puros para aire comprimido (XCDA), se puede integrar un depurador de gases que filtra trazas de sustancias orgánicas. La calidad del aire así generada cumple, por ejemplo, con los requisitos de la producción de semiconductores.

Un ejemplo es la compacta JetCell con boquillas rotativas, que se presentará en la feria Productronica de este año. La célula de limpieza plug and play, desarrollada para limpieza automatizada, puede integrarse fácilmente en entornos de producción en línea, por ejemplo, justo después de una máquina de punzonado o moldeo por inyección, o funcionar como solución independiente. Destaca por su alta capacidad de limpieza con consumo mínimo de medios. Durante la limpieza de superficies, que puede realizarse desde arriba y desde abajo simultáneamente, una supervisión y control del proceso sin fisuras garantiza que cada pieza se trate con los parámetros validados previamente. Las interfaces integradas permiten conectar el sistema de limpieza digitalmente controlado a un sistema maestro de control.

Laboratorio de salas limpias para diseño y validación de procesos

Para el diseño de procesos, acp systems dispone de un propio laboratorio en sala limpia. Permite realizar pruebas de limpieza en una sala limpia validada de clase ISO 7, con zonas hasta la clase 5 según ISO 14644-1. Se ajustan con precisión los parámetros del proceso, como los caudales de aire comprimido y dióxido de carbono, el número de boquillas de chorro, el área y el tiempo de chorro, según la aplicación, las propiedades del material, las contaminaciones a eliminar y la pureza requerida. Los valores obtenidos pueden almacenarse como programas de limpieza específicos para cada pieza en el sistema de control de la planta.

Con la tecnología de chorro de nieve en seco quattroClean, se dispone de una solución de limpieza que permite cumplir de manera segura y eficiente con una amplia variedad de tareas en la industria electrónica. Al mismo tiempo, el método facilita la generación de la limpieza necesaria en componentes electrónicos, mecánicos, ópticos y sensoriales, ahorrando energía y recursos.